公开(公告)号：IN6645DEN2014A

公开(公告)日：2015-05-22

申请号：IN6645DEN2014

申请日：2014-08-07

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： BATARD ALAIN ,  GACOIN ERIC ,  SAULNY JONATHAN ,  STEPHANE JEAN

IPC: B24B13/06

Abstract: Polishing method comprising a step of receiving a surface to be polished a configuration step during which the polishing machine is configured and a polishing step during which the optical surface is polished wherein the angle of inclination of the pin is between 2° and 20° the inner cusp point is between 10 mm and 10 mm the outer cusp point is between R 15mm and R 5mm the speed of advance is between 100 mm/min and 2000 mm/min; the speed of rotation is between 500 rpm and 3000 rpm; and the bearing force is between 50 N and 180 N.

公开(公告)号：FR3059921A1

公开(公告)日：2018-06-15

申请号：FR1662259

申请日：2016-12-09

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： GACOIN ERIC ,  KRESS PIERRE ,  STEPHANE JEAN ,  SAULNY JONATHAN

IPC: B24B7/24

Abstract: L'outil comporte une embase (11) comportant un support rigide (12) et une collerette flexible (13) entourant ledit support rigide (12) ; une interface élastiquement compressible (16) ; et un tampon flexible (20) comportant une partie centrale (24) qui se trouve au droit du support rigide (12) et une partie périphérique (25) qui se trouve transversalement au-delà. Cette partie périphérique (25) est raccordée au support (12) exclusivement par ladite interface (16) et par ladite collerette (13), laquelle collerette (13) est configurée pour que l'outil (10) soit déformable élastiquement entre une position de repos qu'il prend en l'absence de sollicitation et une position de référence où la seconde surface transversale d'extrémité (22) du tampon flexible (20) est plaquée contre une surface de référence (40) qui est sphérique à rayon compris entre 40 mm et 1500 mm.

公开(公告)号：FR3059921B1

公开(公告)日：2019-05-24

申请号：FR1662259

申请日：2016-12-09

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： GACOIN ERIC ,  KRESS PIERRE ,  STEPHANE JEAN ,  SAULNY JONATHAN

IPC: B24B7/24

Abstract: L'outil comporte une embase (11) comportant un support rigide (12) et une collerette flexible (13) entourant ledit support rigide (12) ; une interface élastiquement compressible (16) ; et un tampon flexible (20) comportant une partie centrale (24) qui se trouve au droit du support rigide (12) et une partie périphérique (25) qui se trouve transversalement au-delà. Cette partie périphérique (25) est raccordée au support (12) exclusivement par ladite interface (16) et par ladite collerette (13), laquelle collerette (13) est configurée pour que l'outil (10) soit déformable élastiquement entre une position de repos qu'il prend en l'absence de sollicitation et une position de référence où la seconde surface transversale d'extrémité (22) du tampon flexible (20) est plaquée contre une surface de référence (40) qui est sphérique à rayon compris entre 40 mm et 1500 mm.

公开(公告)号：FR2987771B1

公开(公告)日：2014-04-25

申请号：FR1252060

申请日：2012-03-07

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： BATARD ALAIN ,  GACOIN ERIC ,  SAULNY JONATHAN ,  STEPHANE JEAN

IPC: B24B13/06

公开(公告)号：BR112018006123B1

公开(公告)日：2022-04-05

申请号：BR112018006123

申请日：2016-09-27

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： GACOIN ERIC ,  MARCHAL JEANNE ,  SAULNY JONATHAN ,  MANUELA DE SOUSA ,  FELTEN YOHANN

IPC: G02B1/04 ,  B29D11/00

Abstract: lente de óculos fornecida em uma forma adequada para laminação simultânea e dispositivo óptico

公开(公告)号：FR2987771A1

公开(公告)日：2013-09-13

申请号：FR1252060

申请日：2012-03-07

Applicant: ESSILOR INT

Inventor： BATARD ALAIN ,  GACOIN ERIC ,  SAULNY JONATHAN ,  STEPHANE JEAN

IPC: B24B13/06

Abstract: Procédé de polissage comprenant une étape de réception d'une surface à polir, une étape de configuration, au cours de laquelle la machine de polissage est configurée, une étape de polissage au cours de laquelle la surface optique est polie, dans lequel l'angle d'inclinaison de la broche est compris entre 2° et 20°, le point de rebroussement intérieur est compris entre -10 mm et 10 mm, le point de rebroussement extérieur est compris entre R-15mm et R-5mm, la vitesse d'avance est comprise entre 100 mm/min et 2 000 mm/min; la vitesse de rotation est comprise entre 500 rpm et 3 000 rpm; et la force d'appui est comprise entre 50 N et 180 N.