公开(公告)号：CN101858821A

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200910260522.4

申请日：2009-12-11

Applicant: FEI公司

Inventor： B·里格 ,  M·范德斯塔姆

IPC: G01M11/02

CPC classification number: G06T5/006 ,  G06T5/50 ,  G06T2207/10056 ,  G06T2207/20021 ,  H01J37/222 ,  H01J37/26 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/2823 ,  H01J2237/2826

Abstract: 本发明涉及一种确定TEM的投影系统中的畸变的方法，以及一种用于校正这些像差的方法。所述像差是通过收集样品的大量的像进行确定的，所述样品在每一次像的获取之间被稍微移动。在这些像上将显示样品相同部分的子场(303，304-i)进行比较。这些子场(303，304-i)将显示一些对应于微分像差的小的差别。这样能够确定在大量的点中的所述微分像差，此后通过积分能够确定每一个点的像差。最后对像中每一个被探测像素的要被显示的位置进行校正，显示的像具有大大降低的像差。根据本发明的方法的优点在于不需要样品的高精度步长，也不需要知道样品的几何形状。

公开(公告)号：CN101858821B

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN200910260522.4

申请日：2009-12-11

Applicant: FEI公司

Inventor： B·里格 ,  M·范德斯塔姆

IPC: G01M11/02

CPC classification number: G06T5/006 ,  G06T5/50 ,  G06T2207/10056 ,  G06T2207/20021 ,  H01J37/222 ,  H01J37/26 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/2823 ,  H01J2237/2826

Abstract: 本发明涉及一种确定TEM的投影系统中的畸变的方法，以及一种用于校正这些像差的方法。所述像差是通过收集样品的大量的像进行确定的，所述样品在每一次像的获取之间被稍微移动。在这些像上将显示样品相同部分的子场(303，304-i)进行比较。这些子场(303，304-i)将显示一些对应于微分像差的小的差别。这样能够确定在大量的点中的所述微分像差，此后通过积分能够确定每一个点的像差。最后对像中每一个被探测像素的要被显示的位置进行校正，显示的像具有大大降低的像差。根据本发明的方法的优点在于不需要样品的高精度步长，也不需要知道样品的几何形状。