公开(公告)号：CN104508791A

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN201380040374.X

申请日：2013-07-30

Applicant: FEI公司

Inventor： M.卡斯塔纳 ,  C.D.钱德勒 ,  W.库罗夫斯基 ,  D.W.小菲弗

IPC: H01J37/26

CPC classification number: H01J37/26 ,  H01J37/18 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0044 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/24445

Abstract: 一种气体喷射系统提供了样品表面处的局部区域，其具有足够的气体浓度来由次级电子电离以中和样品表面上的电荷。在一些实施例中，气体集中结构将气体集中在表面附近。气体集中结构中的可选的孔允许带电粒子束冲击护罩区域的内部。在一些实施例中，表面附近的阳极增大返回至工件表面用于电荷中和的离子的数量，阳极在一些实施例中为气体喷射系统的一部分，而在一些实施例中为单独的结构。