公开(公告)号：KR20200139808A

公开(公告)日：2020-12-14

申请号：KR20207032254

申请日：2019-05-15

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： ASAKAWA DAISUKE ,  GOTO AKIYOSHI ,  KOJIMA MASAFUMI ,  KAWASHIMA TAKASHI ,  OISHI YASUFUMI ,  KATO KEITA

IPC: G03F7/004 ,  C08F26/06 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 노광래티튜드가우수한감활성광선성또는감방사선성수지조성물을제공한다. 또, 상기감활성광선성또는감방사선성수지조성물을이용한레지스트막, 패턴형성방법, 및전자디바이스의제조방법을제공한다. 또, 신규수지를제공한다. 감활성광선성또는감방사선성수지조성물은, 하기식 (1)로나타나는반복단위를포함하고, 산의작용에의하여극성이증대하는수지를포함한다. JPEGpct00068.jpg3961