公开(公告)号：WO2006036433A3

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：PCT/US2005030880

申请日：2005-08-30

Applicant: HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO ,  WU WEI ,  TONG WILLIAM M ,  GAO JUN ,  PICCIOTTO CARL E

Inventor： WU WEI ,  TONG WILLIAM M ,  GAO JUN ,  PICCIOTTO CARL E

IPC: G03F7/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: An imprint apparatus (100, 100', 200, 220) and method 300 employ an effective pressure P eff in imprint lithography. The imprint apparatus (100, 100', 200, 220) includes a compressible chamber (111) that encloses an imprint mold (120, 228a) having a mold pattern (122) and a sample (130, 228b) to be imprinted (300). The chamber (111) is compressed (330, 340, 350) to imprint (360) the mold pattern (122) on the sample (130, 228b). The mold (120, 228a) is pressed (350) against the sample (130, 228b) with the effective pressure P eff . The effective pressure P eff is controlled by a selected ratio A cavity /A contact of a cavity area A cavity of the chamber (111) to a contact area A contact between the mold (120, 228a) and the sample (130, 228b).

Abstract translation: 压印装置（100,100'，200,220）和方法300在压印光刻中采用有效压力P eff。 压印装置（100,100'，200,220）包括可压缩室（111），其包围具有模具图案（122）和要印刷的样品（130,228b）的压印模具（120,228a）（300 ）。 腔室（111）被压缩（330,340,350）以在样品（130,228b）上印模（360）模具图案（122）。 模具（120,228a）以有效压力P eff被压制（350）抵靠样品（130,228b）。 有效压力P eff通过空腔区域A腔的选定比例A / A 来控制， （111）的位置与模具（120,228a）和样品（130,228b）之间的接触区域A _接触。

公开(公告)号：EP2361438A4

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：EP08877855

申请日：2008-10-29

Applicant: HEWLETT PACKARD DEVELOPMENT CO

Inventor： YANG JIANHUA ,  STEWART DUNCAN ,  KUEKES PHILIP J ,  TONG WILLIAM M

IPC: H01L21/225 ,  H01L27/10 ,  H01L45/00

CPC classification number: H01L27/10 ,  H01L21/2254 ,  H01L27/2463 ,  H01L45/08 ,  H01L45/1233 ,  H01L45/145 ,  H01L45/146 ,  H01L45/1625 ,  H01L45/1658 ,  H01L45/1675