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公开(公告)号：CN113767332A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202080031051.4
申请日：2020-06-18
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供用于制造能够在包含氢气的气体氛围中进行了EUV曝光的情况下抑制吸收体图案剥离的反射型掩模的反射型掩模坯料。所述反射型掩模坯料具备基板、基板上的多层反射膜、以及多层反射膜上的吸收体膜，上述吸收体膜包含吸收层及反射率调整层，上述吸收层含有钽(Ta)、硼(B)及氮(N)，并且含有选自氢(H)及氘(D)中的至少1种添加元素，上述吸收层的上述硼(B)的含量超过5原子％，上述吸收层的上述添加元素的含量为0.1原子％以上且30原子％以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111752085A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN202010221959.3
申请日：2020-03-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种带多层反射膜的基板，其用于制造具有对曝光光的反射率高、且在缺陷检查时的背景水平低的多层反射膜的反射型掩模坯料及反射型掩模。为此，本发明的带多层反射膜的基板具备用于反射曝光光的多层反射膜，该多层反射膜由在该基板上交替层叠有低折射率层和高折射率层的多层膜构成，上述多层反射膜含有钼(Mo)、和选自氮(N)、硼(B)、碳(C)、锆(Zr)、氧(O)、氢(H)及氘(D)中的至少1种添加元素，由基于X射线衍射得到的Mo(110)的衍射峰计算出的上述多层反射膜的雏晶尺寸为2.5nm以下。
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公开(公告)号：CN111752085B
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202010221959.3
申请日：2020-03-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种带多层反射膜的基板，其用于制造具有对曝光光的反射率高、且在缺陷检查时的背景水平低的多层反射膜的反射型掩模坯料及反射型掩模。为此，本发明的带多层反射膜的基板具备用于反射曝光光的多层反射膜，该多层反射膜由在该基板上交替层叠有低折射率层和高折射率层的多层膜构成，上述多层反射膜含有钼(Mo)、和选自氮(N)、硼(B)、碳(C)、锆(Zr)、氧(O)、氢(H)及氘(D)中的至少1种添加元素，由基于X射线衍射得到的Mo(110)的衍射峰计算出的上述多层反射膜的雏晶尺寸为2.5nm以下。
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公开(公告)号：CN114424119A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202080066022.1
申请日：2020-09-23
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 中川真德
Abstract: 本发明提供带多层反射膜的基板，其用于制造具有对曝光光的反射率高、且缺陷检查时的背景水平低的多层反射膜的反射型掩模坯料及反射型掩模。带多层反射膜的基板(110)具备基板(1)和多层反射膜(5)。多层反射膜(5)在基板(1)上由交替层叠低折射率层和高折射率层而成的多层膜形成。多层反射膜(5)含有选自氢(H)、氘(D)及氦(He)中的至少一种添加元素。添加元素在多层反射膜(5)中的原子数密度为0.006atom/nm3以上且0.50atom/nm3以下。
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公开(公告)号：CN113767332B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202080031051.4
申请日：2020-06-18
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供用于制造能够在包含氢气的气体氛围中进行了EUV曝光的情况下抑制吸收体图案剥离的反射型掩模的反射型掩模坯料。所述反射型掩模坯料具备基板、基板上的多层反射膜、以及多层反射膜上的吸收体膜，上述吸收体膜包含吸收层及反射率调整层，上述吸收层含有钽(Ta)、硼(B)及氮(N)，并且含有选自氢(H)及氘(D)中的至少1种添加元素，上述吸收层的上述硼(B)的含量超过5原子％，上述吸收层的上述添加元素的含量为0.1原子％以上且30原子％以下。
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公开(公告)号：CN118567174A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410708342.2
申请日：2020-03-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种带多层反射膜的基板，其用于制造具有对曝光光的反射率高、且在缺陷检查时的背景水平低的多层反射膜的反射型掩模坯料及反射型掩模。为此，本发明的带多层反射膜的基板具备用于反射曝光光的多层反射膜，该多层反射膜由在该基板上交替层叠有低折射率层和高折射率层的多层膜构成，上述多层反射膜含有钼(Mo)、和选自氮(N)、硼(B)、碳(C)、锆(Zr)、氧(O)、氢(H)及氘(D)中的至少1种添加元素，由基于X射线衍射得到的Mo(110)的衍射峰计算出的上述多层反射膜的雏晶尺寸为2.5nm以下。
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