公开(公告)号：CN101545990A

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200910127056.2

申请日：2009-03-23

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 铃木峰太 ,  塩川孝绅 ,  山田和广 ,  中山宽之 ,  山口日出树 ,  丸田彩子

IPC: G02B1/11 ,  C01B33/14 ,  C03C17/23 ,  G02B3/00 ,  G11B7/135

CPC classification number: G02B1/113 ,  C03C1/008 ,  C03C17/3452 ,  C03C17/3482 ,  C03C2217/734 ,  C03C2217/78 ,  C03C2218/111 ,  C03C2218/113 ,  C08L83/02 ,  C09D183/02 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/1295 ,  G02B2207/109 ,  C08L83/00

Abstract: 本发明涉及一种在基材上形成碱处理的二氧化硅气凝胶的减反射膜的方法，该方法包含如下步骤：在碱催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶，将酸催化剂加入所述碱性溶胶以进行进一步的水解和聚合从而制备第一酸性溶胶，在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶，混合第一和第二酸性溶胶，将所得混合溶胶施用至基材，将其干燥，并用碱处理所得二氧化硅气凝胶涂层。本发明还涉及包含这种减反射膜的光学元件。

公开(公告)号：CN101376501A

公开(公告)日：2009-03-04

申请号：CN200810210556.8

申请日：2008-08-27

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 铃木峰太 ,  盐川孝绅 ,  山田和广 ,  中山宽之 ,  山口日出树 ,  丸田彩子

IPC: C01B33/14 ,  C03C17/23 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11

CPC classification number: B05D3/04 ,  C01B33/148 ,  C01B33/1585 ,  C09D5/00 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  G02B1/111 ,  G02B2207/107 ,  G02B2207/109 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/31667

Abstract: 本发明涉及二氧化硅气凝胶薄膜的制备方法、减反射涂层和光学元件，其中所述制备方法包括如下步骤：在碱催化剂存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶，向碱性溶胶中加入酸催化剂从而进行进一步的水解和聚合以制备第一酸性溶胶，在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶，将第一和第二酸性溶胶的混合物施用于基材上，并对其进行干燥。