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公开(公告)号：CN101157074B
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN200710163054.X
申请日：2007-09-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 在光碟读取透镜(具有：有曲面的光学有效部和光学有效部外周的凸缘部)的光学有效部上形成光膜的装置，具有：固定光碟读取透镜并自由旋转的夹具、旋转夹具的组件、支持夹具自由旋转的盒体、将含有光膜成分的涂布液向光碟读取透镜喷雾或者滴下的喷嘴；夹具具有：光碟读取透镜的圆柱状台座和圆筒状外壳；圆筒状外壳具有：从圆筒部的上端向内侧方向突出的耳片，固定凸缘部；以8000rpm以上的旋转速度及50μm以下的旋转轴线晃动量旋转夹具，同时将涂布液向光学衬底喷雾或滴下的装置。
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公开(公告)号：CN101376501A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810210556.8
申请日：2008-08-27
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: B05D3/04 , C01B33/148 , C01B33/1585 , C09D5/00 , C09D183/02 , C09D183/04 , G02B1/111 , G02B2207/107 , G02B2207/109 , Y10T428/31507 , Y10T428/31667
Abstract: 本发明涉及二氧化硅气凝胶薄膜的制备方法、减反射涂层和光学元件，其中所述制备方法包括如下步骤：在碱催化剂存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶，向碱性溶胶中加入酸催化剂从而进行进一步的水解和聚合以制备第一酸性溶胶，在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶，将第一和第二酸性溶胶的混合物施用于基材上，并对其进行干燥。
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公开(公告)号：CN101424749A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200810167308.X
申请日：2008-10-10
CPC classification number: B29D11/00865 , G02B1/105 , G02B1/113 , G02B1/14
Abstract: 一种光学薄膜的形成方法，该方法包括如下步骤：在光学构件的表面上形成主要由无机金属氧化物组成的精细结构层，然后通过液相沉积法形成无机硬层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101639542A
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200910151442.5
申请日：2009-07-17
CPC classification number: G02B1/115 , Y10T428/249986
Abstract: 本发明涉及层压在基材上的防反射涂层，其中在400-700纳米的波长范围内，所述基材具有1.45-1.72的折射率，第1层基于氧化铝，第2至第6层为折射率分别为1.95-2.23、1.33-1.50、2.04-2.24、1.33-1.50和1.85-2.40的致密层，第7层由纳米尺寸的中孔二氧化硅粒子组成，且第1至第7层分别具有25.0-250.0纳米、27.5-52.5纳米、37.5-54.0纳米、45.0-62.5纳米、77.5-102.5纳米、16.0-26.5纳米和112.5-162.5纳米的光学厚度。本发明还涉及包含所述防反射涂层的光学元件，以及包含所述光学元件的交换透镜单元和成像装置。
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公开(公告)号：CN101526633A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200910118112.6
申请日：2009-03-02
CPC classification number: G02B1/11 , C23C18/1212 , C23C18/122 , C23C18/1245 , C23C18/1254 , C23C18/1283 , G02B2207/107 , Y10T428/249953 , Y10T428/249987 , Y10T428/259
Abstract: 本发明公开了一种防反射涂层及其制备方法，所述防反射涂层包括形成在基材上或在基材上形成的致密层上的由中孔二氧化硅纳米粒子组成的中孔二氧化硅涂层，所述中孔二氧化硅涂层具有大于1.10并且小于或者等于1.35的折射率。
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公开(公告)号：CN101545990A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910127056.2
申请日：2009-03-23
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G02B1/113 , C03C1/008 , C03C17/3452 , C03C17/3482 , C03C2217/734 , C03C2217/78 , C03C2218/111 , C03C2218/113 , C08L83/02 , C09D183/02 , C23C18/1212 , C23C18/1245 , C23C18/1295 , G02B2207/109 , C08L83/00
Abstract: 本发明涉及一种在基材上形成碱处理的二氧化硅气凝胶的减反射膜的方法，该方法包含如下步骤：在碱催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶，将酸催化剂加入所述碱性溶胶以进行进一步的水解和聚合从而制备第一酸性溶胶，在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶，混合第一和第二酸性溶胶，将所得混合溶胶施用至基材，将其干燥，并用碱处理所得二氧化硅气凝胶涂层。本发明还涉及包含这种减反射膜的光学元件。
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公开(公告)号：CN101520520A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200910009443.6
申请日：2009-02-24
Applicant: HOYA株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , G02B2207/107
Abstract: 本发明涉及增透膜、光学部件、交换透镜单元和成像装置。本发明涉及一种包含在基材上按顺序形成的第1至第7层的增透膜，所述第1层为氧化铝基层，所述第7层为多孔二氧化硅基层，且第1至第7层的每一层在400－700纳米的波长范围内具有预定的折射率和光学厚度。
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公开(公告)号：CN101470218A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200810187335.3
申请日：2008-12-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 抗反射膜及具有该膜的光学部件、可交换镜头和摄像装置。本发明是一种抗反射膜，由在基板上依次形成的第1层～第7层构成，第1层是以氧化铝为主成分的层，第7层是以氧化硅为主成分的多孔层，并且在波长范围400～700nm中，第1层～第7层具有规定的折射率和光学膜厚。
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