公开(公告)号：WO2007114332A1

公开(公告)日：2007-10-11

申请号：PCT/JP2007/057087

申请日：2007-03-30

Applicant: HOYA株式会社 ,  ホーヤ マグネティクス シンガポール プライベートリミテッド ,  小林 巧

Inventor： 小林 巧

IPC: G05B19/418 ,  C23C14/00 ,  C23C14/22 ,  C23C14/34 ,  C23C14/54 ,  G11B5/851

CPC classification number: G05B19/41875 ,  C23C14/34 ,  C23C14/54 ,  G11B5/85 ,  G11B5/851 ,  Y02P90/22

Abstract: 同一の工程処理をサイクル毎に繰り返し行う処理装置（磁気ディスク製造用のスパッタリング装置など）１１と、処理装置における処理条件の生データ（放電条件など）を収集するサンプリングユニット３０と、前記生データを受け取り、生データを一定のルールに基づいて演算してサイクル毎の特徴点を表現する要約データ（特性値：例えば平均値、最大値、最小値、標準偏差、放電時間など）として加工する演算部１００と、その加工した要約データを記憶手段に保存するデータ保存ユニット４０と、記憶手段に保存された要約データをチャート表示する表示・出力ユニット５０とを備える。

Abstract translation: 处理数据管理系统包括：用于对每个周期重复相同处理的处理装置（11）（诸如用于制造磁盘的溅射装置）; 采样单元（30），用于在处理装置中的处理状态（诸如放电条件）中收集原始数据; 计算单元（100），用于接收原始数据，根据预定规则计算原始数据，并将其作为表示每个周期的特征点的汇总数据处理（特征值：例如，平均值，最大值，最小值 ，标准偏差，放电时间等）; 数据存储单元，用于将处理的概要数据存储在存储装置中; 以及显示/输出单元（50），用于图形显示存储在存储装置中的摘要数据。

公开(公告)号：JP6815995B2

公开(公告)日：2021-01-20

申请号：JP2017525171

申请日：2016-06-08

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 小林 巧 ,  浜本 和宏 ,  淺川 竜男 ,  笑喜 勉

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/24

公开(公告)号：JPWO2016204051A1

公开(公告)日：2018-04-05

申请号：JP2017525171

申请日：2016-06-08

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 小林 巧 ,  浜本 和宏 ,  淺川 竜男 ,  笑喜 勉

IPC: G03F1/24 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/24 ,  G03F1/40

Abstract: パターン転写の際の反射型マスクの位置ずれを防止することができる反射型マスクを製造するための導電膜付き基板を得る。リソグラフィーに使用されるマスクブランク用基板の主表面上の一方の表面に、導電膜が形成された導電膜付き基板であって、前記導電膜表面の静摩擦係数が0.25以上であることを特徴とする導電膜付き基板である。

公开(公告)号：JP2021015295A

公开(公告)日：2021-02-12

申请号：JP2020182324

申请日：2020-10-30

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 小林 巧 ,  浜本 和宏 ,  淺川 竜男 ,  笑喜 勉

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/24

Abstract: 【課題】 パターン転写の際の反射型マスクの位置ずれを防止することができる反射型マスクを製造するための導電膜付き基板を得る。 【解決手段】 リソグラフィーに使用されるマスクブランク用基板の主表面上の一方の表面に、導電膜が形成された導電膜付き基板であって、前記導電膜表面の静摩擦係数が0.25以上であることを特徴とする導電膜付き基板である。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP6073624B2

公开(公告)日：2017-02-01

申请号：JP2012216622

申请日：2012-09-28

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 小林 巧 ,  西村 法一 ,  田中 祐輔 ,  山本 英明 ,  諸石 圭二

IPC: C23C14/06 ,  B29C33/38 ,  B29C33/56 ,  B29C43/36 ,  G02B3/00 ,  C03B40/00 ,  C03B11/00