Patent search ap:("HOYA株式会社") AND inv:"浜本和宏" Page 1

1.

发明专利
多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法有权

公开(公告)号：JP6713251B2

公开(公告)日：2020-06-24

申请号：JP2015068340

申请日：2015-03-30

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 笑喜勉 , 浜本和宏 , 池邊洋平

IPC: G03F1/24 , G03F1/84 , G03F1/44

2.

发明专利
マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、透過型マスクブランク、及び透過型マスク、並びに半導体装置の製造方法有权

公开(公告)号：JP6574034B2

公开(公告)日：2019-09-11

申请号：JP2018161019

申请日：2018-08-30

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 浜本和宏 , 折原敏彦 , 小坂井弘文 , 臼井洋一 , 笑喜勉 , 堀川順一

IPC: G03F1/60 , G03F1/84 , C03C15/00 , C03C17/40 , C03C17/36 , C03C17/34 , C23C14/46 , C23C14/06 , G03F1/24

3.

发明专利
マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法有权

公开(公告)号：JP6515235B2

公开(公告)日：2019-05-15

申请号：JP2018103326

申请日：2018-05-30

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 浜本和宏 , 折原敏彦

IPC: G03F1/50 , G03F1/24

4.

发明专利
EUVリソグラフィー用多層反射膜付き基板及びEUVリソグラフィー用反射型マスクブランク、並びにEUVリソグラフィー用反射型マスク及び半導体装置の製造方法审中-公开

公开(公告)号：JP6401341B2

公开(公告)日：2018-10-10

申请号：JP2017112272

申请日：2017-06-07

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 笑喜勉 , 淺川竜男 , 浜本和宏

IPC: G03F1/60 , G03F7/20 , G03F1/38 , G03F1/24

5.

发明专利
反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法有权

公开(公告)号：JP6184026B2

公开(公告)日：2017-08-23

申请号：JP2014528128

申请日：2013-07-27

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 浜本和宏 , 淺川竜男 , 丸山修 , 笑喜勉

IPC: G03F1/24

CPC classification number: G03F1/24 , G03F1/48

6.

发明专利
導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法有权
Title translation: 导电膜的基体，多层反射膜涂覆基板，反射型掩模基板和反射型掩模和制造半导体器件的方法

公开(公告)号：JP5729847B2

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：JP2014194957

申请日：2014-09-25

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 浜本和宏 , 臼井洋一

IPC: G03F1/24 , G03F1/60 , G03F1/80 , G03F1/84 , H01L21/027

CPC classification number: G03F1/24 , B32B7/02 , G03F1/38 , G03F7/20 , B32B2307/416 , B32B2551/00

7.

发明专利
導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法有权

公开(公告)号：JP6815995B2

公开(公告)日：2021-01-20

申请号：JP2017525171

申请日：2016-06-08

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 小林巧 , 浜本和宏 , 淺川竜男 , 笑喜勉

IPC: G03F7/20 , G03F1/24

8.

发明专利
導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法有权

公开(公告)号：JP6465720B2

公开(公告)日：2019-02-06

申请号：JP2015076651

申请日：2015-04-03

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 浜本和宏 , 臼井洋一

IPC: G03F1/24

9.

发明专利
反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク及び半導体装置の製造方法有权

公开(公告)号：JP6388841B2

公开(公告)日：2018-09-12

申请号：JP2015052132

申请日：2015-03-16

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 浜本和宏 , 淺川竜男 , 笑喜勉

IPC: G03F1/24

CPC classification number: G03F1/24 , G03F7/2004

10.

发明专利
EUVリソグラフィー用多層反射膜付き基板及びEUVリソグラフィー用反射型マスクブランク、並びにEUVリソグラフィー用反射型マスク及び半導体装置の製造方法有权

公开(公告)号：JP6157874B2

公开(公告)日：2017-07-05

申请号：JP2013035705

申请日：2013-02-26

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 笑喜勉 , 淺川竜男 , 浜本和宏

IPC: G03F1/24 , G02B5/08 , G03F7/20

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