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1.发明授权Cathode sputtering apparatus including precision temperature control of substrate 失效阴极溅射装置，包括基板的精密温度控制
公开(公告)号：US3369989A
公开(公告)日：1968-02-20
申请号：US38435664
申请日：1964-07-22
Applicant: IBM
Inventor： ERIC KAY , POENISCH ARTHUR P
CPC classification number: C23C14/541 , H01J37/34
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公开(公告)号：US3325394A
公开(公告)日：1967-06-13
申请号：US57487066
申请日：1966-08-22
Applicant: IBM
Inventor： ERIC KAY , POENISCH ARTHUR P
CPC classification number: H01J37/3402 , C23C14/35
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公开(公告)号：US3282815A
公开(公告)日：1966-11-01
申请号：US29173663
申请日：1963-07-01
Applicant: IBM
Inventor： ERIC KAY , POENISCH ARTHUR P
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/28 , H01J37/3402 , Y10S422/906
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公开(公告)号：CA785269A
公开(公告)日：1968-05-14
申请号：CA785269D
Applicant: IBM
Inventor： KAY ERIC , POENISCH ARTHUR P
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