公开(公告)号：DE112018000937B4

公开(公告)日：2020-03-19

申请号：DE112018000937

申请日：2018-05-10

Applicant: IBM

Inventor： TROMP RUDOLF MARIA

IPC: H01J37/05

Abstract: Verfahren zum Messen eines Abbildungsfehlers eines Elektronenmikroskops, das aufweist:Filtern eines Elektronenstrahls des Elektronenmikroskops in einer Beugungsebene des Elektronenmikroskops, um Elektronen mit einer ersten ausgewählten Energie und einem ersten ausgewählten Impuls mithilfe einer innerhalb der Beugungsebene bewegbaren Blende in einer ersten Position hindurchgehen zu lassen;Messen einer ersten gemessenen Verschiebung eines ersten Bildes der hindurchgelassenen Elektronen in einer Bildebene des Elektronenmikroskops in der ersten Position;Filtern des Elektronenstrahls des Elektronenmikroskops in einer Beugungsebene des Elektronenmikroskops, um Elektronen mit einer zweiten ausgewählten Energie und einem zweiten ausgewählten Impuls mithilfe der innerhalb der Beugungsebene bewegbaren Blende in einer zweiten Position hindurchgehen zu lassen;Messen einer zweiten gemessenen Verschiebung eines zweiten Bildes der hindurchgelassenen Elektronen in einer Bildebene des Elektronenmikroskops in der zweiten Position;Ermitteln eines Abbildungsfehlerkoeffizienten des Elektronenmikroskops anhand der ersten gemessenen Verschiebung und mindestens der ersten ausgewählten Energie oder des ersten ausgewählten Impulses der hindurchgelassenen Elektronen und der zweiten gemessenen Verschiebung und mindestens der zweiten ausgewählten Energie oder des zweiten ausgewählten Impulses der hindurchgelassenen Elektronen; undÄndern eines Parameters des Elektronenmikroskops, um den Abbildungsfehler des Elektronenmikroskops mindestens teilweise auf Grundlage des ermittelten Abbildungsfehlerkoeffizienten zu steuern.

公开(公告)号：DE112018000272T5

公开(公告)日：2019-09-12

申请号：DE112018000272

申请日：2018-02-27

Applicant: IBM

Inventor： GOKMEN TAYFUN ,  TROMP RUDOLF MARIA

IPC: G06N3/08

Abstract: Eine Technik bezieht sich auf eine Anordnung von resistiven Verarbeitungseinheiten (RPUs). Ein Satz von leitfähigen Spaltendrähten ist so konfiguriert, dass er Kreuzungspunkte an Schnittpunkten zwischen dem Satz von leitfähigen Zeilendrähten und dem Satz von leitfähigen Spaltendrähten bildet. RPUs mit zwei Anschlüssen sind so hysteretisch, dass die RPUs mit zwei Anschlüssen jeweils einen durch Hysterese definierten Leitwertzustand aufweisen, wobei sich eine RPU mit zwei Anschlüssen der RPUs mit zwei Anschlüssen an jedem der Mehrzahl von Kreuzungspunkten befindet.

公开(公告)号：DE112018000937T5

公开(公告)日：2019-11-07

申请号：DE112018000937

申请日：2018-05-10

Applicant: IBM

Inventor： TROMP RUDOLF MARIA

IPC: H01J37/05

Abstract: Ein Elektronenmikroskopsystem und ein Verfahren zum Messen eines Abbildungsfehlers des Elektronenmikroskopsystems werden offenbart. Eine Blende filtert einen Elektronenstrahl in einer Beugungsebene des Elektronenmikroskops, um Elektronen mit einer ausgewählten Energie und einem ausgewählten Impuls hindurchgehen zu lassen. Eine Verschiebung eines Bildes der hindurchgelassenen Elektronen wird an einem Detektor in einer Bildebene des Elektronenmikroskops gemessen. Ein Abbildungsfehlerkoeffizient des Elektronenmikroskops wird anhand der gemessenen Verschiebung und mindestens der Energie oder des Impulses der hindurchgelassenen Elektronen ermittelt. Der gemessene Abbildungsfehler kann verwendet werden, um einen Parameter des Elektronenmikroskops oder eines optischen Elements des Elektronenmikroskops zu ändern, wodurch der Gesamtabbildungsfehler des Elektronenmikroskops gesteuert wird.