公开(公告)号：US3699304A

公开(公告)日：1972-10-17

申请号：US3699304D

申请日：1969-12-15

Applicant: IBM

Inventor： BALDWIN EDWIN C JR ,  WRENNER WARREN R

IPC: G01Q70/00 ,  H01J37/304 ,  B23K15/00

CPC classification number: H01J37/3045

Abstract: Method and apparatus for controlling the deflection of an energy beam to impinge a workpiece with improved accuracy. A computer and interface unit direct the movement of the beam over a master target to learn and record addresses of impingement areas corresponding to those on a workpiece. Differential current flow in two conductive elements is used to determine accurate location of the address. Upon the substitution of a workpiece for the master target, impingement addresses can be selected without additional corrective deflection circuits.

Abstract translation: 用于控制能量束的偏转以改善精度冲击工件的方法和装置。 计算机和接口单元将光束的移动引导到主目标上以学习和记录与工件上相对应的冲击区域的地址。 使用两个导电元件中的差分电流来确定地址的准确位置。 在替代主目标的工件时，可以选择冲击地址而不需要额外的校正偏转电路。

公开(公告)号：US3392324A

公开(公告)日：1968-07-09

申请号：US51733365

申请日：1965-12-29

Applicant: IBM

Inventor： KARL HERMANN ,  WRENNER WARREN R

IPC: G01R31/04 ,  G01R31/28 ,  H02P7/28

CPC classification number: G01R31/2841 ,  G01R31/041 ,  G01R31/2806 ,  H02P7/2805

公开(公告)号：US3575588A

公开(公告)日：1971-04-20

申请号：US3575588D

申请日：1968-09-09

Applicant: IBM

Inventor： HERMANN KARL ,  WRENNER WARREN R ,  RILEY JOSEPH V

IPC: G03F7/20 ,  G03B27/42 ,  H05K3/00

CPC classification number: H05K3/00 ,  H05K3/0082

Abstract: The tracing of microcircuit wire patterns on photoresist overlaid substrates (circuit boards) by means of an electron beam. Pattern tracing is achieved by controlling the deflection of the beam in conjunction with the oscillatory motion of the substrate mounted on an oscillating stage. A feedback system from a grating on the stage provides synchronized pulses to a clock which in conjunction with the control data derived from a computer, provides control information for a desired circuit pattern.

Abstract translation: 1,247,453。 电子束照射装置。 国际商业机械有限公司1969年8月26日[1968年9月9日]，第42414/69号。 标题H1D。 在用于在光致抗蚀剂涂覆的电路板上形成布线图案的电子束照射装置中，提供控制装置用于协调光束的电子偏转和电路板的机械运动，使得光束在板上追踪所需的图案。 在图 如图1所示，板2被夹紧到适于通过线性电动机装置（未示出）沿箭头5所示的轴线移动的台架1，并且光栅20与光21和光电池一起产生指示这种运动的脉冲 ，哪些脉冲被馈送到控制该操作的计算机17。 阶段1可以通过由计算机控制的棘爪机构13和14沿着箭头6的方向逐渐移动。 计算机还控制由来自单元20-22的脉冲同步的两个阶梯波发生器40和50的操作以及产生选定的DC电平的街道选择网络60; 来自这些单元的信号在混合器80中组合，并通过放大器90馈送到电子束偏转系统。

公开(公告)号：CA868525A

公开(公告)日：1971-04-13

申请号：CA868525D

Applicant: IBM

Inventor： HERMANN KARL ,  RILEY JOSEPH V ,  WRENNER WARREN R