Integriertes Bauelement und Verfahren zum Trennen einer elektrisch leitfähigen Verbindung

    公开(公告)号:DE102006046790B4

    公开(公告)日:2014-01-02

    申请号:DE102006046790

    申请日:2006-10-02

    Abstract: Integriertes Bauelement (96, 96a), umfassend: einen elektrisch isolierenden ersten Schichtbereich (51, 51a), einen elektrisch leitfähigen ersten Abschnitt (24) einer Fuse angeordnet an dem ersten Schichtbereich (51, 51a), einen elektrisch leitfähigen zweiten Abschnitt (26) einer Fuse angeordnet an dem ersten Schichtbereich (51, 51a), einen elektrisch isolierenden zweiten Schichtbereich (61a), eine erste Aussparung (38, 38a) in dem zweiten Schichtbereich (61a), und eine zweite Aussparung (92), die sich von der ersten Aussparung (38, 38a) bis zum ersten Schichtbereich (51, 51a), bis zum ersten Abschnitt (24) und bis zum zweiten Abschnitt (26) erstreckt, wobei der zweite Schichtbereich (61) die zweite Aussparung (92) um einen Abstand (A1) überragt, der mindestens 100 Nanometer beträgt, wobei der zweite Schichtbereich (61) eine Schichtdicke (D4) größer als 400 Nanometer hat.

    2.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE102006046790A1

    公开(公告)日:2008-04-10

    申请号:DE102006046790

    申请日:2006-10-02

    Abstract: An integrated component includes a semiconductor substrate; at least one interconnect applied on the semiconductor substrate; an insulating layer applied on the at least one interconnect; and at least one opening through the insulating layer which interrupts the at least one interconnect into a first section and a second section.

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