Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To remove or reduce the influence of an error generated in manufacturing process. SOLUTION: Provided is a method including a step 312 for exposing a waveguide 14 to a Bragg diffraction grating write beam, a step 314 for measuring characteristics of the Bragg diffraction grating 16 written to the waveguide 14, a step 324 for correcting an error by finding parameters of the write beam, and a step 326 for correcting the error by changing parameters of the write beam. COPYRIGHT: (C)2004,JPO
Abstract:
Es sind ein VCSEL-Projektor und ein Verfahren zur Verwendung desselben offenbart. In einer Ausführungsform umfasst der Apparat eine Oberflächenemitter- (Vertical Cavity Surface Emitting Laser, VCSEL) Gruppe, umfassend eine Vielzahl von VCSELs; eine Mikrolinsengruppe, die an die VCSEL-Gruppe gekoppelt ist und eine Vielzahl von Linsen aufweist, und jede der Vielzahl von Linsen über einem VCSEL in der VCSEL-Gruppe positioniert ist; und eine Projektionslinse, die an die Mikrolinsengruppe (MLA) gekoppelt ist, wo Licht, das durch die VCSEL-Gruppe ausgestrahlt wird, durch die Projektionslinse als eine Abfolge von Mustern auf ein Objekt projiziert wird.
Abstract:
In accordance with some embodiments of the present invention, while a Bragg grating (16) is being written in a substrate (14), measurements may be taken to allow changes to be made in the writing process to reduce errors that may occur in the written grating (16). In one embodiment, multiple scans of the writing beam (U) can be used. After a scan, measurements of the characteristics of the grating (16) being written can be taken and corrections may be implemented on subsequent scans.
Abstract:
Multiple Bragg gratings (712, 714, 716, 718, 720) are fabricated in a single planar lightwave circuit platform (750). The gratings have nominally identical grating spacing but different center wavelengths, which are produced using controlled photolithographic processes and/or controlled doping to control the effective refractive index of the gratings. The gratings may be spaced closer together than the height of the UV light pattern used to write the gratings.
Abstract:
A method, apparatus, and system for monitoring optical signals in a planar lightwave circuit ("PLC") by tapping light from an optical transmission medium (e.g., a waveguide or optical fiber), into which a grating has been written, out of a plane of the optical transmission medium and onto a photosensitive device are disclosed herein. In one embodiment, a tilted grating, with an angle greater than about 6 degrees from normal to a central axis of the optical transmission medium may be written into a waveguide in the PLC at a location at which an attribute (e.g., a wavelength or power) of an optical signal is to be measured. A portion of an optical signal may then be reflected out of a plane of the optical transmission medium, and be detected by a photodetector positioned in a second plane, distinct from the plane of the optical transmission medium.
Abstract:
Systeme, Vorrichtungen und Techniken bezüglich des Projizierens dynamischer Merkmalsmuster auf eine Szene zur Verwendung in stereoskopischer Bildgebung sind besprochen. Solche Techniken können Implementieren eines dynamischen transmittierenden Elements in einem optischen Pfad zwischen einem Projektor und der Szene beinhalten, um ein statisches Muster, das von dem Projektor emittiert wird, zu modifizieren, um die Szene mit einem dynamischen Muster zu beleuchten.
Abstract:
In accordance with some embodiments of the present invention, while a Bragg grating (16) is being written in a substrate (14), measurements may be taken to allo w changes to be made in the writing process to reduce errors that may occur in the written grating (16). In one embodiment, multiple scans of the writing beam (U) can be used. After a scan, measurements of the characteristics of the grating (16) being written can be taken and corrections may be implemented on subsequent scans.
Abstract:
In accordance with some embodiments of the present invention, while a Bragg grating (16) is being written in a substrate (14), measurements may be taken to allow changes to be made in the writing process to reduce errors that may occur in the written grating (16). In one embodiment, multiple scans of the writing beam (U) can be used. After a scan, measurements of the characteristics of the grating (16) being written can be taken and corrections may be implemented on subsequent scans.
Abstract:
Gemäß den offenbarten Ausführungsformen werden Systeme, Verfahren und Vorrichtungen zur Implementierung einer Stereotiefenkamera mit einem VCSEL-Projektor mit einer gesteuerten Projektionslinse bereitgestellt. Beispielsweise wird eine Tiefenkamera beschrieben, die aufweist: einen Vertical-Cavity-Surface-Emitting-Laserprojektor (VCSEL-Projektor), um mehrere Infrarotstrahlen abzustrahlen; eine bewegliche Linse, um den Fokus der mehreren vom VCSEL-Projektor abgestrahlten Infrarotstrahlen zu kontrollieren, wobei die mehreren Infrarotstrahlen durch die bewegliche Linse projiziert werden, um ein projiziertes Muster zu bilden, das auf eine Szene projiziert wird; stereoskopische Bilderfassungsvorrichtungen zum Aufnehmen stereoskopischer Bilder von der Szene, auf die das projizierte Muster projiziert wird; und Verarbeitungsschaltungen, um eine Tiefe eines Objekts in der Szene zu bestimmen, basierend auf den aufgenommenen stereoskopischen Bildern der Szene mit dem projizierten Muster, das darin wie vom VCSEL-Projektor projiziert dargestellt ist. Weitere verwandte Ausführungsformen werden offenbart.