Abstract:
The present disclosure relates to the fabrication of spin transfer torque memory elements for non-volatile microelectronic memory devices. The spin transfer torque memory element may include a magnetic tunneling junction connected with specifically sized and/or shaped fixed magnetic layer that can be positioned in a specific location adjacent a free magnetic layer. The shaped fixed magnetic layer may concentrate current in the free magnetic layer, which may result in a reduction in the critical current needed to switch a bit cell in the spin transfer torque memory element.
Abstract:
An apparatus including a spin to charge conversion node; and a charge to spin conversion node, wherein an input to the spin to charge conversion node produces an output at the charge to spin conversion node. An apparatus including a magnet including an input node and output node, the input node including a capacitor operable to generate magnetic response in the magnet and the output node including at least one spin to charge conversion material. A method including injecting a spin current from a first magnet; converting the spin current into a charge current operable to produce a magnetoelectric interaction with a second magnet; and changing a direction of magnetization of the second magnet in response to the magnetoelectric interaction. A method including injecting a spin current from an input node of a magnet; and converting the spin current into a charge current at an output node of the magnet.
Abstract:
Eine Ausführungsform enthält ein C-Element-Logikgatter, das als ein Spin-Logikgerät implementiert wurde, das eine kompakte und energieeffiziente Implementierung der asynchronen Logik bereitstellt, indem ein C-Element mit Spintronic-Technologie implementiert wird. Eine Ausführungsform enthält eine erste Nanosäule inklusive eines ersten Kontakts und eines ersten festen magnetischen Schicht; eine zweite Nanosäule, inklusive eines zweiten Kontakts und eines zweiten festen magnetischen Schicht; und eine dritte Nanosäule, inklusive eines dritten Kontakts, einer Tunnelbarriere und einer dritten festen magnetischen Schicht; wobei (a) die erste, zweite und dritte Nanosäulen über eine freie magnetische Schicht gebildet werden, und (b) die dritte feste magnetische Schicht, die Tunnelbarriere und die freie magnetische Schicht bilden einen magnetischen Tunnelkontakt (MTJ). Andere Ausführungsformen werden hier beschrieben.
Abstract:
Provided are transistor devices such as logic gates that are capable of associating a computational state and or performing logic operations with detectable electronic spin state and or magnetic state. Methods of operating transistor devices employing magnetic states are provided. Devices comprise input and output structures and magnetic films capable of being converted between magnetic states.
Abstract:
Spin torque magnetic integrated circuits and devices therefor are described. A spin torque magnetic integrated circuit includes a first free ferromagnetic layer disposed above a substrate. A non-magnetic layer is disposed above the first free ferromagnetic layer. A plurality of write pillars and a plurality of read pillars are included, each pillar disposed above the non-magnetic layer and including a fixed ferromagnetic layer.
Abstract:
Eine Ausführungsform enthält einen magnetischen Tunnelkontakt (MTJ) mit einer nicht elliptischen freien Schicht mit abgerundeten Ecken. Zum Beispiel enthält eine Ausführungsform einen MTJ, der eine freie Magnetschicht, eine fixierte Magnetschicht und eine Tunnelbarriere zwischen der freien und fixierten Schicht enthält; wobei die freie Magnetschicht eine obere Oberfläche, eine untere Oberfläche und eine Seitenwand enthält, die die freie Magnetschicht umgibt und die untere Oberfläche an die obere Oberfläche koppelt; wobei die obere Oberfläche rechteckig mit mehreren abgerundeten Ecken ist. In einer Ausführungsform ist das Aspektverhältnis der oberen Oberfläche zwischen 4:1 und 8:1 (Länge zu Breite). Eine solche Ausführungsform sieht eine einfache Herstellung gemeinsam mit einem annehmbaren kritischen Schaltstrom (zur Umkehr der Polarität der freien Schicht) und annehmbarer Stabilität vor. Es sind hier andere Ausführungsformen beschrieben.
Abstract:
An embodiment includes a heterojunction tunneling field effect transistor including a source, a channel, and a drain; wherein (a) the channel includes a major axis, corresponding to channel length, and a minor axis that corresponds to channel width and is orthogonal to the major axis; (b) the channel length is less than 10 nm long; (c) the source is doped with a first polarity and has a first conduction band; (d) the drain is doped with a second polarity, which is opposite the first polarity, and the drain has a second conduction band with higher energy than the first conduction band. Other embodiments are described herein.
Abstract:
Hierin werden Chips für neuronales Rechnen mit gestapelten Neuronalkernbereichen sowie zugehörige Verfahren und Anordnungen offenbart. In einigen Ausführungsformen kann ein Chip für neuronales Rechnen Folgendes beinhalten: einen ersten Neuronalkernbereich; einen zweiten Neuronalkernbereich; und einen Zwischenkernverbindungsbereich in einem Volumen zwischen dem ersten Neuronalkernbereich und dem zweiten Neuronalkernbereich, wobei der Zwischenkernverbindungsbereich einen leitfähigen Pfad zwischen dem ersten Neuronalkernbereich und dem zweiten Neuronalkernbereich beinhaltet und der leitfähige Pfad eine leitfähige Durchkontaktierung beinhaltet.