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公开(公告)号：JP5716397B2
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：JP2010513014
申请日：2009-05-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F220/22 , C08F220/28 , G03F7/26 , G03F7/38 , H01L21/027 , G03F7/039
CPC classification number: C07C69/96 , C08F220/24 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
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公开(公告)号：WO2007069640A1
公开(公告)日：2007-06-21
申请号：PCT/JP2006/324836
申请日：2006-12-13
IPC: C07C381/12 , C08F220/28 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/06 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C08F220/38 , G03F7/0397
Abstract: 放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に解像性能に優れ、ＤＯＦ、ＬＥＲに優れ、さらに液浸耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物、ならびにその製造方法を提供する。新規化合物は下記式（１）で表され、液浸耐性に優れる感放射線性樹脂組成物がえられる。 式（１）において、Ｒ 1 はメチル基または水素原子を表し、Ｒ 2 、Ｒ 3 、またはＲ 4 はそれぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数１～１０の１価の有機基を表し、ｎは０～３の整数を表し、Ａはメチレン基、直鎖状もしくは分岐状の炭素数２～１０アルキレン基またはアリーレン基を表し、Ｘ － はＳ ＋ の対イオンを表す。
Abstract translation: 对辐射具有高透明度的辐射敏感性树脂组合物，抗敏剂所需的基本性能如灵敏度，分辨率和图案轮廓，特别是分辨率性能优异，DOF，LER和耐浸渍性更优异 曝光; 可用于组合物中的聚合物; 用于合成聚合物的新型化合物; 和该化合物的制造方法。 该新化合物由下式（1）表示，得到耐浸浸性优异的辐射敏感性树脂组合物。 （1）式（1）中，R 1表示甲基或氢; R 2，R 3和R 4各自独立地表示任选取代的一价C 1-10 - 有机基团 组; n为0-3的整数; A表示亚甲基，直链或支链C 2-10亚烷基或亚芳基; 而X - > - 表示S + +的反离子。
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公开(公告)号：JP2020101659A
公开(公告)日：2020-07-02
申请号：JP2018239400
申请日：2018-12-21
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/40 , G03F7/023
Abstract: 【課題】140℃以下での加熱処理によっても、良好な形状を有するマイクロレンズを形成することができ、感度、保存安定性、並びに形成されるマイクロレンズの耐薬品性及び透明性も良好である感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたマイクロレンズの形成方法の提供をする。 【解決手段】環状エーテル構造及び環状カーボネート構造からなる群より選択される少なくとも1種を含む構造単位(a1)と、フェノール性水酸基及び下記式(1)で表される基からなる群より選択される少なくとも1種を含む構造単位(a2)と、炭素数が8以上20以下の鎖状又は環状のアルキル基を含む構造単位(a3)とを有する重合体、及び感放射線性酸発生剤を含有し、全形成工程中の最大の加熱温度が140℃以下であるマイクロレンズの形成に用いられる感放射線性樹脂組成物である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2017143192A
公开(公告)日：2017-08-17
申请号：JP2016023934
申请日：2016-02-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/336 , G03F7/039 , G03F7/004 , G02F1/1368 , G02F1/1333 , C08L101/08 , H01L21/312 , H01L29/786
Abstract: 【課題】優れた信頼性のアレイ基板を提供し、表示素子を提供し、感放射線性樹脂組成物およびアレイ基板の製造方法を提供する。 【解決手段】アレイ基板1は、基板2の一方の表面側に、トップゲート型のTFT3と、TFT3を覆ってアレイ基板1の層間絶縁膜を構成する第1の絶縁膜10とを有する。TFT3の半導体層4には、ポリシリコンを用いる。第1の絶縁膜10は、カルボキシル基またはカルボキシル基が酸解離性基で保護された基を0モル%以上50モル%以下の量で有する重合体を含んで調製された感放射線性樹脂組成物を用いて形成され、TFT3のソース電極8およびドレイン電極9を覆うように配置される。アレイ基板1を用いて表示素子を構成する。 【選択図】図1
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公开(公告)号：WO2008001679A1
公开(公告)日：2008-01-03
申请号：PCT/JP2007/062538
申请日：2007-06-21
CPC classification number: C07D333/18 , G03F7/0045 , G03F7/0757 , G03F7/265
Abstract: （１）基板上に、（Ｃ）放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生剤又は（Ｄ）放射線の照射により塩基を発生する感放射線性塩基発生剤を含有する下層膜を形成する工程と、（２）下層膜に、所定のパターンを有するマスクを介して放射線を照射して下層膜を露光させ、所定のパターンで選択的に露光された露光下層膜部分を形成する工程と、（３）下層膜上に（Ｅ）有機薄膜を形成して、露光下層膜部分と、露光下層膜部分上に形成された有機薄膜を化学的に結合させる工程と、（４）下層膜のうちの露光下層膜部分以外の部分上に形成された有機薄膜を除去する工程と、を有するパターン形成方法である。
Abstract translation: 一种形成图案的方法，包括以下步骤：（1）在基底上形成含有能够在暴露于辐射线时产生酸的放射线敏感性酸产生剂（C）的底层膜或辐射敏感基质 能够在暴露于辐射线时产生碱的发生剂（D）; （2）通过具有给定图案的掩模的辐射线照射下层膜，从而获得下层膜的曝光，从而获得通过给定图案选择性曝光的曝光下层膜部分; （3）在下层膜上形成有机薄膜（E），以使得曝光的下层膜部分与形成在曝光的下层膜部分上的有机薄膜化学结合; 以及（4）去除在露出的下层膜部以外的下层膜的区域上形成的有机薄膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018036566A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2016171218
申请日：2016-09-01
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】解像度、感度及びレンズ形状への成形性に優れるマイクロレンズ成形用ポジ型感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いた成形方法の提供をする。 【解決手段】下記式(1−1)で表される基、下記式(1−2)で表される基、又はこれらの組み合わせを含む構造単位(I)を有する重合体、並びに感放射線性酸発生体を含有するマイクロレンズ形成用ポジ型感放射線性樹脂組成物である。式(1−1)及び(1−2)中、R 1 〜R 4 は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のフッ素化アルキル基である。但し、R 1 及びR 2 のうち、少なくとも一方は、ハロゲン原子又は炭素数1〜4のフッ素化アルキル基である。また、R 3 及びR 4 のうち、少なくとも一方は、ハロゲン原子又は炭素数1〜4のフッ素化アルキル基である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6136491B2
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：JP2013081631
申请日：2013-04-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G02F1/1333 , C08F232/00 , G03F7/039
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公开(公告)号：JP2020076825A
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：JP2018208887
申请日：2018-11-06
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】 本発明は、高厚膜の隔壁等を形成するための新たな方法を提供することを目的とし、さらにはその方法に好ましく使用される感放射性組成物を提供することを目的する。 【解決手段】 本発明の目的は、少なくとも、(1)感放射線性組成物を基板上に塗布し塗膜を形成する工程、(2)前記塗膜に放射線を照射し硬化することで塗膜1を形成する工程、(3)前記塗膜1に(2)工程とは異なる波長の放射線を照射し、塗膜1の所定部分に凹部を形成する工程、(4)前記凹部に、硬化性組成物を塗布し塗膜2を形成する工程、(5)前記塗膜1の前記所定部分以外の残部を除去する工程、を備えるパターン形成方法、によって達成された。 【選択図】図1
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