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发明公开
Fe－Pt－C系溅射靶部件、溅射靶组件、成膜方法、以及溅射靶部件的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN118076762A

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202280067861.4

申请日：2022-09-22

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 小庄孝志 , 堀江勇介

IPC: C23C14/34 , G11B5/851 , H01F10/14

Abstract: 本发明提供一种能够抑制溅射时的微粒的产生的Fe－Pt－C系溅射靶部件。一种Fe－Pt－C系溅射靶部件，其具有含有Fe以及Pt的磁性相和含有C的非磁性相，在使用X射线衍射法对该溅射靶部件进行分析得到的X射线衍射图谱中，在满足25.6°≤2θ≤26.2°的条件的衍射角中具有来自于碳的衍射峰。

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