公开(公告)号：CN111032906A

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201980003870.5

申请日：2019-05-23

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  増田爱美 ,  岩渊靖幸 ,  小庄孝志

IPC: C23C14/34 ,  G11B5/64 ,  G11B5/851

Abstract: 本发明涉及一种溅射靶，其含有0.05at％以上的Bi，金属氧化物的合计含量为10vol％～70vol％，剩余部分至少包含Ru。

公开(公告)号：CN111032906B

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN201980003870.5

申请日：2019-05-23

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  増田爱美 ,  岩渊靖幸 ,  小庄孝志

IPC: G11B5/62

Abstract: 本发明涉及一种溅射靶，其含有0.05at％以上的Bi，金属氧化物的合计含量为10vol％～70vol％，剩余部分至少包含Ru。