公开(公告)号：CN109819662A

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201880003684.7

申请日：2018-08-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  岩渊靖幸 ,  增田爱美

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/14 ,  G11B5/64 ,  G11B5/851 ,  H01F41/18

Abstract: 本发明的溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

公开(公告)号：CN113817993B

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202111090388.5

申请日：2018-08-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  岩渊靖幸 ,  增田爱美

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/16 ,  B22F3/14 ,  B22F3/105 ,  C22C1/05 ,  C22C32/00 ,  G11B5/73 ,  G11B5/84 ,  G11B5/851 ,  H01F41/18

Abstract: 本发明涉及溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体，其中该溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

公开(公告)号：CN111566253B

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN201980007232.0

申请日：2019-05-23

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 岩渊靖幸 ,  增田爱美 ,  小庄孝志

IPC: C23C14/34 ,  G11B5/65 ,  G11B5/851

Abstract: 一种溅射靶，其含有0.001mol％～0.5mol％的Bi、45mol％以下的Cr、45mol％以下的Pt、60mol％以下的Ru、合计1mol％～35mol％的金属氧化物，剩余部分包含Co和不可避免的杂质。

公开(公告)号：CN109819662B

公开(公告)日：2021-11-23

申请号：CN201880003684.7

申请日：2018-08-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  岩渊靖幸 ,  增田爱美

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/14 ,  G11B5/64 ,  G11B5/851 ,  H01F41/18

Abstract: 本发明的溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

公开(公告)号：CN111183243A

公开(公告)日：2020-05-19

申请号：CN201880004047.1

申请日：2018-09-11

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 增田爱美 ,  清水正義 ,  下宿彰

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明的课题在于提供一种可形成兼具磁性颗粒间的良好的磁分离性和高矫顽力的磁性膜的溅射靶、磁性膜和磁性膜的制造方法。本发明的解决方案在于本发明的溅射靶以原子比换算计含有1at.％以上的Zn，其一部分或全部形成Zn-Ti-O和/或Zn-Si-O的复合氧化物，Pt为45at.％以下，余量包含Co和不可避免的杂质。

公开(公告)号：CN118979229A

公开(公告)日：2024-11-19

申请号：CN202410943183.4

申请日：2018-08-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  岩渊靖幸 ,  增田爱美

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/02 ,  G11B5/84 ,  G11B5/73 ,  G11B5/851

Abstract: 本发明涉及溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体。具体为，溅镀靶含有Co及Pt作为金属成分，Pt的含量相对于Co的含量的摩尔比为5/100～45/100，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

公开(公告)号：CN113817993A

公开(公告)日：2021-12-21

申请号：CN202111090388.5

申请日：2018-08-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  岩渊靖幸 ,  增田爱美

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/16 ,  B22F3/14 ,  B22F3/105 ,  C22C1/05 ,  C22C1/10 ,  C22C32/00 ,  G11B5/73 ,  G11B5/84 ,  G11B5/851 ,  H01F41/18

Abstract: 本发明涉及溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体，其中该溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

公开(公告)号：CN111971745A

公开(公告)日：2020-11-20

申请号：CN201880091890.8

申请日：2018-09-21

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 增田爱美 ,  清水正义

IPC: G11B5/66 ,  G11B5/65 ,  G11B5/84

Abstract: 本发明的垂直磁记录介质具有颗粒层(2)和盖层(3)作为构成记录层(1)的至少一部分的层，所述颗粒层(2)包含金属氧化物作为非磁性体且磁性体分散于所述非磁性体，所述盖层(3)形成于所述颗粒层(2)上且不包含金属氧化物，所述盖层(3)的正下方的颗粒层的与盖层的边界部分的氧化物相含有选自由Zn、W、Mn、Fe以及Mo构成的组中的至少一种。

公开(公告)号：CN109819661A

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201880003554.3

申请日：2018-08-16

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  岩渊靖幸 ,  增田爱美

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/06 ,  G11B5/64 ,  G11B5/851 ,  H01F41/18

Abstract: 本发明的溅镀靶含有Co及Pt作为金属成分，Pt的含量相对于Co的含量的摩尔比为5/100～45/100，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

公开(公告)号：CN119110856A

公开(公告)日：2024-12-10

申请号：CN202380034562.5

申请日：2023-05-26

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 清水正义 ,  增田爱美 ,  岩渊靖幸 ,  本田和也

IPC: C23C14/34 ,  B22F1/00 ,  C22C1/05 ,  C22C1/10 ,  C22C5/04 ,  C22C19/07 ,  C22C32/00 ,  C23C14/06 ,  G11B5/706 ,  G11B5/851 ,  H01F10/16 ,  H01F41/18

Abstract: 本发明提供一种能够维持磁记录介质的磁性层中的高矫顽力，同时能够提高磁性粒子间的磁分离性的溅射靶。该溅射靶，含有Co以及Pt作为金属成分，含有NbO2作为金属氧化物成分。或者，该溅射靶，含有Co以及Pt作为金属成分，且具有含Co、Nb和O三者的相。