公开(公告)号：DE112017000464T5

公开(公告)日：2018-09-27

申请号：DE112017000464

申请日：2017-01-23

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： SALCIN ESEN ,  WANG FUMING ,  PETERLINZ KEVIN ,  KWAK HIDONG ,  KVAMME DAMON ,  GREENBERG URI ,  HENNIGAN DANIEL R

IPC: G01N21/21 ,  G01N21/95

Abstract: Verfahren und Systeme zur Durchführung von Einzelwellenlängen-Ellipsometrie (SWE) -Messungen mit verringerter Messspotgröße werden hierin vorgestellt. Gemäß einem Aspekt ist eine Pupillenblende an oder nahe einer Pupillenebene in dem optischen Sammelweg angeordnet, um die Empfindlichkeit gegenüber Beugungseffekten an Objekträndern/-kanten zu reduzieren. Gemäß einem anderen Aspekt ist eine Feldblende an oder nahe einer Bildebene angeordnet, die mit der Waferebene in dem optischen Sammelweg konjugiert ist, um die Empfindlichkeit gegenüber unerwünschten optisch-strukturellen Wechselwirkungen zu verringern. Gemäß einem anderen Aspekt umfasst ein linearer Polarisator, der auf den Eingangsstrahl des SWE-Systems einwirkt, ein dünnes Polarisatorelement auf Nanopartikelbasis. Das auf Nanopartikeln basierende Polarisatorelement verbessert die Qualität des Beleuchtungsstrahls und verringert den Astigmatismus auf der Waferebene. Die Pupillen- und Feldblenden filtern unerwünschte Lichtstrahlen aus, bevor sie den Detektor erreichen. Im Ergebnis wird dadurch die Messspotgröße reduziert und die Anpassung zwischen einem Werkzeug und einem anderen Werkzeug für kleine Messobjekte wird erheblich verbessert.

公开(公告)号：EP2972226A4

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：EP14764065

申请日：2014-03-14

Applicant: KLA-TENCOR CORP

Inventor： KVAMME DAMON ,  CHILESE FRANCIS C

IPC: G01N21/55 ,  G01N21/33 ,  G01N21/88 ,  G01N21/956 ,  G02B5/08 ,  G02B5/09 ,  G03F1/84

CPC classification number: G02B5/0891 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/956 ,  G02B5/09 ,  G03F1/84

Abstract: An apparatus for inspecting a photomask, comprising an illumination source for generating a light which illuminates a target substrate, objective optics for receiving and projecting the light which is reflected from the target substrate, the objective optics includes a first mirror arranged to receive and reflect the light which is reflected from the target substrate, a second mirror which is arranged to receive and reflect the light which is reflected by the first mirror, a third mirror which is arranged to receive and reflect the light which is reflected by the second mirror, and a segmented mirror which is arranged to receive and reflect the light which is reflected by the third mirror. The segmented mirror includes at least two mirror segments. The apparatus further includes at least one sensor for detecting the light which is projected by the objective optics.

Abstract translation: 一种用于检查光掩模的装置，包括用于产生照射目标基板的光的照明源，用于接收和投射从目标基板反射的光的物镜，所述物镜包括：第一反射镜，被布置成接收和反射 从目标基板反射的光，被配置为接收和反射由第一反射镜反射的光的第二反射镜，布置成接收和反射由第二反射镜反射的光的第三反射镜，以及 被布置成接收和反射由第三反射镜反射的光的分段反射镜。 分段镜包括至少两个镜片段。 该装置还包括至少一个用于检测由物镜光学器件投影的光的传感器。