公开(公告)号：DE112017000464T5

公开(公告)日：2018-09-27

申请号：DE112017000464

申请日：2017-01-23

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： SALCIN ESEN ,  WANG FUMING ,  PETERLINZ KEVIN ,  KWAK HIDONG ,  KVAMME DAMON ,  GREENBERG URI ,  HENNIGAN DANIEL R

IPC: G01N21/21 ,  G01N21/95

Abstract: Verfahren und Systeme zur Durchführung von Einzelwellenlängen-Ellipsometrie (SWE) -Messungen mit verringerter Messspotgröße werden hierin vorgestellt. Gemäß einem Aspekt ist eine Pupillenblende an oder nahe einer Pupillenebene in dem optischen Sammelweg angeordnet, um die Empfindlichkeit gegenüber Beugungseffekten an Objekträndern/-kanten zu reduzieren. Gemäß einem anderen Aspekt ist eine Feldblende an oder nahe einer Bildebene angeordnet, die mit der Waferebene in dem optischen Sammelweg konjugiert ist, um die Empfindlichkeit gegenüber unerwünschten optisch-strukturellen Wechselwirkungen zu verringern. Gemäß einem anderen Aspekt umfasst ein linearer Polarisator, der auf den Eingangsstrahl des SWE-Systems einwirkt, ein dünnes Polarisatorelement auf Nanopartikelbasis. Das auf Nanopartikeln basierende Polarisatorelement verbessert die Qualität des Beleuchtungsstrahls und verringert den Astigmatismus auf der Waferebene. Die Pupillen- und Feldblenden filtern unerwünschte Lichtstrahlen aus, bevor sie den Detektor erreichen. Im Ergebnis wird dadurch die Messspotgröße reduziert und die Anpassung zwischen einem Werkzeug und einem anderen Werkzeug für kleine Messobjekte wird erheblich verbessert.

公开(公告)号：EP2766693A4

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：EP12839434

申请日：2012-10-11

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： SHCHEGROV ANDREI V ,  ROTTER LAWRENCE D ,  WANG DAVID Y ,  VELDMAN ANDREI ,  PETERLINZ KEVIN ,  BRADY GREGORY ,  SHAUGHNESSY DERRICK

IPC: G01B11/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: G01N21/211 ,  G01B11/0616 ,  G01N21/4738 ,  G01N21/55 ,  G01N2021/213 ,  G03F7/70608 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633