公开(公告)号：DE112014005980T5

公开(公告)日：2016-11-24

申请号：DE112014005980

申请日：2014-12-16

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： BEZEL ILYA V ,  SOLARZ RICHART ,  SHCHEMELININ ANATOLY

IPC: H01S3/10

Abstract: Es sind Verfahren und Vorrichtungen zum Erzeugen eines sub-200nm Dauerstrich (cw) Lasers offenbart. Eine Laser-Vorrichtung umfasst eine Kammer zum Aufnehmen mindestens eines Edelgases oder von Edelgasgemischen und eine Pumplaserquelle zum Erzeugen mindestens eines CW-Pumplasers, der in der Kammer zum Erzeugen von mindestens einem mit einem Laser aufrecht erhaltenen Plasma in der Kammer fokussiert ist. Die Laser-Vorrichtung umfasst zudem ein System zum Ausbilden einer optischen Kavität, in der das mindestens eine mit einem Laser aufrecht erhaltene Plasma als eine Anregungsquelle dient zum Produzieren mindestens eines CW-Lasers mit einer Wellenlänge, die weniger als ungefähr 200 nm beträgt. Bei einem Aspekt hat das mindestens eine mit einem Laser aufrecht erhaltene Plasma eine Form, die im Wesentlichen einer Form der optischen Kavität entspricht.