Ausgleich der gasbedingten Lichtbrechung bei lasergestützten Plasmakolben

    公开(公告)号:DE112014000948T5

    公开(公告)日:2015-11-05

    申请号:DE112014000948

    申请日:2014-02-21

    Abstract: Ein lasergestütztes Plasma-Beleuchtungssystem beinhaltet mindestens eine Laserlichtquelle, um Licht bereitzustellen. Mindestens ein Reflektor fokussiert das Licht von der Laserlichtquelle in einem Brennpunkt des Reflektors. Ein im Wesentlichen mit einem Gas gefülltes Behältnis ist an oder nahe dem Brennpunkt des Reflektors positioniert. Das Licht von der Laserlichtquelle erhält ein in dem Behältnis eingeschlossenes Plasma zumindest teilweise aufrecht. Das Behältnis hat zumindest eine Wandung mit einer Dicke, welche ungleichmäßig ist, um optische Aberrationen in dem System zu kompensieren.

    System und Verfahren zum elektrodenlosen Zünden von Plasma in einer lasergestützten Plasmalichtquelle

    公开(公告)号:DE112016004526T5

    公开(公告)日:2018-06-14

    申请号:DE112016004526

    申请日:2016-09-30

    Abstract: Eine Beleuchtungsquelle zum Zünden und Aufrechterhalten eines Plasmas in einer Plasmalampe einer lasergestützten Plasma-Breitbandquelle (LSP) umfasst einen oder mehrere Laser zum Zünden, die zum Zünden des Plasmas innerhalb eines in der Plasmalampe enthaltenen Gases konfiguriert sind. Die Beleuchtungsquelle umfasst auch einen oder mehrere Laser zum Aufrechterhalten, die dazu konfiguriert sind, das Plasma aufrechtzuerhalten. Die Beleuchtungsquelle umfasst eine optische Bereitstellungsfaser, ein oder mehrere optische Elemente, die konfiguriert sind, um selektiv einen Output des einen oder der mehreren Laser zum Zünden und einen Output des einen oder der mehreren Laser zum Aufrechterhalten mit der optischen Bereitstellungsfaser optisch zu koppeln.

    Plasmazelle mit freiem Flansch
    4.
    发明专利

    公开(公告)号:DE112014005636B4

    公开(公告)日:2022-10-27

    申请号:DE112014005636

    申请日:2014-12-12

    Abstract: System (100) zur Bildung eines lichtgestützten Plasmas (104), umfassend:eine Beleuchtungsquelle (111), ausgebildet um Beleuchtung (107) zu erzeugen;eine Plasmazelle (102), welche beinhaltet:ein Transmissionselement (108), das eine oder mehrere Öffnungen (109a, 109b) hat und dazu ausgebildet ist, ein Gasvolumen (103) einzuschließen;einen oder mehrere Endflansche (110, 112), die an oder nahe der einen oder den mehreren Öffnungen (109a, 109b) des Transmissionselements (108) angeordnet sind;einen oder mehrere freie Flansche (113), die zwischen mindestens einem der Endflansche (110, 112) und dem Transmissionselement (108) angeordnet sind, wobei der eine oder die mehreren freien Flansche (113) beweglich sind, um eine thermische Ausdehnung des Transmissionselements (108) auszugleichen; undein Kollektorelement (105), welches dazu angeordnet ist, die Beleuchtung (107) von der Beleuchtungsquelle (111) in das Gasvolumen (103) zu fokussieren, um innerhalb des in der Plasmazelle (102) eingeschlossenen Gasvolumens (103) ein Plasma (104) zu erzeugen,wobei das Plasma (104) Breitbandstrahlung emittiert,wobei das Transmissionselement (108) der Plasmazelle (102) zumindest teilweise transparent ist für zumindest einen Teil der von der Beleuchtungsquelle (111) erzeugten Beleuchtung (107) und zumindest einen Teil der von dem Plasma (104) emittierten Breitbandstrahlung.

    Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung einer Konvektionsströmung in einem lichtgestützten Plasma

    公开(公告)号:DE112014001747B4

    公开(公告)日:2022-07-28

    申请号:DE112014001747

    申请日:2014-03-28

    Abstract: Vorrichtung (100) zur Steuerung einer Konvektionsströmung in einem lichtgestützten Plasma umfassend:• eine Beleuchtungsquelle (112), die konfiguriert ist, um Beleuchtung (114) zu erzeugen;• eine Plasmazelle (104), die einen Kolben (105) umfasst, um ein Gasvolumen (103) zu enthalten;• ein Kollektorelement (102), das angeordnet ist, um die Beleuchtung (114) aus der Beleuchtungsquelle (112) in das Gasvolumen (103) zu fokussieren, um ein Plasma (106) innerhalb des im Kolben enthaltenen Gasvolumens (103) zu erzeugen, wobei ein Teil der Plasmazelle (104) in einem konkaven Bereich (109) des Kollektorelements (102) angeordnet ist, und wobei das Kollektorelement (102) eine Öffnung (108) enthält, durch welche Öffnung sich ein Teil der Plasmazelle erstreckt, damit ein Teil einer Plasmafahne (107) sich zu einem Bereich (110) außerhalb des konkaven Bereichs (109) des Kollektorelements (102) ausbreitet;• ein außenliegendes Plasmasteuerelement (128), welches im Bereich (110) außerhalb des konkaven Bereichs (109) des Kollektorelements (102) platziert ist, wobei das außenliegende Plasmasteuerelement (128) wenigstens eine Struktur beinhaltet, die innerhalb des Plasmakolbens (105) angeordnet ist oder die außerhalb des Plasmakolbens (105) angeordnet ist;• wobei das außenliegende Plasmasteuerelement (128) ein außenliegendes Konvektionssteuerelement umfasst, wobei das außenliegende Konvektionssteuerelement innerhalb des Plasmakolbens (105) platziert und dazu angeordnet ist, Konvektionsströme innerhalb des Plasmakolbens (105) zu steuern.

    Lasergestützte Plasmalichtquelle mit elektrisch induzierter geregelter Gasströmung zwischen Elektroden und entsprechendes Verfahren

    公开(公告)号:DE112013001634B4

    公开(公告)日:2021-01-21

    申请号:DE112013001634

    申请日:2013-06-26

    Abstract: Eine lasergestützte Plasmalichtquelle umfasst einen Plasmakolben, welcher eine Strömung eines Arbeitsgases enthält, welche durch einen innerhalb des Plasmakolbens aufrechterhaltenen elektrischen Strom getrieben wird. Geladene Teilchen werden in das Arbeitsgas des Plasmakolbens eingeführt. Eine Anordnung von Elektroden, welche auf unterschiedlichen Spannungsniveaus gehalten werden, treibt die geladenen Teilchen durch das Arbeitsgas. Die Bewegung der geladenen Teilchen innerhalb des Arbeitsgases lässt das Arbeitsgas durch Mitführung in die Bewegungsrichtung der geladenen Teilchen strömen. Die resultierende Strömung des Arbeitsgases verstärkt die Konvektion um das Plasma und erhöht die Wechselwirkung zwischen dem Laser und dem Plasma. Die Strömung des Arbeitsgases innerhalb des Plasmakolbens kann stabilisiert und gesteuert werden durch Steuerung der an jeder der Elektroden herrschenden Spannung. Eine stabilere Strömung des Arbeitsgases durch das Plasma trägt zu einer stabileren Form und Position des Plasmas innerhalb des Plasmakolbens bei.

    Plasmazelle mit freiem Flansch
    7.
    发明专利

    公开(公告)号:DE112014005636T5

    公开(公告)日:2016-09-01

    申请号:DE112014005636

    申请日:2014-12-12

    Abstract: Eine Plasmazelle zur Erzeugung lichtgestützten Plasmas beinhaltet ein Transmissionselement, das dazu ausgebildet ist, ein Gasvolumen einzuschließen, einen ersten Endflansch, der an oder nahe einer Öffnung des Transmissionselements angeordnet ist, einen zweiten Endflansch, der an oder nahe einer anderen Öffnung des Transmissionselements angeordnet ist, einen freien Flansch, der zwischen dem ersten oder dem zweiten Endflansch und dem Transmissionselement angeordnet ist. Der freie Flansch ist beweglich, um eine thermische Ausdehnung des Transmissionselements auszugleichen. Ferner ist der freie Flansch dazu ausgebildet, das innere Volumen des Transmissionselements einzuschließen, um ein Gasvolumen innerhalb des Transmissionselements einzuschließen. Das Transmissionselement ist dazu ausgebildet, Beleuchtung von einer Beleuchtungsquelle zu empfangen, um Plasma innerhalb des Gasvolumens zu erzeugen. Das Transmissionselement ist transparent für einen Teil der Beleuchtung von der Beleuchtungsquelle und einen Teil der vom Plasma emittierten Breitbandstrahlung.

    Berühungslose thermische Messungen von VUV-Optiken

    公开(公告)号:DE112016005450T5

    公开(公告)日:2018-08-23

    申请号:DE112016005450

    申请日:2016-11-29

    Abstract: Verfahren und Systeme zur Durchführung von berührungslosen Temperaturmessungen von optischen Elementen mit langwelligem Infrarotlicht werden hierin beschrieben. Die zu vermessenden optischen Elemente weisen ein geringes Emissionsvermögen gegenüber langwelligem Infrarotlicht auf und sind häufig für langwelliges Infrarotlicht stark reflektierend oder hochgradig durchlässig. Gemäß einem Aspekt ist eine Materialbeschichtung mit hohem Emissionsvermögen, geringer Reflektivität und geringer Transmission bei langwelligen IR-Wellenlängen über ausgewählten Bereichen von einem oder mehreren optischen Elementen eines Metrologie- oder Inspektionssystems angeordnet. Die Positionen der Materialbeschichtung liegen außerhalb des direkten Strahlengangs des primären Messlichts, das von dem Metrologie- oder Inspektionssystem verwendet wird, um Messungen einer Probe durchzuführen. Temperaturmessungen der vorderen und hinteren Oberflächen eines IR-transparenten optischen Elements werden mit einer einzigen IR-Kamera durchgeführt. Temperaturmessungen werden durch mehrere optische Elemente in einem Strahlengang eines primären Messstrahls durchgeführt.

    Breitbandlichtquelle mit transparentem Bereich hohen Hydroxidgehalts

    公开(公告)号:DE112015002079T5

    公开(公告)日:2017-01-26

    申请号:DE112015002079

    申请日:2015-04-30

    Abstract: Eine lasergestützte Plasmalichtquelle beinhaltet eine Plasmalampe, die dazu ausgebildet ist, ein Gasvolumen einzuschließen und Beleuchtung von einem Pumplaser zu empfangen, um ein Plasma zu erzeugen. Die Plasmalampe beinhaltet einen oder mehrere transparente Bereiche, welche für Beleuchtung von dem Pumplaser und zumindest einen Teil der vom Plasma emittierten Breitbandstrahlung transparent sind. Der eine oder die mehreren transparenten Bereiche sind aus einem transparenten Material gebildet, welches einen erhöhten Hydroxidgehalt über 700 ppm hat.

    SUB-200NM Laser gepumpter homonuklearer Excimerlaser

    公开(公告)号:DE112014005980T5

    公开(公告)日:2016-11-24

    申请号:DE112014005980

    申请日:2014-12-16

    Abstract: Es sind Verfahren und Vorrichtungen zum Erzeugen eines sub-200nm Dauerstrich (cw) Lasers offenbart. Eine Laser-Vorrichtung umfasst eine Kammer zum Aufnehmen mindestens eines Edelgases oder von Edelgasgemischen und eine Pumplaserquelle zum Erzeugen mindestens eines CW-Pumplasers, der in der Kammer zum Erzeugen von mindestens einem mit einem Laser aufrecht erhaltenen Plasma in der Kammer fokussiert ist. Die Laser-Vorrichtung umfasst zudem ein System zum Ausbilden einer optischen Kavität, in der das mindestens eine mit einem Laser aufrecht erhaltene Plasma als eine Anregungsquelle dient zum Produzieren mindestens eines CW-Lasers mit einer Wellenlänge, die weniger als ungefähr 200 nm beträgt. Bei einem Aspekt hat das mindestens eine mit einem Laser aufrecht erhaltene Plasma eine Form, die im Wesentlichen einer Form der optischen Kavität entspricht.

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