公开(公告)号：DE112012002689T5

公开(公告)日：2014-03-20

申请号：DE112012002689

申请日：2012-06-25

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： BEZEL ILYA V ,  SHCHEMELININ ANOTOLY ,  ZHAO YANMING ,  DERSTINE MATTHEW W

IPC: H01S3/097 ,  G02B26/00

Abstract: Es ist eine Vorrichtung zur Korrektur von in einer Plasmazelle erzeugten Aberrationen offenbart. Die Vorrichtung umfasst eine Lichtquelle zum Erzeugen einer Beleuchtung. Ferner ist eine Plasmazelle vorgesehen, wobei die Plasmazelle einen Kolben für ein Gasvolumen besitzt. Eine Ellipse ist derart ausgebildet, dass eine Beleuchtung von der Beleuchtungsquelle in das Gasvolumen fokussierbar ist, um ein Plasma innerhalb des Gasvolumens zu erzeugen. Ein oder mehrere adaptive optische Elemente sind derart konfiguriert, dass Aberrationen von einem oder mehreren optischen Elementen kompensiert werden, wobei das eine oder die mehreren adaptiven optischen Elemente entlang eines Beleuchtungspfads zwischen der Lichtquelle und der Plasmazelle angeordnet sind.