公开(公告)号：DE112016000853B4

公开(公告)日：2024-10-24

申请号：DE112016000853

申请日：2016-02-10

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： KRISHNAN SHANKAR ,  ZHUANG GUORONG VERA ,  WANG DAVID Y ,  LIU XUEFENG

IPC: H01L21/66 ,  G01R31/265 ,  G01R31/311

Abstract: Metrologiesystem (100), umfassend:eine Beleuchtungsquelle (110), dazu ausgebildet, eine Menge an Beleuchtungslicht (114) zu erzeugen;ein Beleuchtungsoptik-Subsystem, dazu ausgebildet, die Menge an Beleuchtungslicht (114) von der Beleuchtungsquelle (110) unter einem odermehreren Einfallswinkeln (α) innerhalb einer Einfallsebene auf einen Messbereich (116) auf einer Oberfläche einer der Vermessung unterzogenen Probe (115) zu richten;einen Detektor (123), der eine planare, zweidimensionale Oberfläche hat, welche auf einfallendes Licht empfindlich ist, wobei der Detektor (123) dazu ausgebildet ist, eine Vielzahl an Ausgangssignalen, die eine Antwort der Probe (115) auf die Menge an Beleuchtungslicht (114) anzeigen, zu erzeugen, indem Ladung über eine Vielzahl an Pixeln in einer Richtung senkrecht zu einer Richtung der Wellenlängendispersion auf der Detektoroberfläche integriert wird; undein Erfassungsoptik-Subsystem, dazu ausgebildet, eine Menge an erfasstem Licht (117) von dem Messbereich (116) auf der Oberfläche der Probe (115) zu erfassen und die Menge an erfasstem Licht (117) auf die Oberfläche des Detektors (123) zu richten, wobei das Erfassungsoptik-Subsystem den Messbereich (116) derart auf die Oberfläche des Detektors (123) abbildet, dass eine Richtung, welche auf der Waferoberfläche in der Einfallsebene ausgerichtet ist, auf der Detektoroberfläche senkrecht zu der Richtung der Wellenlängendispersion orientiert ist.

公开(公告)号：SG11201706232UA

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：SG11201706232U

申请日：2016-02-10

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： KRISHNAN SHANKAR ,  ZHUANG GUORONG VERA ,  WANG DAVID Y ,  LIU XUEFENG

IPC: H01L21/66

Abstract: Methods and systems for performing broadband spectroscopic metrology with reduced sensitivity to focus errors are presented herein. Significant reductions in sensitivity to focus position error are achieved by imaging the measurement spot onto the detector such that the direction aligned with the plane of incidence on the wafer surface is oriented perpendicular to the direction of wavelength dispersion on the detector surface. This reduction in focus error sensitivity enables reduced focus accuracy and repeatability requirements, faster focus times, and reduced sensitivity to wavelength errors without compromising measurement accuracy. In a further aspect, the dimension of illumination field projected on the wafer plane in the direction perpendicular to the plane of incidence is adjusted to optimize the resulting measurement accuracy and speed based on the nature of target under measurement.

公开(公告)号：DE112016000853T5

公开(公告)日：2017-11-09

申请号：DE112016000853

申请日：2016-02-10

Applicant: KLA TENCOR CORP

Inventor： KRISHNAN SHANKAR ,  ZHUANG GUORONG VERA ,  LIU XUEFENG ,  WANG DAVID Y

IPC: H01L21/66

Abstract: Verfahren und Systeme zur Durchführung breitbandiger spektroskopischer Metrologie mit reduzierter Empfindlichkeit gegenüber Fokus-Fehlern werden hierin vorgestellt. Signifikante Reduzierungen der Empfindlichkeit gegen einen Fehler in der Fokusposition werden erzielt, indem der Messbereich auf den Detektor derart abgebildet wird, dass die Richtung, die auf der Waferoberfläche in der Einfallsebene ausgerichtet ist, senkrecht zu der Richtung der Wellenlängendispersion auf der Detektoroberfläche orientiert ist. Diese Reduktion in der Fokus-Fehler-Empfindlichkeit ermöglicht verringerte Anforderungen an die Fokus-Genauigkeit und -Wiederholbarkeit, kürzere Fokussierzeiten und reduzierte Empfindlichkeit gegenüber Wellenlängenfehlern, ohne die Messgenauigkeit zu beeinträchtigen. In einem weiteren Aspekt wird die Abmessung des auf die Waferebene projizierten Beleuchtungsfeldes in der Richtung senkrecht zu der Einfallsebene angepasst, um die sich ergebende Messgenauigkeit und Geschwindigkeit basierend auf der Art des vermessenen Zieles zu optimieren.