公开(公告)号：KR20200139800A

公开(公告)日：2020-12-14

申请号：KR20207032077

申请日：2019-04-03

Applicant: LAM RES CORP

Inventor： FENG YE ,  MAILFERT JULIEN ,  LU YANG ,  ALDEN EMILY ANN ,  GAO LISHENG ,  FRIED DAVID M ,  SIMON DANIEL ANTHONY ,  BAILEY III ANDREW D

IPC: G06F30/367 ,  G06F119/18

Abstract: 반도체디바이스제조동작을특징으로하는프로세스파라미터값들을프로세싱하기위해반도체디바이스제조동작의결과를예측하는프로세스시뮬레이션모델을최적화하는컴퓨터-구현된방법들이개시된다. 방법들은반도체디바이스제조동작의컴퓨터로예측된결과및 적어도부분적으로, 고정된프로세스파라미터값들의세트하에서동작하는반응챔버에서반도체디바이스제조동작을수행함으로써생성된계측결과를사용하여비용값들을생성하는단계를수반한다. 프로세스시뮬레이션모델의파라미터들의결정은프로파일계측결과들에대한파라미터들의결과적인프로세스-후프로파일들의최적화를통해, 프로세스-전프로파일들을채용할수도있다. 예를들어, 광학산란법 (optical scatterometry), 주사전자현미경법 (scanning electron microscopy) 및투과전자현미경법 (transmission electron microscopy) 에대한비용값들이최적화를가이드하기위해사용될수도있다.

公开(公告)号：KR20200131342A

公开(公告)日：2020-11-23

申请号：KR20207032376

申请日：2019-04-08

Applicant: LAM RES CORP

Inventor： SRIRAMAN SARAVANAPRIYAN ,  FRIED DAVID M

IPC: H01L21/3065 ,  G03F1/80 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/311 ,  H01L21/66

Abstract: 컴퓨터구현된방법들및 컴퓨터프로그램제품들이포토리소그래피에의해생성된피처들에대한리소그래피포토마스크들상의세그먼트들과관련한전달함수들을생성하고이러한세그먼트들을사용하여에칭하는인스트럭션들을갖는다. 이러한방법들은이하의요소들: (a) 레지스트가도포되고설계레이아웃세그먼트들의세트를사용하여패터닝된하나이상의제 1 테스트기판들로부터생성된현상검사후 계측법결과들을수신하는단계; (b) 레지스트가도포되고설계레이아웃세그먼트들의세트를사용하여패터닝된후 에칭된하나이상의제 2 테스트기판들로부터생성된에칭검사후 계측법결과들을수신하는단계; 및 (c) 대응하는현상검사후 계측법결과들및 대응하는에칭검사후 계측법결과들과함께설계레이아웃세그먼트들의세트를사용하여전달함수를생성하는단계를특징으로할 수도있다.