公开(公告)号：KR20200139800A

公开(公告)日：2020-12-14

申请号：KR20207032077

申请日：2019-04-03

Applicant: LAM RES CORP

Inventor： FENG YE ,  MAILFERT JULIEN ,  LU YANG ,  ALDEN EMILY ANN ,  GAO LISHENG ,  FRIED DAVID M ,  SIMON DANIEL ANTHONY ,  BAILEY III ANDREW D

IPC: G06F30/367 ,  G06F119/18

Abstract: 반도체디바이스제조동작을특징으로하는프로세스파라미터값들을프로세싱하기위해반도체디바이스제조동작의결과를예측하는프로세스시뮬레이션모델을최적화하는컴퓨터-구현된방법들이개시된다. 방법들은반도체디바이스제조동작의컴퓨터로예측된결과및 적어도부분적으로, 고정된프로세스파라미터값들의세트하에서동작하는반응챔버에서반도체디바이스제조동작을수행함으로써생성된계측결과를사용하여비용값들을생성하는단계를수반한다. 프로세스시뮬레이션모델의파라미터들의결정은프로파일계측결과들에대한파라미터들의결과적인프로세스-후프로파일들의최적화를통해, 프로세스-전프로파일들을채용할수도있다. 예를들어, 광학산란법 (optical scatterometry), 주사전자현미경법 (scanning electron microscopy) 및투과전자현미경법 (transmission electron microscopy) 에대한비용값들이최적화를가이드하기위해사용될수도있다.