Método para conformar un diseño metálico sobre un sustrato

    公开(公告)号:ES2570737T3

    公开(公告)日:2016-05-20

    申请号:ES05712634

    申请日:2005-02-03

    Applicant: MACDERMID INC

    Abstract: Un método para producir un diseño metálico sobre un sustrato que comprende las etapas de: a) proporcionar una primera película fotosensible sobre el sustrato; b) proporcionar una segunda película fotosensible directamente sobre la primera película fotosensible; c) colocar una imagen negativa del diseño metálico deseado sobre la segunda película fotosensible y exponer la primera película fotosensible y la segunda película fotosensible a la radiación actínica; d) revelar las zonas no curadas de la primera película fotosensible y la segunda película fotosensible para producir una imagen negativa del diseño metálico deseado sobre el sustrato; e) depositar metal sobre el sustrato; y f) retirar la primera película fotosensible y la segunda película fotosensible del sustrato para dejar el diseño metálico sobre el sustrato, donde la primera película fotosensible tiene un tiempo de revelado más rápido que la segunda película fotosensible caracterizado por que el tiempo de residencia de revelado (en H carbonato de potasio al 1 % a 32 ºC (90 ºF)) de la primera película fotosensible está comprendido entre 40 y 60 segundos y el tiempo de residencia de revelado de la segunda película fotosensible está comprendido entre 80 y 120 segundos.

    METHOD OF FORMING A METAL PATTERN ON A SUBSTRATE
    2.
    发明申请
    METHOD OF FORMING A METAL PATTERN ON A SUBSTRATE 审中-公开
    在基材上形成金属图案的方法

    公开(公告)号:WO2005103824A3

    公开(公告)日:2006-12-21

    申请号:PCT/US2005003260

    申请日:2005-02-03

    Applicant: MACDERMID INC

    CPC classification number: H05K3/048 G03F7/027 G03F7/0955 H05K2203/0577

    Abstract: The invention relates to a method of providing two distinct photoimageable film compositions, in particular, two distinct dry film compositions, on a substrate. Each of the two photoimageable film compositions is selected to have a different developing speed and/or curing speed so that, after development, the top layer of photoimageable film overhangs the bottom layer of photoimageable film. A metal layer is subsequently deposited over the surface of the substrate. The overhang allows for the clean removal of the photoimageable film layers, without damage to the subsequently applied metal layer, because the overhand prevents the metal layer from making intimate contact with the photoimageable film layers along the interface of the substrate with the photoimageable film layers.

    Abstract translation: 本发明涉及在基材上提供两种不同的可光成像薄膜组合物,特别是两种不同的干膜组合物的方法。 选择两种可光成像膜组合物中的每一种具有不同的显影速度和/或固化速度,使得在显影之后,可光成像膜的顶层突出于可光成像膜的底层。 金属层随后沉积在衬底的表面上。 突出部分允许清洁地去除可光成象的膜层,而不会损坏随后施加的金属层,因为过度防止金属层沿着基板与可光成像的膜层的界面与可光成像的膜层紧密接触。

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