Proceso para chapar cromo a partir de un baño de chapado de cromo trivalente

    公开(公告)号:ES2712725T3

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:ES09823983

    申请日:2009-09-24

    Applicant: MACDERMID INC

    Abstract: Un proceso para chapar metal cromo sobre un sustrato, comprendiendo dicho proceso poner en contacto el sustrato con una solución de chapado que comprende: (a) iones cromo trivalentes; (b) iones sulfato y/o iones sulfonato; e (c) iones manganeso; en donde el sustrato se hace el cátodo y se usan ánodos insolubles; en donde la concentración de iones manganeso es de 0,05 a 0,7 g/l.

    PROCESS FOR PLATING CHROMIUM FROM A TRIVALENT CHROMIUM PLATING BATH
    3.
    发明公开
    PROCESS FOR PLATING CHROMIUM FROM A TRIVALENT CHROMIUM PLATING BATH 审中-公开
    从三质含铬分离浴中分离铬的方法

    公开(公告)号:EP2350354A4

    公开(公告)日:2015-03-11

    申请号:EP09823983

    申请日:2009-09-24

    Applicant: MACDERMID INC

    CPC classification number: C25D3/06

    Abstract: A plating process for plating chromium metal onto substrates is disclosed. The process uses a trivalent chromium plating bath with a sulfate and/or sulfonate matrix. The process also utilizes insoluble anodes. An addition of manganese ions to the plating bath inhibits the formation of detrimental hexavalent chromium ions upon use of the plating bath.

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