Abstract:
Un proceso para chapar metal cromo sobre un sustrato, comprendiendo dicho proceso poner en contacto el sustrato con una solución de chapado que comprende: (a) iones cromo trivalentes; (b) iones sulfato y/o iones sulfonato; e (c) iones manganeso; en donde el sustrato se hace el cátodo y se usan ánodos insolubles; en donde la concentración de iones manganeso es de 0,05 a 0,7 g/l.
Abstract:
A plating process for plating chromium metal onto substrates is disclosed. The process uses a trivalent chromium plating bath with a sulfate and/or sulfonate matrix. The process also utilizes insoluble anodes. An addition of manganese ions to the plating bath inhibits the formation of detrimental hexavalent chromium ions upon use of the plating bath.