Abstract:
Pulse reverse electrolysis of acid copper solutions is used for applying copper to printing cylinders, especially gravure printing cylinders. The plating composition generally comprising copper ions, counter ions, chloride ions, a polyalkylene glycol, and a bath-soluble divalent sulfur compound. The benefits include an improved thickness distribution of the copper electrodeposited on the plated article, reduced metal waste, reduced plating times and increased production capacity.
Abstract:
Pulse reverse electrolysis of acid copper solutions is used for applying copper deposits of a controlled hardness for applications such as producing printing cylinders. The benefits include improved production capacity. Hardness of the deposit is controlled by varying at least one factor selected from the group consisting of (i) cathodic pulse time, (ii) anodic pulse time, (iii) cathodic pulse current density, and (iv) anodic pulse current density. Preferably the ratio of cathodic pulse time to anodic pulse tim is varied. The figure illustrates variation of deposit hardness with reverse (anodic) pulse time.
Abstract:
The present invention is directed to an improved copper plating bath for depositing a copper layer onto a printing cylinder, the copper plating bath comprising: (a) a source, of copper ions; (b) a source of methane sulphonate ions; (c) a source of chloride ions; (d)an organosulphur compound having the formula R-S-R' -SO 3 "X + or X + -O 3 S-R'S-R-S-R' -SO 3 - X + , wherein R is alkyl, hydroxyalkyl or alkyl ether, R' is a C 2 -C 4 alkyl group, and X + is a cation; and (e) a polyether compound and method of using the same. The copper plating bath produces a plating deposit that has a stable hardness and is free from self-annealing during high speed plating.
Abstract:
The present invention relates to a method for depositing an adherent zinc coating onto a zinc-containing magnesium alloy substrate in order to render the surface suitable for electroplating. The coatings are applied from a pyrophosphate-based zinc electrolyte solution containing a small quantity of fluoride ions. Depending on the zinc and aluminum content of the magnesium alloy, the zinc electrolyte solution is applied by immersion deposition or electrolytically.
Abstract:
Baño electrolítico acuoso alcalino capaz de depositar por galvanoplastia una aleación de cinc y níquel, que comprende: (i) iones de cinc; (ii) iones de níquel; (iii) como mínimo, un agente complejante no polimérico capaz de complejar los iones de níquel y que comprende trietanolamina y N,N,N',N'-tetraquis-hidroxiisopropiletilendiamina; (iv) como mínimo, un polímero basado en urea seleccionado entre el grupo que consiste en (a) polímero de N,N'- bis[3-(dialquilamino)alquil]urea con 1,4-[2-haloalcano], o (b) polímero de N,N'-bis[3-(dialquilamino)alquil]urea con 1,1'-oxibis[2-haloalcano], en el que para (a) o (b) los grupos funcionales alquilo se seleccionan entre el grupo que consiste en metilo, etilo, propilo, butilo, pentilo y hexilo, y el grupo funcional halógeno se selecciona entre el grupo que consiste en cloro, bromo, flúor y yodo, y (c) copolímeros aleatorios que comprenden el producto de reacción de (1) una o más aminas diterciarias, que incluyen un grupo funcional amida o tioamida, y (2) una o más segundas aminas diterciarias, que incluyen un resto insaturado, con (3) uno o más primeros agentes de unión capaces de reaccionar con dichas aminas (1) y (2); con la condición de que el baño electrolítico alcalino acuoso no contenga complejantes oligoméricos y poliméricos.
Abstract:
Un proceso para chapar metal cromo sobre un sustrato, comprendiendo dicho proceso poner en contacto el sustrato con una solución de chapado que comprende: (a) iones cromo trivalentes; (b) iones sulfato y/o iones sulfonato; e (c) iones manganeso; en donde el sustrato se hace el cátodo y se usan ánodos insolubles; en donde la concentración de iones manganeso es de 0,05 a 0,7 g/l.
Abstract:
Un método para proporcionar un depósito metalizado sobre un artículo de aleación de magnesio, donde seeliminan las etapas intermedias de ataque químico y decapado, comprendiendo el método las etapas de: a) limpiar el artículo de aleación de magnesio en una disolución de limpieza alcalina, donde no se lleva a caboataque químico de la aleación de magnesio; b) aplicar una capa de cinc sobre el artículo de aleación de magnesio limpio por medio de deposición porinmersión o electrodeposición en una disolución de revestimiento de cinc; y c) aplicar un revestimiento metálico a partir de una disolución de electrolito que sea compatible con la superficiede magnesio revestida con cinc, donde la aleación de magnesio contiene menos de un 9 % de aluminio y un 0,2-20 % de cinc.
Abstract:
Un baño de chapado de cobre para depositar una capa de cobre sobre un cilindro de impresión, comprendiendo elbaño de chapado de cobre: a) una fuente de iones de cobre; b) una fuente de iones metanosulfonato; c) una fuente de iones cloruro; d) un compuesto organosulfurado que tiene la fórmula R-S-R'-SO3 -X+ o X+-O3S-R'-S-R-S-R'-SO3 -X+, donde R es alquilo, hidroxialquilo o éter de alquilo, R' es un grupo alquilo C2-C4 y X+ es un catión; y e) un compuesto poliéter.
Abstract:
Pulse reverse electrolysis of acid copper solutions is used for applying copper to printing cylinders, especially gravure printing cylinders. The plating composition generally comprising copper ions, counter ions, chloride ions, a polyalkylene glycol, and a bath-soluble divalent sulfur compound. The benefits include an improved thickness distribution of the copper electrodeposited on the plated article, reduced metal waste, reduced plating times and increased production capacity.