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公开(公告)号：CN102159749B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200980136558.X
申请日：2009-07-29
Applicant: NEC东金株式会社
CPC classification number: H01F41/24 , C01G49/0018 , C23C18/12 , C23C18/1216 , Y10T428/2495 , Y10T428/26
Abstract: 本发明提供一种具备基体(3)和附着在该基体(3)上的铁素体膜的铁素体附着体及制造该铁素体附着体的制造方法。该制造方法中，在基体(3)的背面侧以空出100μm以上的空间的状态支承基体(3)，将至少含有第一铁离子的反应液和至少含有氧化剂的氧化液从反应液喷嘴(1)及氧化液喷嘴(2)向基体(3)的正面侧供给，对反应液和所述氧化液施加由重力以外的因素引起的2～150m/s2的加速度。
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公开(公告)号：CN102159749A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200980136558.X
申请日：2009-07-29
Applicant: NEC东金株式会社
CPC classification number: H01F41/24 , C01G49/0018 , C23C18/12 , C23C18/1216 , Y10T428/2495 , Y10T428/26
Abstract: 本发明提供一种具备基体(3)和附着在该基体(3)上的铁素体膜的铁素体附着体及制造该铁素体附着体的制造方法。该制造方法中，在基体(3)的背面侧以空出100μm以上的空间的状态支承基体(3)，将至少含有第一铁离子的反应液和至少含有氧化剂的氧化液从反应液喷嘴(1)及氧化液喷嘴(2)向基体(3)的正面侧供给，对反应液和所述氧化液施加由重力以外的因素引起的2～150m/s2的加速度。
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公开(公告)号：CN102209997B
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN200980144535.3
申请日：2009-07-29
Applicant: NEC东金株式会社
CPC classification number: H01F41/24 , C23C18/00 , H01F10/20 , H01F10/265 , H01F41/14 , H05K9/0075 , Y10T428/24975 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明提供一种在基体上附着磁性膜而成的磁性膜附着体的制造方法。该制造方法具备：准备基体的工序和在基体上形成包含交替地层叠的有机物膜及铁氧体膜的磁性膜的工序。在该制造方法中，形成磁性膜的工序交替地进行利用铁氧体镀膜法形成具有20μm以下的膜厚的铁氧体膜的工序和形成有机物膜的工序，该有机物膜是具有0.1μm以上20μm以下的膜厚的有机物膜，该有机物膜的膜厚t与杨氏模量E的比t/E为0.025μm/GPa以上。
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公开(公告)号：CN102209997A
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN200980144535.3
申请日：2009-07-29
Applicant: NEC东金株式会社
CPC classification number: H01F41/24 , C23C18/00 , H01F10/20 , H01F10/265 , H01F41/14 , H05K9/0075 , Y10T428/24975 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明提供一种在基体上附着磁性膜而成的磁性膜附着体的制造方法。该制造方法具备：准备基体的工序和在基体上形成包含交替地层叠的有机物膜及铁氧体膜的磁性膜的工序。在该制造方法中，形成磁性膜的工序交替地进行利用铁氧体镀膜法形成具有20μm以下的膜厚的铁氧体膜的工序和形成有机物膜的工序，该有机物膜是具有0.1μm以上20μm以下的膜厚的有机物膜，该有机物膜的膜厚t与杨氏模量E的比t/E为0.025μm/GPa以上。
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