Abstract:
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren (300) zum Ermitteln der Permeabilitäteiner dielektrischen Schicht (108) eines optoelektronischen Bauelementes, das Verfahren (300) aufweisend: Messen einer elektrischen Stromstärke durch eine dielektrische Schicht (108); und Ermitteln der Permeabilität der dielektrischen Schicht (108) aus der gemessenen Stromstärke, wobei die gemessene elektrische Stromstärke eine Funktion der Permeabilität der dielektrischen Schicht (108) bezüglich wenigstens Wasser und/oder Sauerstoff ist.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines elektronischen Bauelements mit zumindest einem ersten Elektrodenbereich (21) und einem zweiten Elektrodenbereich (23), die durch einen Isolator (9) voneinander getrennt sind und jeweils zumindest eine Teilschicht eines ersten elektrisch leitfähigen Materials aufweisen. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner ein elektronisches Bauelement, welches mit dem erfindungsgemäßen Verfahren herstellbar ist.
Abstract:
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird eine organische, optoelektronische, Bauelementevorrichtung (100, 110, 120, 130, 300) bereitgestellt, die organische, optoelektronische Bauelementevorrichtung (100, 110, 120, 130, 300) aufweisend: einen Träger (202); ein organisches, optoelektronisches Bauelement (106), aufweisend eine erste Elektrode und eine zweite Elektrode; und eine Überspannungsschutz-Struktur (108, 114, 610), aufweisend einen ersten elektrisch leitfähigen Abschnitt und einen zweiten elektrisch leitfähigen Abschnitt; wobei das organische, optoelektronische Bauelement (106) und die Überspannungsschutz-Struktur (108, 114, 610) auf oder über dem Träger (202) ausgebildet sind; wobei die Überspannungsschutz-Struktur (108, 114, 610) und das organische, optoelektronische Bauelement (106) wenigstens eine gemeinsame Schicht aufweisen; und wobei die Überspannungsschutz-Struktur (108, 114, 610) elektrisch mit dem organischen, optoelektronischen Bauelement (106) verbunden ist, wobei der erste elektrisch leitfähige Abschnitt ein Bereich der ersten Elektrode ist und/oder der zweite elektrisch leitfähige Abschnitt ein Bereich der zweiten Elektrode ist; und wobei die Überspannungsschutz-Struktur (108, 114, 610) eine Funkenstrecke aufweist.
Abstract:
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren zum Herstellen eines passiven elektronischen Bauelements bereitgestellt. Dabei wird eine erste elektrisch leitfähige Schicht (12) auf einem Substrat (10) ausgebildet. Eine zweite elektrisch leitfähige Schicht (14) wird auf der ersten elektrisch leitfähigen Schicht (12) ausgebildet. In der ersten und zweiten elektrisch leitfähigen Schicht (12, 14) wird ein erster Graben (24) so ausgebildet, dass das Substrat (10) in dem ersten Graben (24) frei gelegt ist, wobei der erste Graben (24) einen ersten Kontaktbereich (16) von einem zweiten Kontaktbereich (18) abgrenzt. Ein Dielektrikum (28) wird derart strukturiert auf die zweite elektrisch leitfähige Schicht (14) in dem ersten Kontaktbereich (16) und zumindest teilweise auf das Substrat (10) in dem ersten Graben (24) aufgebracht, dass das Dielektrikum (28) den ersten Kontaktbereich (16) gegenüber dem zweiten Kontaktbereich (18) elektrisch isoliert. Eine elektrisch leitfähige Elektrodenschicht (38) wird über dem ersten Kontaktbereich (16) auf das Dielektrikum (28) und auf den zweiten Kontaktbereich (18) strukturiert aufgebracht.
Abstract:
The present disclosure relates to an optoelectronic device, in particular to an arrangement for contacting an optoelectronic device. The optoelectronic device (200) includes an elastic electrode (208). A method for forming the elastic electrode (208) is described.
Abstract:
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren zum Herstellen einer optoelektronischen Baugruppe bereitgestellt. Die optoelektronische Baugruppe weist ein erstes optoelektronisches Bauelement und mindestens ein zweites optoelektronisches Bauelement, das mit dem ersten optoelektronischen Bauelement in Reihe geschaltet ist, auf. Bei dem Verfahren wird ein Substrat (10) bereitgestellt. Eine erste elektrisch leitfähige Schicht (12) wird auf dem Substrat (10) ausgebildet. Eine zweite elektrisch leitfähige Schicht (14) wird auf der ersten elektrisch leitfähigen Schicht (12) ausgebildet. Ein Isolatormaterial wird derart strukturiert auf die zweite elektrisch leitfähige Schicht (14) und das Substrat (10) aufgebracht, dass von dem Isolatormaterial gebildet sind: mindestens ein erster Isolatorbereich (28), der einen ersten Bauelementbereich (16) zum Anordnen des ersten optoelektronischen Bauelements gegenüber einem zweiten Bauelementbereich (18) zum Anordnen des zweiten optoelektronischen Bauelements elektrisch isoliert, ein zweiter Isolatorbereich (30), der den zweiten Bauelementbereich (18) gegenüber einem ersten Kontaktbereich (36) elektrisch isoliert, ein dritter Isolatorbereich (32), der auf einer von dem ersten Isolatorbereich (28) abgewandten Seite des ersten Bauelementbereichs (16) angeordnet ist, und ein vierter Isolatorbereich (34), der auf einer von dem zweiten Isolatorbereich (30) abgewandten Seite des zweiten Bauelementbereichs (18) zwischen dem ersten und dem zweiten Isolatorbereich (28, 30) angeordnet ist, wobei zwischen dem ersten Isolatorbereich (28) und dem vierten Isolatorbereich (34) ein dritter Kontaktbereich (46) ausgebildet ist. In dem ersten Bauelementbereich (16) wird eine erste optisch funktionelle Schicht (52) ausgebildet und in dem zweiten Bauelementbereich (18) wird eine zweite optisch funktionelle Schicht (54) ausgebildet. Eine elektrisch leitfähige Elektrodenschicht wird derart strukturiert auf die optisch funktionellen Schichten (52, 54) und den ersten und den dritten Kontaktbereich (36, 46) aufgebracht, dass die erste optisch funktionelle Schicht (52) mit dem dritten Kontaktbereich (46) elektrisch gekoppelt ist und die zweite optisch funktionelle Schicht (54) mit dem ersten Kontaktbereich (36) elektrisch gekoppelt ist.
Abstract:
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein optoelektronisches Bauelement (100) bereitgestellt, das optoelektronische Bauelement (100) aufweisend: einen optisch aktiven Bereich (126), einen optisch inaktiven Bereich (128) und eine Kontaktfläche (116, 118); wobei die Kontaktfläche (116, 118) als elektrischer Kontakt des optoelektronischen Bauelementes (100) eingerichtet ist; wobei der optisch aktive Bereich (126) eine Elektrode (110, 114) aufweist; wobei die Kontaktfläche (116, 118) mit der Elektrode (110, 114) elektrisch verbunden ist; wobei ein Teil der Kontaktfläche (116, 118) in dem optisch aktiven Bereich (126) und ein Teil der Kontaktfläche (116, 118) in dem optisch inaktiven Bereich (128) angeordnet ist; wobei die Kontaktfläche (116, 118) die Elektrode (110, 114) wenigstens teilweise umgibt; und wobei der Anteil der Kontaktfläche (116, 118) in dem optisch inaktiven Bereich (128) kleiner ist als in dem optisch aktiven Bereich (126).
Abstract:
Es wird eine strahlungsemittierende Vorrichtung angegeben, die ein Substrat (10), zumindest eine organische funktionelle Schicht (100) auf dem Substrat (10) und eine zweite Elektrode (80) auf der zumindest einen organischen funktionellen Schicht (100) aufweist. Das Substrat (10) umfasst eine Kunststofffolie (1) und einen Metallfilm (3) und der Metallfilm (3) ist zwischen der Kunststofffolie (1) und der zumindest einen organischen funktionellen Schicht (100) angeordnet und als erste Elektrode eingerichtet. Es wird weiterhin ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Vorrichtung angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Strahlungsemittierende Vorrichtung mit einer ersten Elektrode (100), einer ersten Emissionsschicht (400), einer zweiten Emissionsschicht (410) und einer zweiten Elektrode (110). Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer strahlungsemittierenden Vorrichtung.
Abstract:
The composition of a organic (e.g. conducting polymer) solution is reformulated and the device upon which the organic solution is to be deposited is plasma treated to provide a more uniform and flat drying profile for the resulting dried film. This reformulation and treatment induces a more uniform and flatter profile when the reformulated organic solution is allowed to dry into a film on the treated device.