Abstract:
Halbleiterlaserarray (1) mit einer Mehrzahl von Halbleiterlasern (10) umfassend ein gemeinsames Substrat (20, 20n, 20p), das die gemeinsame Anode (A) der Mehrzahl von Halbleiterlasern (10) ist, wobei jeder Halbleiterlaser (10) jeweils einen pn-Übergangsbereich (110, 120, 130) zwischen der gemeinsamen Anode (A) und einer Kathodenkontaktschicht (30, 30n, 30p) aufweist und der pn-Übergangsbereich (110, 120, 130) eine p-dotierte Schicht (p) und eine n-dotierte Schicht (n) umfasst und die p-dotierte Schicht (p) des pn-Übergangsbereichs (110, 120, 130) dem Substrat (20, 20n, 20p) zugewandt ist. Die Halbleiterlaserarrayschaltungsanordnung umfasst solch ei Halbleiterlaserarray (1), dessen Laser (10) jeweils von einem Treiber (60) mit einem n-MOSFET (66) angesteuert werden.
Abstract:
In einer Ausführungsform ist der Halbleiterlaser (1) oberflächenmontierbar und umfasst eine Halbleiterschichtenfolge (2), die einen zur Erzeugung von Laserstrahlung (L) eingerichteten Erzeugungsbereich (22) zwischen einer p-Seite (p) und einer n-Seite (n) beinhaltet. Weiterhin umfasst der Halbleiterlaser zwei Kontaktflächen (31, 32) zur externen elektrischen Kontaktierung der p-Seite (p) und der n-Seite (n). Dabei ist der Erzeugungsbereich (22) dazu eingerichtet, gepulst mit zeitweisen Stromdichten von mindestens 30 A/mm 2 betrieben zu werden. Die Kontaktflächen (31, 32) befinden sich an derselben Seite der Halbleiterschichtenfolge (2) in einer gemeinsamen Ebene, sodass der Halbleiterlaser (1) bonddrahtfrei kontaktierbar ist.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Halbleiterbauteils (1) umfasst dieses einen epitaktisch gewachsenen Halbleiterkörper (2) mit mindestens einer aktiven Schicht (3). Weiterhin weist der Halbleiterkörper (2) des Halbleiterbauteils (1) mindestens eine Barriereschicht (4) auf, wobei die Barriereschicht (4) direkt an die aktive Schicht (3) grenzt. Entlang einer Variationsrichtung oder einer Längsrichtung (L), senkrecht zu einer Wachstumsrichtung (G) des Halbleiterkörpers (2), ist eine Materialzusammensetzung und/oder eine Schichtdicke der aktiven Schicht (3) und/oder der Barriereschicht (4) variiert. Durch die Variation der Materialzusammensetzung und/oder der Schichtdicke der aktiven Schicht (3) und/oder der Barriereschicht (4) ist eine Emissionswellenlänge (λ) einer in der aktiven Schicht (3) erzeugten Strahlung (R), ebenfalls entlang der Variationsrichtung oder entlang der Längsrichtung (L), eingestellt.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement angegeben, das zumindest ein anorganisches optoelektronisch aktives Halbleiterbauelement (10) mit einem aktiven Bereich (3), der geeignet ist, im Betrieb Licht abzustrahlen oder zu empfangen, und auf zumindest einem Oberflächenbereich (7) ein mittels Atomlagenabscheidung aufgebrachtes Versiegelungsmaterial (6), das den Oberflächenbereich (7) hermetisch dicht bedeckt, aufweist. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements angegeben.
Abstract:
Es wird ein oberflächenemittierender Halbleiterlaser mit einem Halbleiterkörper (1) angegeben, der mindestens zwei aktive Zonen (2) zur Emission von Laserstrahlung (13) aufweist, die durch einen Tunnelübergang (3) miteinander verbunden sind, und der einen außerhalb des Halbleiterkörpers (1) angeordneten externen Resonatorspiegel (11) zur Ausbildung eines Laserresonators aufweist, wobei in dem Laserresonator mindestens ein polarisationsselektives Element (4) angeordnet ist.
Abstract:
Es wird ein kantenemittierender Halbleiterlaserchip (1) angegeben, mit - zumindest einem Kontaktstreifen (2), wobei der Kontaktreifen (2) eine Breite B aufweist, - einer aktiven Zone (14), in der im Betrieb des Halbleiterlaserchips (1) elektromagnetische Strahlung erzeugt wird, - zumindest zwei Strombarrieren (4), die auf unterschiedlichen Seiten des Kontaktstreifens (2) angeordnet sind und sich längs des Kontaktstreifens (2) erstrecken, wobei der größte Abstand V zwischen zumindest einer der Strombarrieren (4) und dem Kontaktstreifen (3) derart gewählt ist, dass das Verhältnis von größtem Abstand V zur Breite B V/B > 1 ist.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Halbleiterlaservorrichtung mit einem optisch gepumpten oberflächenemittierenden Vertikalemitter (1), der in einer Vertikalhauptstrahlungsrichtung emittiert, und mindestens einer monolithisch integrierten Pumpstrahlungsquelle (2) zum optischen Pumpen des Vertikalemitters (1), wobei die Pumpstrahlungsquelle in einer Pumphauptstrahlungsrichtung, die quer zur Vertikalhauptstrahlungsrichtung verläuft, Pumpstrahlung emittiert. Die Halbleiterlaservorrichtung zeichnet sich gemäß einer ersten Ausführung dadurch aus, dass zumindest ein vertikaler Abschnitt der Pumpstrahlungsquelle (2) in einer Lateralrichtung quer zur Pumphauptstrahlungsrichtung und quer zur Vertikalhauptstrahlungsrichtung indexführend für Pumpstrahlung ausgeführt ist. In einer zweiten Ausführung ist die Halbleiterlaservorrichtung dadurch gekennzeichnet, dass die Pumpstrahlungsquelle (2) in zumindest einem vertikalen Abschnitt in einer Lateralrichtung quer zur Pumphauptstrahlungsrichtung eine geringere Breite aufweist als in einem weiteren vertikalen Abschnitt. Es wird auf diese Weise bei geeigneter Dimensionierung erreicht, dass Moden der Pumpstrahlung ganz oder zumindest teilweise in vertikaler Richtung aus diesem Abschnitt gedrängt wird, wodurch Absorptionsverluste der Pumpstrahlung an leitenden Schichten verringert werden können.
Abstract:
At least one embodiment of the optoelectronic semiconductor component (1) comprises an epitactically grown semiconductor body (2) having at least one active layer (3). The semiconductor body (2) of the semiconductor component (1) furthermore comprises at least one barrier layer (4), wherein the barrier layer (4) directly adjoins the active layer (3). In a variation direction or a longitudinal direction (L), perpendicular to a growth direction (G) of the semiconductor body (2), a material composition and/or a layer thickness of the active layer (3) and/or the barrier layer (4) is varied. Due to the variation of the material composition and/or the layer thickness of the active layer (3) and/or the barrier layer (4), an emission wavelength (λ) of a radiation (R) generated in the active layer (3), likewise in the variation direction or in the longitudinal direction (L), is set.
Abstract:
The invention relates to a semiconductor laser device comprising an optically pumped surface-emitting vertical emitter (1) which emits in a vertical main radiating direction, and at least one monolithically integrated pumping radiation source (2) for optically pumping the vertical emitter (1), the pumping radiation source emitting pumping radiation that extends transversal to the vertical main radiating direction. According to a first embodiment, the inventive semiconductor laser device is characterized in that at least one vertical section of the pumping radiation source (2) is configured so as to be index-guiding for pumping radiation in a lateral direction perpendicular to the main direction of pumping radiation and perpendicular to the vertical main radiating direction. In a second embodiment, the semiconductor laser device is characterized in that the pumping radiation source (2) has a smaller width in a lateral direction perpendicular to the main direction of pumping radiation in at least one vertical section than in another vertical section. If the dimensions are adequate, modes of the pumping radiation can thus be entirely or at least partly displaced from said section in a vertical direction, resulting in a reduction of absorption losses of the pumping radiation on conducting layers.