公开(公告)号：US3907621A

公开(公告)日：1975-09-23

申请号：US22744672

申请日：1972-02-18

Applicant: PHOTOCIRCUITS CORP

Inventor： POLICHETTE JOSEPH ,  LEECH EDWARD J ,  NUZZI FRANCIS J

IPC: C23C18/16 ,  C23C18/26 ,  C23C18/28 ,  H05K3/18 ,  H05K3/38 ,  C23C3/02 ,  C23F1/00

CPC classification number: H05K3/185 ,  C23C18/1605 ,  C23C18/1653 ,  C23C18/2086 ,  C23C18/26 ,  H05K3/181 ,  H05K3/182 ,  H05K3/381 ,  H05K3/387 ,  H05K2203/0783 ,  H05K2203/122

Abstract: There is provided a new process for the production of printed circuits. The process comprises coating a base with a layer of copper, nickel, cobalt or iron salts or salt compositions, which on exposure to radiant energy, such as heat, light, etc., thermal or chemical reducing agents are converted to a layer of metal nuclei that is non-conductive, but which is capable of catalyzing the deposition of metal onto the base from an electroless metal deposition solution in contact with the metal nuclei.

Abstract translation: 为生产印刷电路提供了新的工艺。 该方法包括用一层铜，镍，钴或铁盐或盐组合物涂覆碱，其在暴露于辐射能（例如热，光等）的情况下，将热或化学还原剂转化为金属层 核，其是非导电的，但是能够从与金属核接触的无电金属沉积溶液催化金属沉积到基底上。

公开(公告)号：US3347724A

公开(公告)日：1967-10-17

申请号：US39062364

申请日：1964-08-19

Applicant: PHOTOCIRCUITS CORP

Inventor： SCHNEBLE JR FREDERICK W ,  JOSEPH POLICHETTE ,  LEECH EDWARD J

IPC: C23C18/16 ,  H05K1/00 ,  H05K1/03 ,  H05K3/18

CPC classification number: H05K3/184 ,  C23C18/1605 ,  H05K1/0366 ,  H05K1/0373 ,  H05K1/0393 ,  H05K2201/0236 ,  Y10T428/2944 ,  Y10T442/3407

公开(公告)号：CA835579A

公开(公告)日：1970-02-24

申请号：CA835579D

Applicant: PHOTOCIRCUITS CORP

Inventor： SCHNEBLE FREDERICK W JR ,  LEECH EDWARD J ,  POLICHETTE JOSEPH

公开(公告)号：CA913829A

公开(公告)日：1972-10-31

申请号：CA913829D

Applicant: PHOTOCIRCUITS CORP

Inventor： SCHNEBLE FREDERICK W JR ,  POLICHETTE JOSEPH ,  LEECH EDWARD J

公开(公告)号：CA900072A

公开(公告)日：1972-05-09

申请号：CA900072D

Applicant: PHOTOCIRCUITS CORP

Inventor： SCHNEBLE FREDERICK W JR ,  LEECH EDWARD J ,  POLICHETTE JOSEPH

公开(公告)号：CA788414A

公开(公告)日：1968-06-25

申请号：CA788414D

Applicant: PHOTOCIRCUITS CORP

Inventor： POLICHETTE JOSEPH ,  LEECH EDWARD J ,  SCHNEBLE FREDERICK W JR

公开(公告)号：CA841243A

公开(公告)日：1970-05-05

申请号：CA841243D

Applicant: PHOTOCIRCUITS CORP

Inventor： POLICHETTE JOSEPH ,  SCHNEBLE FREDERICK W JR ,  LEECH EDWARD J

公开(公告)号：CA828039A

公开(公告)日：1969-11-25

申请号：CA828039D

Applicant: PHOTOCIRCUITS CORP

Inventor： LEECH EDWARD J ,  POLICHETTE JOSEPH ,  BROWN PHILIP A ,  SCHNEBLE FREDERICK W JR