-
公开(公告)号：JP2014237894A
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：JP2014153044
申请日：2014-07-28
Applicant: プランゼー エスエー , Plansee Se , プランゼー エスエー
Inventor： PETER POLCIK , CONRAD POLZER , MATTHIAS PERL , STEFAN SCHLICHTHERLE , GEORG STRAUSS
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F7/06 , B22F7/08 , C23C14/325 , H01J37/34 , H01J37/3426 , H01J37/3429
Abstract: 【課題】マグネトロンスパッタデポジションで安定したコーティングプロセスが実現される、あるいは、陰極アークデポジションでアーク速度の良好な制御が実現される、物理気相成長法用のコーティングソース及びその製法を提供する。【解決手段】粉末冶金製造プロセスにおいて少なくとも1つの粉末状出発材料から作成された少なくとも1つの構成要素2と、該構成要素内に設けられた少なくとも1つの強磁性領域5a,5bとを有する、物理気相成長法用のコーティングソース1が提供される。少なくとも1つの強磁性領域5a,5bは、少なくとも1つの永久磁石の領域であり、粉末冶金製造プロセスにおいて構成要素2に導入されて構成要素と結合される。【選択図】図2
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于物理气相生长方法的涂料源，其可以在磁控溅射沉积中实现稳定的涂覆工艺或对阴极电弧沉积中的电弧速度的良好控制，以及涂料源的制造方法。 提供了一种用于物理气相生长方法的涂料源1，其具有至少一种在粉末冶金制造工艺中由至少一种粉末型原料制备的组分2，以及至少一个铁磁区域5a和5b，其设置在组分 。 至少一个铁磁区域5a和5b是至少一个永磁体区域，并且在粉末冶金制造过程中被引入到组件2中并与组件组合。
-
公开(公告)号：US20160099134A1
公开(公告)日：2016-04-07
申请号：US14786226
申请日：2014-04-17
Applicant: PLANSEE SE
Inventor： MATTHIAS PERL , PETER POLCIK , CONRAD POLZER , STEFAN SCHLICHTHERLE , GEORG STRAUSS
CPC classification number: H01J37/3405 , C21B2100/44 , C21B2100/60 , C21B2100/62 , C21B2100/66 , C21C5/305 , C21C5/562 , C21C5/567 , C23C14/325 , C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/32055 , H01J37/32614 , H01J37/32669 , H01J37/3417 , Y02P10/216
Abstract: An arc evaporation coating source includes a target made of a coating material to be vapor-deposited, a ferromagnetic yoke for influencing the vapor deposition of the coating material to be vapor-deposited and at least one permanent-magnetic body for influencing the vapor deposition of the coating material to be vapor-deposited. The ferromagnetic yoke is disposed in contact with the target. The permanent-magnetic body is fastened to the target by the ferromagnetic yoke.
Abstract translation: 电弧蒸发涂覆源包括由待气相沉积的涂层材料制成的靶，用于影响待气相沉积的涂层材料的气相沉积的铁磁轭和用于影响气相沉积的至少一个永久磁体 要蒸镀的涂料。 铁磁轭被设置成与靶接触。 永磁体通过铁磁轭固定到靶上。
-
Search Results
2
records
(took 0.019 seconds)
