公开(公告)号：DE112020004169T5

公开(公告)日：2022-05-25

申请号：DE112020004169

申请日：2020-09-01

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： YUN WENBING ,  LEWIS SYLVIA JIA YUN ,  KIRZ JANOS ,  STRIPE BENJAMIN DONALD

IPC: G01N23/223

Abstract: Ein System und ein Verfahren verwenden Röntgenfluoreszenz zum Analysieren einer Probe durch Beleuchten einer Probe mit einem einfallenden Röntgenstrahl, der einen nahezu streifenden Einfallswinkel relativ zu einer Oberfläche der Probe aufweist, und während die Probe unterschiedliche Rotationsorientierungen relativ zu dem einfallenden Röntgenstrahl aufweist. Fluoreszenz-Röntgenstrahlen, die von der Probe als Reaktion auf den einfallenden Röntgenstrahl erzeugt werden, werden erfasst, während die Probe die unterschiedlichen Rotationsorientierungen aufweist.

公开(公告)号：DE112019003777T5

公开(公告)日：2021-04-08

申请号：DE112019003777

申请日：2019-07-22

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： YUN WENBING ,  LEWIS SYLVIA JIA YUN ,  KIRZ JANOS ,  HANSEN WILLIAM HENRY

IPC: H01J35/08 ,  H01J35/24 ,  H05G1/02

Abstract: Ein Röntgentarget, eine Röntgenquelle und ein Röntgensystem werden bereitgestellt. Das Röntgentarget enthält ein wärmeleitendes Substrat mit einer Oberfläche und mindestens einer Struktur auf oder eingebettet in mindestens einem Abschnitt der Oberfläche. Die mindestens eine Struktur enthält ein wärmeleitendes erstes Material, das in thermischer Verbindung mit dem Substrat steht. Das erste Material hat eine Länge entlang einer ersten Richtung parallel zu dem Abschnitt der Oberfläche in einem Bereich größer als 1 Millimeter und eine Breite entlang einer zweiten Richtung parallel zu dem Abschnitt der Oberfläche und senkrecht zu der ersten Richtung. Die Breite liegt in einem Bereich von 0,2 Millimetern bis 3 Millimetern. Die mindestens eine Struktur umfasst ferner mindestens eine Schicht über dem ersten Material. Die mindestens eine Schicht umfasst mindestens ein zweites Material, das sich von dem ersten Material unterscheidet. Die mindestens eine Schicht hat eine Dicke in einem Bereich von 2 Mikrometern bis 50 Mikrometern. Das mindestens eine zweite Material ist so konfiguriert, dass es bei Bestrahlung durch Elektronen mit Energien in einem Energiebereich von 0,5 keV bis 160 keV Röntgenstrahlen erzeugt.

公开(公告)号：DE112023001408T5

公开(公告)日：2025-02-13

申请号：DE112023001408

申请日：2023-03-01

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： YUN WENBING ,  VINE DAVID JOHN ,  LEWIS SYLVIA JIA YUN ,  GUL SHERAZ ,  KIRZ JANOS

IPC: G01N23/044 ,  G01N23/00

Abstract: Ein bildgebendes System für Röntgen-Computerlaminographie umfasst eine Transmissionsröntgenquelle , die so konfiguriert ist, dass sie Röntgenstrahlen erzeugt, wobei sich zumindest einige der Röntgenstrahlen entlang einer Röntgenausbreitungsachse durch einen Bereich von Interesse eines Objekts ausbreiten. Das System umfasst ferner eine Tischbaugruppe, die so konfiguriert ist, dass sie das Objekt um eine durch den interessierenden Bereich verlaufende Rotationsachse dreht. Das System umfasst ferner mindestens einen Röntgendetektor, der so konfiguriert ist, dass er mindestens einige der Röntgenstrahlen auffängt, die sich entlang der Röntgenausbreitungsachse ausbreiten. Der mindestens eine Röntgendetektor umfasst einen Szintillator, mindestens eine optische Linse und eine zweidimensionale gepixelte bildgebenden Schaltung. Der Szintillator hat eine Dicke, die im Wesentlichen parallel zur Röntgenausbreitungsachse verläuft, und die mindestens eine optische Linse ist so konfiguriert, dass sie sichtbares Licht vom Szintillator empfängt und das sichtbare Licht in ein zweidimensionales Bild fokussiert. Die mindestens eine optische Linse hat eine Abbildungstiefe, und die Dicke des Szintillators liegt in einem Bereich vom 1- bis 20-fachen der Abbildungstiefe.

公开(公告)号：DE112019004478T5

公开(公告)日：2021-07-08

申请号：DE112019004478

申请日：2019-09-04

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： YUN WENBING ,  KIRZ JANOS

IPC: G01N23/223

Abstract: Ein System zur Röntgenanalyse beinhaltet mindestens eine Röntgenstrahlungsquelle, die dazu konfiguriert ist, Röntgenstrahlen zu emittieren. Die mindestens eine Röntgenstrahlungsquelle beinhaltet mindestens eine Siliziumkarbid-Unterquelle auf mindestens einem wärmeleitfähigen Substrat oder in dieses eingebettet und dazu konfiguriert, die Röntgenstrahlen als Reaktion auf einen Elektronenbeschuss der mindestens einen Siliziumkarbid-Unterquelle zu generieren. Mindestens einige der Röntgenstrahlen, die von der mindestens einen Röntgenstrahlungsquelle emittiert werden, beinhalten Si-Röntgenemissionslinien-Röntgenstrahlen. Das System beinhaltet ferner mindestens eine röntgenoptische Anordnung, die dazu konfiguriert ist, die Si-Röntgenemissionslinien-Röntgenstrahlen zu empfangen und eine Probe mit mindestens einigen der Si-Röntgenemissionslinien-Röntgenstrahlen zu bestrahlen.

公开(公告)号：DE112023002079T5

公开(公告)日：2025-02-27

申请号：DE112023002079

申请日：2023-04-28

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： YUN WENBING ,  QIAO RUIMIN ,  LEWIS SYLVIA JIA YUN ,  SESHADRI SRIVATSAN ,  KIRZ JANOS ,  STRIPE BENJAMIN DONALD

IPC: G21K1/06 ,  G01N23/20 ,  G01N23/207 ,  G01N23/22

Abstract: Eine Vorrichtung ist derart konfiguriert, dass sie Röntgenstrahlen empfängt, die sich von einer Röntgenquelle ausbreiten. Die Vorrichtung umfasst einen ersten und einen zweiten Röntgendiffraktor, wobei der zweite Röntgendiffraktor dem ersten Röntgendiffraktor nachgeschaltet ist, sowie einen ersten und einen zweiten Röntgendetektor. Der erste Röntgendiffraktor ist derart konfiguriert, dass er die Röntgenstrahlen empfängt, ein erstes Spektralband der Röntgenstrahlen zum ersten Röntgendetektor beugt und mindestens 2% der empfangenen Röntgenstrahlen zum zweiten Röntgendiffraktor transmittiert. Der zweite Röntgendiffraktor ist derart konfiguriert, dass er die transmittierten Röntgenstrahlen vom ersten Röntgendiffraktor empfängt und ein zweites Spektralband der Röntgenstrahlen zum zweiten -Röntgendetektor beugt. Der erste Röntgendetektor ist derart konfiguriert, dass er ein erstes Spektrum des ersten Spektralbandes der Röntgenstrahlen detektiert, und der zweite Röntgendetektor ist derart konfiguriert, dass er ein zweites Spektrum des zweiten Spektralbandes der Röntgenstrahlen detektiert .

公开(公告)号：DE112019004433T5

公开(公告)日：2021-05-20

申请号：DE112019004433

申请日：2019-08-29

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： YUN WENBING ,  KIRZ JANOS ,  STRIPE BENJAMIN DONALD ,  LEWIS SYLVIA JIA YUN

IPC: G21K3/00 ,  G01N21/64

Abstract: Ein optischer Röntgenfilter beinhaltet mindestens einen optischen Röntgenspiegel, der dazu konfiguriert ist, mehrere Röntgenstrahlen mit einem ersten Röntgenspektrum mit einer ersten Intensität als Funktion der Energie in einem vorbestimmten Raumwinkelbereich zu empfangen und mindestens einen Teil der empfangenen Röntgenstrahlen durch Mehrschichtreflexion oder totale externe Reflexion in reflektierte Röntgenstrahlen und nicht reflektierte Röntgenstrahlen zu trennen und einen Röntgenstrahl zu bilden, der mindestens einen Teil der reflektierten Röntgenstrahlen und/oder mindestens einige der nicht reflektierten Röntgenstrahlen beinhaltet. Der Röntgenstrahl weist ein zweites Röntgenspektrum mit einer zweiten Intensität als Funktion der Energie im Raumwinkelbereich auf, wobei die zweite Intensität größer oder gleich 50 % der ersten Intensität über einen ersten kontinuierlichen Energiebereich mit einer Breite von mindestens 3 keV ist und die zweite Intensität kleiner oder gleich 10 % der ersten Intensität über einen zweiten kontinuierlichen Energiebereich mit einer Breite von mindestens 100 eV ist.

公开(公告)号：DE112023000574T5

公开(公告)日：2024-10-24

申请号：DE112023000574

申请日：2023-01-11

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： YUN WENBING ,  KIRZ JANOS

IPC: H01J35/14 ,  H01J35/16 ,  H05G1/02

Abstract: Eine Röntgenquelle umfasst mindestens ein Gehäuse, das so konfiguriert ist, dass es einen ersten Bereich mit einem Druck von weniger als einer Atmosphäre enthält und so konfiguriert ist, dass es den ersten Bereich von einer Umgebung außerhalb des mindestens einen Gehäuses trennt. Das mindestens eine Gehäuse enthält ein röntgendurchlässiges Fenster mit einer Röntgendurchlässigkeit von mehr als oder gleich 20% für mindestens einige Röntgenstrahlen mit einer Röntgenenergie von weniger als 1 keV. Die Röntgenquelle umfasst ferner eine Elektronenquelle innerhalb des mindestens einen Gehäuses. Die Elektronenquelle ist so konfiguriert, dass sie mindestens einen Elektronenstrahl erzeugt. Die Röntgenquelle umfasst ferner eine Anodenanordnung innerhalb des mindestens einen Gehäuses, die so konfiguriert ist, dass sie Röntgenstrahlen als Reaktion auf den Elektronenbeschuss durch mindestens einige der Elektronen des mindestens einen Elektronenstrahls aus der Elektronenquelle erzeugt. Die Röntgenquelle umfasst ferner mindestens eine Röntgenoptik innerhalb des mindestens einen Gehäuses. Die mindestens eine Röntgenoptik ist so konfiguriert, dass sie mindestens einen Teil der Röntgenstrahlen von der Anodenanordnung empfängt und mindestens einen Teil der empfangenen Röntgenstrahlen auf das Fenster richtet, um einen Röntgenstrahl zu bilden.

公开(公告)号：DE112019002822T5

公开(公告)日：2021-02-18

申请号：DE112019002822

申请日：2019-05-30

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： YUN WENBING ,  KIRZ JANOS ,  STRIPE BENJAMIN DONALD

IPC: G01N23/223

Abstract: Ein Röntgenspektrometer umfasst mindestens eine Röntgenoptik, die derart konfiguriert ist, dass sie Röntgenstrahlen mit einer einfallenden Intensitätsverteilung als Funktion der Röntgenstrahlenergie empfängt, und mindestens einen Röntgendetektor, der so konfiguriert ist, dass er Röntgenstrahlen von der mindestens einen Röntgenoptik empfängt und eine räumliche Verteilung der Röntgenstrahlen von der mindestens einen Röntgenoptik aufzeichnet. Die mindestens eine Röntgenoptik umfasst mindestens ein Substrat mit mindestens einer Oberfläche, die sich mindestens teilweise um und entlang einer Längsachse erstreckt. Ein Abstand zwischen der mindestens einen Oberfläche und der Längsachse in mindestens einer Querschnittsebene parallel zur Längsachse variiert als Funktion der Position entlang der Längsachse. Die mindestens eine Röntgenoptik umfasst ferner mindestens eine Mosaikkristallstruktur und/oder eine Vielzahl von Schichten auf oder über mindestens einem Teil der mindestens einen Oberfläche. Die Vielzahl von Schichten hat eine erste Vielzahl von ersten Schichten, die ein erstes Material umfassen, und eine zweite Vielzahl von zweiten Schichten, die ein zweites Material umfassen. Die ersten Schichten und die zweiten Schichten wechseln einander in einer Richtung ab, welche senkrecht zu der mindestens einen Oberfläche verläuft.

公开(公告)号：WO2015084466A3

公开(公告)日：2015-07-30

申请号：PCT/US2014056688

申请日：2014-09-19

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： YUN WENBING ,  LEWIS SYLVIA JIA YUN ,  KIRZ JANOS ,  LYON ALAN FRANCIS

IPC: H01J35/14 ,  H05G1/32

CPC classification number: H01J35/08 ,  H01J2235/084 ,  H01J2235/086

Abstract: This application discloses a compact source for high brightness x-ray generation. Higher brightness is achieved through electron beam bombardment of multiple regions aligned with each other to achieve a linear accumulation of x-rays. This is achieved by aligning discrete x-ray emitters, or through use of novel x-ray targets comprising a number of microstructures of x-ray generating materials fabricated in close thermal contact with a substrate with high thermal conductivity. This allows heat to be more efficiently drawn out of the x-ray generating material, and allows bombardment of this material with higher electron density and/or higher energy electrons, leading to greater x-ray brightness. The orientation of the microstructures allows the use of an on-axis collection angle, allowing accumulation of x-rays from several microstructures to be aligned, appearing to have a single origin, also known as "zero-angle" x-ray emission.

Abstract translation: 本申请公开了一种用于高亮度x射线产生的紧凑型光源。 通过彼此对准的多个区域的电子束轰击实现更高的亮度，以实现x射线的线性积累。 这通过对准离散的x射线发射器，或者通过使用包含多个与具有高热导率的基板紧密热接触制造的x射线产生材料的微结构的新型x射线靶来实现。 这样可以更有效地将热量从X射线产生材料中拉出，并允许以更高电子密度和/或更高能量的电子轰击该材料，导致更大的x射线亮度。 微结构的方向允许使用轴上收集角，允许来自若干微结构的X射线的聚集被对准，看起来具有单一原点，也称为“零角”x射线发射。

公开(公告)号：WO2015187219A8

公开(公告)日：2017-01-05

申请号：PCT/US2015018553

申请日：2015-03-03

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： LEWIS SYLVIA JIA YUN ,  YUN WENBING ,  KIRZ JANOS ,  LYON ALAN FRANCIS

IPC: G01N23/083 ,  G01T1/16

CPC classification number: G01N23/063 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064 ,  H01J35/08 ,  H01J2235/086 ,  H01J2235/087

Abstract: This disclosure presents systems for x-ray absorption fine structure (XAFS) measurements that have x-ray flux and flux density several orders of magnitude greater than existing compact systems; for applications of x-ray absorption near-edge spectroscopy (XANES) or extended x-ray fine absorption structure (EXFAS) spectroscopy. The higher brightness is achieved using designs for x-ray targets that comprise aligned microstructures of x-ray generating materials fabricated in close thermal contact with a substrate having high thermal conductivity. This allows for bombardment with higher electron density and/or higher energy electrons, leading to greater x-ray brightness and high flux. The high brightness x-ray source is coupled to an x-ray reflecting optical system to collimate the x-rays, and a monochromator, which selects the exposure energy. Absorption spectra of samples using the high flux monochromatic x-rays can be made using standard detection techniques.

Abstract translation: 本公开提供了具有比现有紧凑系统大几个数量级的x射线通量和通量密度的x射线吸收精细结构（XAFS）测量系统; 用于X射线吸收近边缘光谱（XANES）或扩展X射线精细吸收结构（EXFAS）光谱学的应用。 使用包括与具有高导热性的基板紧密热接触制造的x射线产生材料的对准微结构的x射线靶的设计来实现更高的亮度。 这允许用更高电子密度和/或更高能量的电子进行轰击，导致更大的x射线亮度和高通量。 高亮度x射线源耦合到x射线反射光学系统以准直x射线，以及选择曝光能量的单色仪。 使用高通量单色x射线的样品的吸收光谱可以使用标准检测技术进行。