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公开(公告)号：CN102369306A
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：CN201080015804.9
申请日：2010-03-30
Applicant: 韩商SNU精密股份有限公司
CPC classification number: C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种用于沉积一薄膜的装置、一种适用于所述装置的用于沉积一薄膜的方法、以及一种包含所述装置的用于沉积一薄膜的系统，所述装置包含：一腔室，用以提供一反应空间；一第一基板支架及一第二基板支架，彼此间隔开并安装于所述腔室中；以及一沉积源，安装于所述第一基板支架与所述第二基板支架之间，且用以于所述第一基板支架与所述第二基板支架的方向依序供应一沉积原料。根据本发明，因可透过设置于各所述工艺腔室中的单个沉积源对设置于各所述工艺腔室中的二或更多条生产线依序执行薄膜工艺，故可节约制造成本并同时提高生产率。
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公开(公告)号：CN102365711A
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：CN201080015828.4
申请日：2010-03-26
Applicant: 韩商SNU精密股份有限公司
IPC: H01L21/203
CPC classification number: H01L21/67115 , C23C14/243 , C23C14/26 , H01L21/67109
Abstract: 本发明提供一种原料供应单元和一种用于供应原料的方法。所述原料供应单元包括：罐，用以存储原材料；喷射器，与所述罐连通，用以喷射自所述罐蒸发的所述原材料；高频线圈部件，环绕于所述罐的外侧；以及电阻型加热部件，设置于所述喷射器的外侧。由于将高频感应加热方法和电阻型加热方法结合起来对拟供应的原材料进行蒸发，所以可以使用大量的原材料，并且薄膜的厚度和质量可易于控制。
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公开(公告)号：CN103118753B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201080069180.9
申请日：2010-09-29
Applicant: SNU精密股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种单体冷捕集器，该冷捕集器安装于将在沉积过程中产生的气体和单体经由其排放到外部的路径上，并且其特征在于包括：壳体；入口孔，该入口孔用于抽吸所述气体和单体；冷却板，该冷却板被收纳在所述壳体中，并具有形成在内部以供制冷剂从其流过的路径、用于粘附单体的表面、和形成为贯穿上表面和下表面的通孔；以及出口孔，该出口孔用于从所述壳体的内部排出气体。
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公开(公告)号：CN102369306B
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201080015804.9
申请日：2010-03-30
Applicant: 韩商SNU精密股份有限公司
CPC classification number: C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种用于沉积一薄膜的装置、一种适用于所述装置的用于沉积一薄膜的方法、以及一种包含所述装置的用于沉积一薄膜的系统，所述装置包含：一腔室，用以提供一反应空间；一第一基板支架及一第二基板支架，彼此间隔开并安装于所述腔室中；以及一沉积源，安装于所述第一基板支架与所述第二基板支架之间，且用以于所述第一基板支架与所述第二基板支架的方向依序供应一沉积原料。根据本发明，因可透过设置于各所述工艺腔室中的单个沉积源对设置于各所述工艺腔室中的二或更多条生产线依序执行薄膜工艺，故可节约制造成本并同时提高生产率。
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公开(公告)号：CN102216488A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200980146469.3
申请日：2009-11-13
Applicant: 韩商SNU精密股份有限公司
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/12 , C23C14/544
Abstract: 本发明涉及一种沉积材料供应装置及一种包含所述沉积材料供应装置的基板处理装置，所述沉积材料供应装置不使所述有机材料劣化的条件下储存大量有机材料并汽化所需量的所述有机材料至基板。所述沉积材料供应装置包含：槽，其中储存空间与汽化空间互相连通，所述储存空间填充有原材料，所述原材料于所述汽化空间中汽化；运送单元，用以连续地或周期性地运送填充于所述储存空间中的所述原材料至所述汽化空间；加热单元，设置于所述槽的所述汽化空间的外侧，用以供应使所述原材料汽化的热量；以及冷却单元，设置于所述储存空间的外侧，以防止储存于所述储存空间中的所述原材料出现热劣化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102422455B
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201080021214.7
申请日：2010-05-10
Applicant: 韩商SNU精密股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种基板处理系统，更详细而言，涉及一种具有一污染防止单元的基板处理系统，污染防止单元用以防止在将一基板涂覆以有机化合物工艺期间因有机化合物的散布而污染一腔室的内部。根据本发明的基板处理系统包含一涂覆模块以及一固化模块。涂覆模块包含一喷射单元以及一泵，喷射单元用以喷射有机化合物至一腔室中的基板并安装有一冷却板，冷却板与基板间隔开并形成有一供一冷却剂在其中循环的冷却路径，以防止未涂覆于基板的有机化合物散布，泵安装有一冷阱，位于腔室的一外侧下部，泵经一泵连接管连接至喷射单元，泵连接管于其纵向地延伸方向相交的一方向形成有分支部分或弯曲部分；固化模块用以经由一紫外线灯辐射紫外线至涂覆有机化合物的基板，并包含一加热盘管以加热安装于基板与紫外线灯间的一透射窗口。
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公开(公告)号：CN102437075B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201010296620.6
申请日：2010-09-29
Applicant: SNU精密股份有限公司
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明披露了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：腔，其分区为引入基板一侧的调整区和进行基板处理工程的工程区；载体，其将引入的基板调整之后移送到上述工程区，并且在工程完毕后将基板移送到调整区；以及护罩，其设置于腔内的调整区和工区之间，从而阻挡工程区发生的污染物流入到调整区，并且随着载体的移送而被打开或被关闭。
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公开(公告)号：CN103119745A
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN201080069179.6
申请日：2010-09-29
Applicant: SNU精密股份有限公司
CPC classification number: C23C14/12 , B05D1/60 , C23C14/564
Abstract: 提供一种单体沉积设备，所述单体沉积设备在将单体沉积在基板上时最小化单体在基板周围的构件上的沉积。为此，所述单体沉积设备包括：限定有处理空间的腔室，基板在所述处理空间中被处理；以及沉积单元，该沉积单元的至少一部分被收纳在所述腔室中，且所述沉积单元与所述基板隔开预定距离以将单体排放到基板上。所述单体沉积设备还包括冷却板，该冷却板邻近于所述沉积单元的外周设置而不与单体的排放干涉，所述冷却板与基板隔开预定距离以冷却未被沉积在基板上的单体。因此，由于未被沉积在基板上的单体被冷却板冷却，因此可以使单体蒸气在基板周围的构件上的沉积最小化。因此，由于可延长日常维护周期，从而特别地可提高生产率且可降低制造成本。
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公开(公告)号：CN102422455A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201080021214.7
申请日：2010-05-10
Applicant: 韩商SNU精密股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种基板处理系统，更详细而言，涉及一种具有一污染防止单元的基板处理系统，污染防止单元用以防止在将一基板涂覆以有机化合物工艺期间因有机化合物的散布而污染一腔室的内部。根据本发明的基板处理系统包含一涂覆模块以及一固化模块。涂覆模块包含一喷射单元以及一泵，喷射单元用以喷射有机化合物至一腔室中的基板并安装有一冷却板，冷却板与基板间隔开并形成有一供一冷却剂在其中循环的冷却路径，以防止未涂覆于基板的有机化合物散布，泵安装有一冷阱，位于腔室的一外侧下部，泵经一泵连接管连接至喷射单元，泵连接管于其纵向地延伸方向相交的一方向形成有分支部分或弯曲部分；固化模块用以经由一紫外线灯辐射紫外线至涂覆有机化合物的基板，并包含一加热盘管以加热安装于基板与紫外线灯间的一透射窗口。
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公开(公告)号：CN102421933B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201080020337.9
申请日：2010-05-06
Applicant: 韩商SNU精密股份有限公司
CPC classification number: C23C14/568 , C23C14/042 , C23C14/50 , C23C14/541
Abstract: 本发明揭示一种薄膜沉积装置，包含：传送室，用以传送基板；以及第一制程室及第二制程室，分别连接至所述传送室的两侧，所述第一制程室与所述第二制程室分别均包含：第一基板固定器及第二基板固定器，被配置成相互间隔开；以及喷射单元，设置于所述第一基板固定器与所述第二基板固定器之间，用以依序供应沉积原料至所述第一基板固定器与所述第二基板固定器。本发明同时揭示一种包含所述装置的薄膜沉积系统。本发明的装置具有多个用以执行相同制程的制程室，所述多个制程室分别连接至每一传送室的两侧，故可同时对多个基板执行薄膜制程，借此改良处理速度。
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