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公开(公告)号：CN105772305A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201510944230.8
申请日：2015-12-16
Applicant: SNU精度株式会社
IPC: B05B15/04
CPC classification number: B05B14/00
Abstract: 本发明涉及一种薄膜沉积装置，本发明的薄膜沉积装置的特征在于，包括：腔室，其形成有内部空间，在形成上表面的遮断膜的一区域中形成有供沉积对象基板配设的开口部；原料供应部，其在所述腔室的内部空间内移动的同时向所述遮断膜提供沉积原料；及原料收集部，其在所述开口部的至少一侧设置在所述原料供应部和所述遮断膜之间，用于收集向遮断膜喷射的沉积原料。由此，能够防止沉积物质不必要地供应到腔室内部空间的同时，能够再利用通过原料收集部收集到的沉积物质。
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