公开(公告)号：FR2985086B1

公开(公告)日：2014-02-28

申请号：FR1162470

申请日：2011-12-27

Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2

Inventor： ALLEAUME CLOVIS

IPC: H01L21/027

公开(公告)号：FR2985086A1

公开(公告)日：2013-06-28

申请号：FR1162470

申请日：2011-12-27

Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2

Inventor： ALLEAUME CLOVIS

IPC: H01L21/027

Abstract: Procédé d'élaboration d'un masque de photolithographie (NMP) et d'une source lumineuse (NSL), comprenant une élaboration d'un masque initial de photolithographie (MPI) et d'une source lumineuse initiale (SLI) à partir d'un motif cible initial (MCI) correspondant à un motif cible désiré dans une couche de résine, caractérisé en ce qu'il comprend en outre : a) une élaboration d'un nouveau motif cible (NMC), et b) une élaboration d'un nouveau masque de photolithographie (NMP) et/ou d'une nouvelle source lumineuse (NSL) à partir du nouveau motif cible (NMC).