公开(公告)号：FR3091410A1

公开(公告)日：2020-07-03

申请号：FR1874151

申请日：2018-12-26

Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2 SAS

Inventor： RISTOIU DELIA ,  BAR PIERRE ,  LEVERD FRANÇOIS

IPC: H01L21/311 ,  G02B6/43

Abstract: Procédé de gravure La présente description concerne un procédé de formation d'une cavité (30) traversant un empilement (10) de couches (6, 8) incluant une couche inférieure (61) dont une première portion (24) présente localement une surépaisseur, le procédé comprenant une première étape de gravure non sélective et une deuxième étape de gravure sélective à l'aplomb de la première portion (24). Figure pour l'abrégé : Fig. 6

公开(公告)号：FR3091410B1

公开(公告)日：2021-01-15

申请号：FR1874151

申请日：2018-12-26

Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2 SAS

Inventor： RISTOIU DELIA ,  BAR PIERRE ,  LEVERD FRANÇOIS

IPC: H01L21/311 ,  G02B6/43

Abstract: Procédé de gravure La présente description concerne un procédé de formation d'une cavité (30) traversant un empilement (10) de couches (6, 8) incluant une couche inférieure (61) dont une première portion (24) présente localement une surépaisseur, le procédé comprenant une première étape de gravure non sélective et une deuxième étape de gravure sélective à l'aplomb de la première portion (24). Figure pour l'abrégé : Fig. 6