DISPOSITIF ELECTRONIQUE INTEGRE DESTINE A FONCTIONNER DANS DES ENVIRONNEMENTS A TEMPERATURE VARIABLE

    公开(公告)号:FR3082052A1

    公开(公告)日:2019-12-06

    申请号:FR1854829

    申请日:2018-06-04

    Abstract: Dispositif électronique intégré, comprenant un substrat de type silicium sur isolant et au moins un transistor MOS (TR) réalisé dans et sur ledit substrat, et comprenant une région de grille (G) configurée pour recevoir une tension de commande, une grille arrière (BG) configurée pour recevoir une tension d'ajustement, et dans lequel la région source (S) comporte une première borne (B1) destinée à être reliée à une tension de référence et une deuxième borne (B2) réalisées de part et d'autre d'une portion résistive (Rs) de la région de source (S), la première borne (B1) étant configurée pour délivrer une tension dont la valeur est représentative de la température du dispositif (DIS), le dispositif (DIS) comportant des moyens d'ajustement (MA) configurés pour délivrer sur la grille arrière (BG), une tension d'ajustement dont la valeur dépend de la valeur de la tension de commande et de la valeur de la tension délivrée par la première borne (B1).

    POINT MEMOIRE
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:FR3087290A1

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:FR1859560

    申请日:2018-10-16

    Abstract: La présente description concerne un transistor MOS (10) dans lequel la résistivité de la région de source et/ou de drain (12) est apte à être augmentée de façon irréversible par application d'un courant électrique entre deux contacts (12C-A, 12C-B) de ladite région (12).

    POINT MEMOIRE
    5.
    发明专利

    公开(公告)号:FR3087290B1

    公开(公告)日:2020-11-06

    申请号:FR1859560

    申请日:2018-10-16

    Abstract: La présente description concerne un transistor MOS (10) dans lequel la résistivité de la région de source et/ou de drain (12) est apte à être augmentée de façon irréversible par application d'un courant électrique entre deux contacts (12C-A, 12C-B) de ladite région (12).

    DISPOSITIF ELECTRONIQUE INTEGRE DESTINE A FONCTIONNER DANS DES ENVIRONNEMENTS A TEMPERATURE VARIABLE

    公开(公告)号:FR3082052B1

    公开(公告)日:2020-06-26

    申请号:FR1854829

    申请日:2018-06-04

    Abstract: Dispositif électronique intégré, comprenant un substrat de type silicium sur isolant et au moins un transistor MOS (TR) réalisé dans et sur ledit substrat, et comprenant une région de grille (G) configurée pour recevoir une tension de commande, une grille arrière (BG) configurée pour recevoir une tension d'ajustement, et dans lequel la région source (S) comporte une première borne (B1) destinée à être reliée à une tension de référence et une deuxième borne (B2) réalisées de part et d'autre d'une portion résistive (Rs) de la région de source (S), la première borne (B1) étant configurée pour délivrer une tension dont la valeur est représentative de la température du dispositif (DIS), le dispositif (DIS) comportant des moyens d'ajustement (MA) configurés pour délivrer sur la grille arrière (BG), une tension d'ajustement dont la valeur dépend de la valeur de la tension de commande et de la valeur de la tension délivrée par la première borne (B1).

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