Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a transistor with a germanium-rich channel and fully-depleted type architecture that can be easily manufactured on an arbitrary substrate and that can easily control the formation of the channel. SOLUTION: The manufacturing method for a MOS transistor comprises (a) a step to form a half-conductive interlayer 6 containing alloy of silicon and germanium on a substrate 2, (b) step to manufacture the source region, drain region and insulating gate regions 11, 12 and 9 of the transistor on the interlayer 6, and (c) step to oxidize the interlayer 6 starting with the bottom surface of the interlayer 6 to raise the concentration of germanium within the channel of the transistor. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
Abstract:
Le détecteur d'au moins un évènement comprend un générateur d'énergie électrique (2) comportant un élément piézoélectrique (21) flexible et une masse (23) fixée sur l'élément (21) ; un déclencheur (3) comportant une première configuration dans laquelle le déclencheur (3) est configuré pour maintenir la masse (23) dans une position initiale avec l'élément piézoélectrique (21) fléchi et une deuxième configuration dans laquelle le déclencheur (3), en réponse audit évènement, est configuré pour libérer la masse (23) de façon à provoquer une vibration de l'élément piézoélectrique (21) et permettre une génération de l'énergie électrique (EE) ; et un système électronique (4) couplé au générateur (2) et configuré pour convertir l'énergie électrique (EE) délivré par le générateur (2) en au moins un signal électrique (SE).
Abstract:
Le système de conversion d'énergie thermique en énergie électrique (SYS), comprend un châssis (1), au moins un élément sensible à la température (3) maintenu dans le châssis (1) par deux de ses extrémités (31, 32) entre une source chaude (TC) et une source froide (TF), au moins un élément piézoélectrique (5) disposé entre au moins une partie du châssis (1) et au moins une première desdites deux extrémités (31, 32) dudit au moins un élément sensible à la température (3), ledit au moins un élément sensible à la température (3) étant configuré pour se déformer cycliquement entre deux états sous l'action du gradient thermique entre la source chaude (TC) et la source froide (TF) tout en exerçant une contrainte lors de sa déformation cyclique sur ledit au moins un élément piézoélectrique (5) par l'intermédiaire de ladite au moins une première extrémité.
Abstract:
Générateur thermoélectrique, comprenant une membrane semiconductrice (2) à structure phononique contenant au moins une jonction P-N (3, 4) suspendue entre un premier support (5) destiné à être couplé à une source thermique froide et un deuxième support (6) destiné à être couplé à une source thermique chaude et une architecture permettant de redistribuer le flux thermique dans le plan de ladite membrane.
Abstract:
Circuit intégré (IC), comprenant un substrat (S), une région isolante (STI) délimitant au moins une zone du substrat (ZS), et au moins un transistor (T) comportant une région semiconductrice concave (RSC) supportée par la région isolante (STI) selon une première direction (D1), tournant sa concavité vers ladite au moins une zone (ZS) et contenant des régions de drain (RSD), de source (RSS) et de canal, une région de grille (G) possédant une partie concave chevauchant une partie de la région semiconductrice concave (RSC), et une région diélectrique (RD) située entre ladite zone de substrat (ZS) et ladite région semiconductrice concave (RSC).