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公开(公告)号:FR3030883A1
公开(公告)日:2016-06-24
申请号:FR1462642
申请日:2014-12-17
Applicant: STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS
Inventor: REGNIER ARNAUD , MIRABEL JEAN-MICHEL , NIEL STEPHAN , LA ROSA FRANCESCO
IPC: H01L27/115 , G11C7/00 , G11C16/02 , H01L21/8247
Abstract: L'invention concerne une cellule mémoire formée dans un substrat (SUB) semi-conducteur, comprenant une grille de sélection (SGC) s'étendant verticalement dans une tranchée (TR) pratiquée dans le substrat, et isolée du substrat par une première couche d'oxyde de grille (D3), une grille flottante (FG) horizontale s'étendant au-dessus du substrat et isolée du substrat par une seconde couche d'oxyde de grille (D1), et une grille de contrôle (CG) horizontale s'étendant au-dessus de la grille flottante, la grille de sélection (SGC) couvrant une face latérale de la grille flottante, la grille flottante étant séparée de la grille de sélection uniquement par la première couche d'oxyde de grille (D3), et séparée d'une région de canal verticale (CH2) s'étendant dans le substrat le long de la grille de sélection, uniquement par la seconde couche d'oxyde de grille.
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公开(公告)号:FR3017746B1
公开(公告)日:2016-05-27
申请号:FR1451297
申请日:2014-02-18
Applicant: STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS
Inventor: MANTELLI MARC , NIEL STEPHAN , REGNIER ARNAUD , LA ROSA FRANCESCO , DELALLEAU JULIEN
IPC: H01L27/115 , H01L29/788
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公开(公告)号:FR3051969A1
公开(公告)日:2017-12-01
申请号:FR1654897
申请日:2016-05-31
Applicant: STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS
Inventor: LA ROSA FRANCESCO , NIEL STEPHAN , REGNIER ARNAUD
IPC: H01L21/329 , H01L27/10 , H01L29/861
Abstract: Le procédé de fabrication de plusieurs diodes (D1, D2, D3) comprend une première implantation (10) de dopants d'un deuxième type de conductivité dans une première couche semiconductrice (5) ayant un premier type de conductivité située sur une couche isolante (3) recouvrant un substrat semiconducteur (1) et surmontée de régions saillantes mutuellement espacées (CGf), de façon à former une succession de jonctions PN formant lesdites diodes dans ladite première couche semiconductrice (5) s'étendant jusqu'à la couche isolante (3) en bordure des régions saillantes (bCGf).
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公开(公告)号:FR3049380A1
公开(公告)日:2017-09-29
申请号:FR1652445
申请日:2016-03-22
Applicant: STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS
Inventor: LA ROSA FRANCESCO , NIEL STEPHAN , REGNIER ARNAUD
IPC: G11C16/04 , H01L27/115
Abstract: Le dispositif de mémoire non volatile comprend des cellules-mémoires (C3,j) comprenant chacune un transistor d'état (T3,j) sélectionnable possédant une grille flottante et une grille de commande (CG3). Le transistor d'état (T3,j) est du type à appauvrissement et avantageusement configuré pour présenter une tension de seuil de préférence négative lorsque la cellule-mémoire est dans un état vierge. On peut alors appliquer lors de la lecture de la cellule-mémoire, une tension de lecture nulle sur la grille de commande (CG3) ainsi que sur les grilles de commande des transistors d'états de toutes les cellules-mémoires du dispositif de mémoire.
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公开(公告)号:FR3025649B1
公开(公告)日:2016-12-09
申请号:FR1458431
申请日:2014-09-09
Applicant: STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS
Inventor: LA ROSA FRANCESCO , NIEL STEPHAN , REGNIER ARNAUD
IPC: G11C16/02 , H01L29/788
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公开(公告)号:FR3021804B1
公开(公告)日:2017-09-01
申请号:FR1454891
申请日:2014-05-28
Applicant: STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS
Inventor: LA ROSA FRANCESCO , NIEL STEPHAN , REGNIER ARNAUD
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公开(公告)号:FR3036221B1
公开(公告)日:2017-04-28
申请号:FR1554163
申请日:2015-05-11
Applicant: STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS
Inventor: LA ROSA FRANCESCO , NIEL STEPHAN , REGNIER ARNAUD
IPC: G11C7/00 , G11C16/04 , H01L27/11524 , H01L29/66
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公开(公告)号:FR3036221A1
公开(公告)日:2016-11-18
申请号:FR1554163
申请日:2015-05-11
Applicant: STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS
Inventor: LA ROSA FRANCESCO , NIEL STEPHAN , REGNIER ARNAUD
IPC: G11C7/00 , G11C16/04 , H01L27/11524 , H01L29/66
Abstract: Mémoire non volatile (MEM1) comprenant des rangées et des colonnes de cellules mémoire (C1,j), les colonnes de cellules mémoire comprenant des paires de cellules mémoire jumelles (C1,j, C2,j1) comprenant une grille de sélection (CSG1,2) commune. Selon l'invention, deux lignes de bit (B1,j, B2,j+1) sont prévues par colonne de cellules mémoire. Les cellules mémoire adjacentes jumelles d'une même colonne ne sont pas reliées à la même ligne de bit tandis que les cellules mémoire adjacentes non jumelles d'une même colonne sont reliées à la même ligne de bit.
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公开(公告)号:FR3030883B1
公开(公告)日:2017-12-22
申请号:FR1462642
申请日:2014-12-17
Applicant: STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS
Inventor: REGNIER ARNAUD , MIRABEL JEAN-MICHEL , NIEL STEPHAN , LA ROSA FRANCESCO
IPC: H01L27/115 , G11C7/00 , G11C16/02
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公开(公告)号:FR3052291A1
公开(公告)日:2017-12-08
申请号:FR1655067
申请日:2016-06-03
Applicant: STMICROELECTRONICS (ROUSSET) SAS
Inventor: LA ROSA FRANCESCO , NIEL STEPHAN , REGNIER ARNAUD
Abstract: Le réseau de diodes comprend un plan matriciel de diodes (20) arrangées selon des colonnes dans une première direction (X) et selon des lignes dans une deuxième direction (Y) orthogonale à la première direction (Y). Lesdites diodes comprennent une région de cathode (21) d'un premier type de conductivité et une région d'anode (22) d'un deuxième type de conductivité, lesdites régions de cathode et d'anode étant superposées et disposées sur une couche isolante (2) située au-dessus d'un substrat semiconducteur.
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