OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT MIT LEITFÄHIGER KONTAKTSTRUKTUR

    公开(公告)号:WO2002093653A3

    公开(公告)日:2002-11-21

    申请号:PCT/EP2002/005336

    申请日:2002-05-15

    Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement zur Umwandlung elektromagnetischer Strahlung in einen intensitätsabhängigen Photostrom bestehend aus einem, insbesondere in CMOS-Technologie, ausgebildeten Substrat (1) mit einer integrierten Halbleiterstruktur (ASIC) und einer in Lichteinfallsrichtung vorgeordneten optisch aktiven Dünnschichtstruktur, bestehend aus einer Schicht (9) aus einem transparenten leitfähigen Material und mindestens einer Schicht (6, 7, 8) aus Halbleitermaterial, welche auf einer isolierenden Schicht (4) angeordnet sind, innerhalb der sich Verbindungsmittel (2, 3, 5) zur Kontaktierung der optisch aktiven Dünnschichtstruktur mit der auf dem Substrat angeordneten integrierten Halbleiterstruktur befinden. Zur Lösung der Aufgabe, ein optoelektronisches Bauelement der genannten Art dahingehend weiter zu entwickeln, dass die elektrische Verbindung zwischen der Schicht (9) aus transparentem leitfähigen Material und einem elektrischen Potentialanschluss (15) fertigungstechnisch auf einfache Weise hergestellt werden kann, ist vorgesehen, dass die Schicht aus transparentem leitfähigen Material durch eine zusätzlich auf dem Substrat ausgebildete leitfähige Struktur (10, 11, 12, 13) mit dem außerhalb der Bildelementeanordnung angeordneten Potentialanschluss (15) verbindbar ist.

    OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT MIT LEITFÄHIGER KONTAKTSTRUKTUR
    2.
    发明公开
    OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT MIT LEITFÄHIGER KONTAKTSTRUKTUR 审中-公开
    具有导电接触结构OPTO电子元件

    公开(公告)号:EP1412987A2

    公开(公告)日:2004-04-28

    申请号:EP02754568.0

    申请日:2002-05-15

    Abstract: The invention relates to an optoelectronic component for converting electromagnetic radiation into an intensity-dependent photoelectric current. Said component consists of one substrate (1) which is formed especially according to CMOS technology (1). Said substrate has an integrated semiconductor structure (ASIC) and an optically active thin layer structure which is situated upstream in the direction of light incidence. Said structure consists of a layer (9) of a transparent conductive material and at least one layer (6, 7, 8) of semiconductor material, which are arranged on an isolating layer (4), inside which connection means (2, 3, 5) are provided for establishing a connection between the optically active thin layer structure and the integrated semiconductor structure arranged on the substrate. The aim of the invention is to develop one such optoelectronic component in such a way that the electrical connection between the layer (9) of transparent conductive material and an electric potential connection (15) can be established in a technically simple manner. To this end, the layer of transparent conductive material can be connected to the potential connection (15) arranged outside the pixel arrangement by means of an additional conductive structure (10, 11, 12, 13) formed on the substrate.

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