公开(公告)号：CN100355184C

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200480009015.9

申请日：2004-03-31

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 坂本健 ,  山本智实 ,  岩井达洋 ,  中山靖之

IPC: H02K1/17

CPC classification number: H02K1/04 ,  H02K1/17 ,  H02K41/0358

Abstract: 本发明涉及音圈电动机(VCM)用永久磁体构件(10)，具备：磁体素体(1)和覆盖在该磁体素体表面上的耐腐蚀覆盖膜(Ni镀膜(2))，磁体素体(1)具有短周边(11)、与此短周边以规定的间隔隔开的长周边(12)、连接短周边(11)和长周边(12)的一对侧周边(13、14)，而且具有扇形的平面形状。在这样的VCM用永久磁体构件(10)中，其厚度的最大值与最小值之差为10～150μm。

公开(公告)号：CN1768464A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN200480009015.9

申请日：2004-03-31

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 坂本健 ,  山本智实 ,  岩井达洋 ,  中山靖之

IPC: H02K1/17

CPC classification number: H02K1/04 ,  H02K1/17 ,  H02K41/0358

Abstract: 本发明涉及音圈电动机(VCM)用永久磁体构件(10)，具备：磁体素体(1)和覆盖在该磁体素体表面上的耐腐蚀覆盖膜(Ni镀膜(2))，磁体素体(1)具有短周边(11)、与此短周边以规定的间隔隔开的长周边(12)、连接短周边(11)和长周边(12)的一对侧周边(13、14)，而且具有扇形的平面形状。在这样的VCM用永久磁体构件(10)中，其厚度的最大值与最小值之差为10～150μm。

公开(公告)号：CN1754011A

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN200480005433.0

申请日：2004-03-04

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 坂本健 ,  中山靖之 ,  岩井达洋 ,  山本智实

IPC: C25D7/00 ,  C25D5/14 ,  H01F41/02

CPC classification number: C25D7/001 ,  C25D3/12 ,  C25D5/14 ,  H01F41/026

Abstract: 提供耐蚀性优良的稀土类磁铁的制造方法及用于该方法的电镀液。在含稀土类元素的磁铁基体上，依次层叠含镍的第1保护膜和含镍及硫的第2保护膜。第1保护膜使用包含镍源、导电性盐、pH稳定剂、镍源的镍原子单位浓度为0.3mol/l～0.7mol/l、电导率在80mS/cm以上的第1电镀液进行电镀而形成。因而，可以抑制稀土富集相的洗脱，减少针孔的生成，并且因此提高耐蚀性。

公开(公告)号：CN100554530C

公开(公告)日：2009-10-28

申请号：CN200480005433.0

申请日：2004-03-04

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 坂本健 ,  中山靖之 ,  岩井达洋 ,  山本智实

IPC: C25D7/00 ,  C25D5/14 ,  H01F41/02

CPC classification number: C25D7/001 ,  C25D3/12 ,  C25D5/14 ,  H01F41/026

Abstract: 提供耐蚀性优良的稀土类磁铁的制造方法及用于该方法的电镀液。在含稀土类元素的磁铁基体上，依次层叠含镍的第1保护膜和含镍及硫的第2保护膜。第1保护膜使用包含镍源、导电性盐、pH稳定剂、镍源的镍原子单位浓度为0.3mol/l～0.7mol/l、电导率在80mS/cm以上的第1电镀液进行电镀而形成。因而，可以抑制稀土富集相的洗脱，减少针孔的生成，并且因此提高耐蚀性。

公开(公告)号：CN1308497C

公开(公告)日：2007-04-04

申请号：CN200410044686.0

申请日：2004-05-20

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 中山靖之 ,  坂本健 ,  岩井达洋 ,  山本智实

IPC: C25D17/20

Abstract: 本发明的筒镀装置是长轴长度(a)为5～60mm、长轴长度(a)与短轴长度(b)(单位mm)的比(a/b)的值为1.2以上，厚度(c)(单位mm)比短轴长度(b)小的平板形状物为被镀对象物进行筒镀用的筒镀装置，由于其构成是棒状的阴极导入部导入筒内后有距离(L)的水平部，利用与被镀对象物的长度(a)的关系，设定该距离使(L/a)≤0.9，所以即使是筒镀中有障碍的平板形状的被镀对象物，也可以减少或防止被镀对象物在筒内流动状态的偏倚或停留，可确保被镀对象物形成均匀厚度的镀膜、且可抑制龟裂或破裂的不良现象。

公开(公告)号：CN1572915A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410044686.0

申请日：2004-05-20

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 中山靖之 ,  坂本健 ,  岩井达洋 ,  山本智实

IPC: C25D17/20

Abstract: 本发明的筒镀装置是长轴长度(a)为5～60mm、长轴长度(a)与短轴长度(b)(单位mm)的比(a/b)的值为1.2以上，厚度(c)(单位mm)比短轴长度(b)小的平板形状物为被镀对象物进行筒镀用的筒镀装置，由于其构成是棒状的阴极导入部导入筒内后有距离(L)的水平部，利用与被镀对象物的长度(a)的关系，设定该距离使(L/a)≤0.9，所以即使是筒镀中有障碍的平板形状的被镀对象物，也可以减少或防止被镀对象物在筒内流动状态的偏倚或停留，可确保被镀对象物形成均匀厚度的镀膜、且可抑制龟裂或破裂的不良现象。