公开(公告)号：DE112010003598T5

公开(公告)日：2013-01-24

申请号：DE112010003598

申请日：2010-09-03

Applicant: ULVAC INC

Inventor： KOKAZE YUTAKA ,  UEDA MASAHISHA ,  YOSHIDA YOSHIAKI

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

Abstract: Ein Verfahren zum Betreiben einer Substratbearbeitungsvorrichtung wird bereitgestellt, welche das Erzeugen von Partikeln durch Erzeugen von Plasma in einer stabilen Weise beinhalten kann. Nachdem ein Substrat in einer evakuierten Vakuumkammer angeordnet ist, wird anfangs ein Edelgas in die Vakuumkammer eingeführt, eine Spannung wird an eine Plasmaerzeugungseinrichtung angelegt, und Plasma des Edelgases wird erzeugt. Nachfolgend wird ein Reaktionsgas in die Vakuumkammer geliefert, das Reaktionsgas wurde in Kontakt mit dem Plasma des Edelgases gebracht, und Plasma des Reaktionsgases wird erzeugt. Das Plasma des Reaktionsgases wird in Kontakt mit dem Substrat gebracht; und das Substrat wird bearbeitet. Plasma wird stabil erzeugt, nicht durch Umwandeln des Reaktionsgases in Plasma, sondern durch zunächst Umwandeln des Edelgases in Plasma durch die Plasmaerzeugungseinrichtung, und die Erzeugung von Partikeln wird nachfolgend unterdrückt.

公开(公告)号：DE112010003192T5

公开(公告)日：2012-07-12

申请号：DE112010003192

申请日：2010-07-29

Applicant: ULVAC INC

Inventor： UEDA MASAHISA ,  YOSHIDA YOSHIAKI ,  KOKAZE YUTAKA

IPC: H01L41/22 ,  H01L41/09 ,  H01L41/187 ,  H01L41/332 ,  H02N2/00

Abstract: Ein Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Elements, in dem eine dünne ferroelektrische Schicht durch Plasmaätzen in eine geeignete Form verarbeitet wird, wird bereitgestellt. Eine aus einer dünnen Metallschicht gefertigte Metallmaske, die schwer durch Sauerstoffgas zu ätzen ist, wird auf einem Objekt, das verarbeitet werden soll, platziert, indem eine untere Elektrodenschicht und eine dünne ferroelektrische Schicht in dieser Reihenfolge auf das Substrat laminiert werden. Ein Ätzgas, das ein Mischgas aus dem Sauerstoffgas und dem reaktiven Gas einschließlich Fluor in einer chemischen Struktur enthält, wird in Plasma verwandelt und wird mit der Metallmaske und dem Objekt, das verarbeitet werden soll, in Kontakt gebracht. Eine Wechselspannung wird an eine Elektrode angelegt, die unterhalb des Objekts, das verarbeitet werden soll, angeordnet ist, so dass bewirkt wird, dass Ionen in dem Plasma in das Objekt eintreten, um verarbeitet zu werden, um anisotropes Ätzen auf der dünnen ferroelektrischen Schicht durchzuführen. Dies erlaubt verlängertes Ätzen, und Ätzprodukte haften nicht an der geätzten Seitenfläche; und somit kann das piezoelektrische Element mit einer geeignet geformten dünnen ferroelektrischen Schicht erhalten werden.