公开(公告)号：CN107936739A

公开(公告)日：2018-04-20

申请号：CN201711240298.3

申请日：2017-11-30

Applicant: 深圳市嘉达高科产业发展有限公司

Inventor： 林昌 ,  关有俊 ,  熊永强

IPC: C09D133/04 ,  C09D5/08 ,  C09D5/23 ,  B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  B05D7/14 ,  B05D3/00

CPC classification number: C09D143/04 ,  B05D3/203 ,  B05D3/207 ,  B05D5/00 ,  B05D7/14 ,  B05D7/24 ,  B05D2202/10 ,  B05D2502/005 ,  B05D2601/20 ,  B05D2601/24 ,  C08K2003/2241 ,  C08K2201/01 ,  C08K2201/011 ,  C09D5/082 ,  C09D5/23 ,  C08L83/12 ,  C08K3/22 ,  C08K3/346

Abstract: 本发明提供一种水性防腐涂料、制备方法和使用方法，涉及涂料制备技术领域。涂料包括如下质量分数的组分：30～50％的水性硅改性丙烯酸乳液、15～25％的水、8～20％的钛白粉、2～4.5％的磁性防锈颜料、2～4.5％的高岭土，0.1～0.5％的消泡剂及0.1～0.5％的流平剂。利用涂料中磁性防锈颜料所具有的弱磁性可以使其进入到施工件细微的空隙中与钢结构表面进行很好的密着。此外，磁性防锈颜料可以与树脂进行相互作用，在钢结构表面形成致密的网状结构膜，封闭施工件的表面，进而达到防腐的目的。

公开(公告)号：CN108043681A

公开(公告)日：2018-05-18

申请号：CN201711266112.1

申请日：2017-12-05

Applicant: 马鞍山市东方仪表有限公司

Inventor： 蔡福明

IPC: B05D3/00 ,  B05D3/10 ,  B05D7/24 ,  B05D7/16 ,  B05D3/04 ,  C09D4/02 ,  C09D4/06 ,  C09D161/06 ,  C09D157/02 ,  C09D163/00 ,  C09D7/61 ,  C09D7/63 ,  C09D7/65

CPC classification number: B05D3/002 ,  B05D3/0406 ,  B05D3/102 ,  B05D3/203 ,  B05D7/16 ,  B05D7/24 ,  C08K2003/2241 ,  C08K2003/265 ,  C08K2201/011 ,  C08L2205/035 ,  C09D4/06 ,  C09D161/06 ,  C08L57/02 ,  C08L63/00 ,  C08L1/02 ,  C08K13/02 ,  C08K3/36 ,  C08K3/26 ,  C08K3/22 ,  C08K5/053

Abstract: 本发明公开了一种提升金属仪表壳体使用品质的处理方法，包括如下步骤：（1）表面预处理、（2）表面改性处理、（3）干燥处理、（4）喷漆处理。本发明对金属仪表壳体进行了特殊的处理，在其表面形成了品质良好的漆料涂层，明显的提升了壳体的耐磨、耐腐特性，延长了其使用寿命和品质，具有很好的使用价值。

公开(公告)号：CN104937139A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201380070926.1

申请日：2013-11-27

Applicant: 搪玻璃技术股份有限公司

Inventor： T.R.罗伯茨

IPC: C23C26/00 ,  C23C30/00

CPC classification number: B05D5/005 ,  B05D3/203 ,  B05D3/207 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C4/129 ,  C23C4/18 ,  C23C28/042

Abstract: 本发明提供了在金属基材上制备或修复诸如搪瓷的耐化涂层的方法。一种这样的方法涉及通过加热到高温或保持高温而在基材上形成软化底涂层，随后将涂层材料火焰喷涂沉积到该软化底涂层上。随后，使基材缓慢冷却，以便能形成具有较少应力的耐化涂层。任选地，使用感应线圈来加热基材，以形成软化底涂层和减缓基材的冷却。这样的方法允许更容易和更快的修复，甚至能原位修复诸如以下的制品：化学反应容器、盖、挡板、温度计套管、搅拌器、搅拌器轴、管、热交换器和储罐。具有耐化涂层的制品也形成本发明的一部分。

公开(公告)号：CN107999356A

公开(公告)日：2018-05-08

申请号：CN201711266160.0

申请日：2017-12-05

Applicant: 马鞍山市东方仪表有限公司

Inventor： 蔡福明

IPC: B05D3/10 ,  B05D3/00 ,  C23G5/00 ,  C23G1/02 ,  C23G1/14 ,  C23C22/68

CPC classification number: B05D3/102 ,  B05D3/002 ,  B05D3/203 ,  B05D2350/60 ,  C23C22/68 ,  C23G1/02 ,  C23G1/14 ,  C23G5/00

Abstract: 本发明公开了一种金属仪表壳体漆前处理方法，包括如下步骤：（1）表面打磨处理、（2）除油处理、（3）酸碱浸泡处理、（4）磁化改性处理、（5）干燥处理。本发明处理方法有效改善了喷漆处理的质量，提升了防护效果，延长了金属仪表壳体的使用寿命，极具推广应用价值。

公开(公告)号：CN105082713A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510237329.4

申请日：2015-05-11

Applicant: JDS尤尼弗思公司

Inventor： 阿尔博特·阿革帝亚 ,  科尼利斯·简·德尔斯特 ,  帕特里克·拉登

IPC: B32B37/10 ,  B32B37/12 ,  B32B38/00 ,  B41M3/14

CPC classification number: B42D25/369 ,  B05D1/16 ,  B05D3/20 ,  B05D3/203 ,  B05D5/065 ,  B05D2451/00 ,  H01F7/0273 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24893 ,  B05D2401/40 ,  B05D2401/32 ,  B32B37/10 ,  B32B37/1284 ,  B32B38/00 ,  B32B2037/1081 ,  B32B2038/0076 ,  B41M3/148

Abstract: 本发明提供了一种光学可变装置，其可以通过以下方法制造：在施加有磁场的条件下将磁性薄片施加到粘结剂层的表面，对设置于粘结剂层的表面上的磁性薄片进行排列，然后固化具有粘附其上的磁性薄片的粘结剂层。当固化时，所述粘结剂层保持所述磁性薄片的取向，随后将定向的磁性薄片封装进设置于粘结剂层上的涂料层内，而实质上不损害磁性薄片的取向。

公开(公告)号：US20180079250A1

公开(公告)日：2018-03-22

申请号：US15822577

申请日：2017-11-27

Applicant: Viavi Solutions Inc.

Inventor： Alberto ARGOITIA ,  Cornelis Jan DELST ,  Patrick LADEN

IPC: B42D25/369 ,  H01F7/02 ,  B05D3/00 ,  B05D1/16 ,  B05D5/06

CPC classification number: B42D25/369 ,  B05D1/16 ,  B05D3/20 ,  B05D3/203 ,  B05D5/065 ,  B05D2451/00 ,  G09F3/10 ,  G09F19/14 ,  H01F7/0273 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24893 ,  B05D2401/40 ,  B05D2401/32

Abstract: An optically variable device may be manufactured by aligning magnetic flakes on a surface of an adhesive layer by applying the flakes onto the adhesive layer surface in presence of a magnetic field, and curing the adhesive layer having magnetic flakes adhered to the adhesive layer. When cured, the adhesive layer holds the magnetic flakes oriented, enabling subsequent encapsulation of the oriented magnetic flakes in a coating layer on the adhesive layer, without a substantial loss of orientation of the magnetic flakes.

公开(公告)号：US20160376190A1

公开(公告)日：2016-12-29

申请号：US15190490

申请日：2016-06-23

Applicant: Schott Orim Cam Sanayi ve Ticaret A.S ,  Schott AG

Inventor： Hueda Karagoez ,  Stephanie Mangold ,  Carsten Schwabe ,  Silke Knoche

IPC: C03C17/00 ,  C03C17/04

CPC classification number: C03C17/007 ,  B05D3/203 ,  B05D2203/35 ,  C03C8/02 ,  C03C8/04 ,  C03C8/14 ,  C03C17/002 ,  C03C17/04 ,  C09D1/00 ,  C09D5/23 ,  C09D11/037 ,  C09D17/00 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/127 ,  C23C18/1295 ,  C23D5/06

Abstract: A method is disclosed for preparing a substrate with a coating from a paste comprising the following steps: (a) providing a substrate; (b) preparing a paste from a glass frit to which ferromagnetic pigments and a flux agent are admixed; (c) applying the paste onto a surface of the substrate; (d) aligning the paste by means of a magnetic field; and (e) burning-in of the paste.

Abstract translation: 公开了一种用于从浆料制备具有涂层的基材的方法，包括以下步骤：（a）提供基材; （b）从混合有铁磁颜料和助熔剂的玻璃料制备糊料; （c）将糊剂涂布在基材的表面上; （d）通过磁场对准该糊状物; 和（e）糊状物的烧入。

公开(公告)号：US11911791B2

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：US17257878

申请日：2019-07-18

Applicant: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY

Inventor： Mark B. O'Neill ,  Gary E. Gaides ,  Joseph B. Eckel ,  Aaron K. Nienaber ,  Ronald D. Jesme ,  Mark D. Weigel

IPC: G02B5/00 ,  H01L31/054 ,  B05D3/00 ,  B05D5/06 ,  B05D3/06

CPC classification number: B05D3/203 ,  B05D5/061 ,  G02B5/003 ,  B05D3/067 ,  B05D3/20 ,  B05D5/06 ,  G02B2207/123

Abstract: According to one embodiment, a solar device, comprises one or more photovoltaic cells disposed in an encapsulant and a light control structure including a louver film having a series of louver structures, wherein each louver structure includes one or more groupings of a plurality magnetizable particles aligned at least in a first orientation dispersed in a binding matrix. The light control structure substantially transmits light incident at a first angle and substantially limits transmission of light incident at a second angle. Each louver structure is spaced apart from an adjacent louver structure, wherein each louver structure is substantially aligned in a plane substantially parallel to an adjacent louver structure.

公开(公告)号：US20140147583A1

公开(公告)日：2014-05-29

申请号：US14131082

申请日：2012-07-10

Applicant: Olivier Dellea ,  Philippe Coronel ,  Pascal Fugier

Inventor： Olivier Dellea ,  Philippe Coronel ,  Pascal Fugier

IPC: B05C19/04 ,  B05D1/12

CPC classification number: B05C19/04 ,  B05C11/1002 ,  B05C11/1036 ,  B05C19/00 ,  B05C19/008 ,  B05C19/06 ,  B05D1/12 ,  B05D1/20 ,  B05D3/061 ,  B05D3/12 ,  B05D3/203

Abstract: A facility for depositing a film of ordered particles onto a moving substrate, the facility configured to allow deposition, onto the substrate, of a film of ordered particles escaping from a particle outlet of a transfer zone having a first width. The facility further includes an accessory device in a form of a deposit head, provided to seal the particle outlet and configured to allow the deposition, onto the substrate, of a film of ordered particles escaping from an end of a particle transfer channel of the deposit head, the end having a second width strictly lower than the first width.

Abstract translation: 一种用于将有序颗粒的膜沉积到移动的基底上的设施，该设备被配置为允许在基底上沉积从具有第一宽度的转移区的颗粒出口逸出的有序颗粒的膜。 该设施还包括沉积头形式的附件装置，用于密封颗粒出口并且构造成允许在基板上沉积从沉积物的颗粒转移通道的端部排出的有序颗粒的膜 头部，其端部具有严格低于第一宽度的第二宽度。

公开(公告)号：US09751105B2

公开(公告)日：2017-09-05

申请号：US14131082

申请日：2012-07-10

Applicant: Olivier Dellea ,  Philippe Coronel ,  Pascal Fugier

Inventor： Olivier Dellea ,  Philippe Coronel ,  Pascal Fugier

IPC: B05C19/04 ,  B05D1/12 ,  B05C19/00 ,  B05D1/20 ,  B05C11/10 ,  B05C19/06 ,  B05D3/06 ,  B05D3/00 ,  B05D3/12

CPC classification number: B05C19/04 ,  B05C11/1002 ,  B05C11/1036 ,  B05C19/00 ,  B05C19/008 ,  B05C19/06 ,  B05D1/12 ,  B05D1/20 ,  B05D3/061 ,  B05D3/12 ,  B05D3/203

Abstract: A facility for depositing a film of ordered particles onto a moving substrate, the facility configured to allow deposition, onto the substrate, of a film of ordered particles escaping from a particle outlet of a transfer zone having a first width. The facility further includes an accessory device in a form of a deposit head, provided to seal the particle outlet and configured to allow the deposition, onto the substrate, of a film of ordered particles escaping from an end of a particle transfer channel of the deposit head, the end having a second width strictly lower than the first width.