清洗系统
    1.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219040417U

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN202190000377.0

    申请日:2021-06-28

    Abstract: 本实用新型提供一种清洗系统,其包括:输送基板的输送装置;配置在该输送装置的下方的清洗单元;控制输送装置、清洗单元的控制装置。输送装置包括沿着输送方向隔开规定间隔地配置有多排的辊。清洗单元包括:在上端具有矩形的开口部的壳体;配置在该壳体的内部的振动板;和振动子,对该振动板赋予超声波振动而对壳体内的清洗液赋予振动。以使壳体的开口部的长度方向沿着输送方向的朝向将辊的下部容纳在壳体的上部而能够清洗该辊。另外,通过增加清洗单元,将壳体的开口部的长度方向朝向基板的宽度方向配置,也能够清洗该基板的背面。

    超声波洗净装置及超声波洗净系统

    公开(公告)号:CN210497445U

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201890000296.9

    申请日:2018-08-21

    Abstract: 本实用新型提供一种超声波洗净装置及超声波洗净系统,其可洗净玻璃基板等半导体基板及可挠性薄膜等大型被洗净物,具备线形冲洗型及号角型的超声波洗净装置的功能,可省液化大幅减低使用的洗净液。该装置具备:筐体,具有底面,该底面与相对向设置的被洗净物形成倾斜面,在内部下面设有超声波振动子;洗净液供应装置,作为将洗净液供应给筐体底面的液膜形成手段;及流速加速装置,将来自作为液膜形成手段的洗净液供应装置的洗净液流速加速,作为喷出洗净液的流速加速部;筐体由本体构成,该本体具有上板、安装于上板下部的凸出部、从凸出部往下方向延伸形成的外部侧面、及在外部侧面的下端部一体连结构成的底面;底面构成仅以规定角度倾斜于水平面。

    接合装置及接合方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118176570A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202280069856.7

    申请日:2022-05-24

    Abstract: 本发明提供一种能够以简单的结构提高晶片等基板的凸块或引线的接合中的基板的生产性的接合装置及接合方法。接合载台(5)包含第一接合载台(6)及第二接合载台(8),第一接合载台与第二接合载台经由θ轴而相向地配设于具有能够以θ轴(27)为中心旋转的θ轴旋转机构(26)的旋转工作台(25),且构成为能够调换第一接合载台与第二接合载台的位置,接合装置(1)具有能够使旋转工作台沿XY方向移动的XY移动机构(35)。

    三维造形物的制造装置与三维造形物的制造方法

    公开(公告)号:CN109906127B

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN201780067113.5

    申请日:2017-09-12

    Inventor: 中野彰久

    Abstract: 本发明提供一种三维造形物的制造装置及三维造形物的制造方法。本发明的三维造形物的制造装置包括:平板,可载置三维造形物;球体形成元件,在自瓷嘴的前端陆续抽出的导电性引线的前端部与点火棒之间施加高电压,通过放电的能量使引线的前端部熔融而形成球体;定位元件,使平板与球体形成元件相对移动而进行定位;以及结合元件,将形成于瓷嘴的前端的球体与已层叠于平板上的另一球体接合;且通过如下步骤,即,通过球体形成元件形成球体、通过定位元件使平板与球体形成元件相对移动、通过结合元件将瓷嘴的前端的所形成的球体接合于另一球体而在平板上反复进行层叠,从而制造所需形状的三维造形物。

    超声波清洗装置及其功率控制方法

    公开(公告)号:CN103874550B

    公开(公告)日:2015-10-14

    申请号:CN201280039420.X

    申请日:2012-12-13

    CPC classification number: B08B3/12 B06B1/0253 B06B2201/71

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够进一步提高功率管理的可靠性的超声波清洗装置。为此,超声波清洗装置具备被清洗物(11)、清洗液(12)、超声波振子(13)、振荡器(14)、电源部(16)以及功率计(15),振荡器(14)具有:振荡部(17);控制部(18),其进行控制以使得由振荡部(17)振荡产生的第1功率变为设定功率值并向超声波振子输出;检测部(19),其检测由控制部(18)向超声波振子(13)输出的第2功率;和运算部(20),运算部(20)具有如下功能:导出利用校正值α对第1检测功率值进行了校正的第1校正功率值,导出利用校正值β对由功率计(15)测定的测定功率值进行了校正的第2校正功率值,在第1校正功率值偏离了第2校正功率值规定值以上的情况下,将对校正值α进行了修正以使得第1校正功率值变为第2校正功率值的修正校正值α’记录到记录部(21)。

    超声波清洗装置以及超声波清洗方法

    公开(公告)号:CN102883828B

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201180022421.9

    申请日:2011-06-02

    CPC classification number: H01L21/02052 B08B3/12 H01L21/67057

    Abstract: 本发明提供能够抑制在对被清洗物进行超声波清洗之后产生清洗不均的超声波清洗装置以及超声波清洗方法。本发明的一个实施方式的特征在于,超声波清洗装置具备:清洗槽(21),其用于装入清洗液(23);第一超声波振子(34a)以及第二超声波振子(34b),它们向浸渍在所述清洗槽内的清洗液中的被清洗物(22)给予超声波振动;第一超声波振荡器(36),其向所述第一超声波振子施加高频输出;第二超声波振荡器(37),其向所述第二超声波振子施加高频输出;以及控制器(38),其进行控制来使所述第一超声波振荡器以及第二超声波振荡器的至少一方的输出变动,所述超声波清洗装置使从所述第一超声波振子发出的第一超声波与从所述第二超声波振子发出的第二超声波干涉。

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