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    发光分析装置
    2.
    发明授权
    发光分析装置 有权

    公开(公告)号：CN103562435B

    公开(公告)日：2014-07-30

    申请号：CN201280024650.9

    申请日：2012-05-22

    Applicant: 株式会社CREV

    Inventor： 山下真希 ,  水河启美

    IPC: G01J3/02 ,  C23C16/52 ,  C23C16/50 ,  G01J3/28 ,  G01N21/67 ,  H01L21/205 ,  H05H1/00

    CPC classification number: G01N21/255 ,  G01J3/443 ,  G01J2003/4435 ,  G01N21/274 ,  G01N21/66 ,  G01N2201/127 ,  H05H1/0037

    Abstract: 发光分析装置具备：作为第1光强度计算部的一例的等离子光强度计算部（120），通过将由分光计测器（200）计测的表示容器内的每个波长的光强度的分光光谱利用多项式近似，计算容器内的每个波长的光强度；作为第2光强度计算部的一例的分子光强度计算部（130），通过按每个波长从由上述分光计测器（200）计测的上述分光光谱所表示的光强度减去上述第1光强度计算部计算出的光强度，计算与分子或原子的亮线光谱对应的光强度；以及比计算部（140），使用第2光强度计算部计算出的光强度，计算第1分子的分子光谱或第1原子的原子光谱的峰值与第2分子的分子光谱或第2原子的原子光谱的峰值之比。

    发光分析装置
    3.
    发明公开
    发光分析装置 有权

    公开(公告)号：CN103562435A

    公开(公告)日：2014-02-05

    申请号：CN201280024650.9

    申请日：2012-05-22

    Applicant: 株式会社CREV

    Inventor： 山下真希 ,  水河启美

    IPC: C23C16/52 ,  C23C16/50 ,  G01J3/02 ,  G01J3/28 ,  G01N21/67 ,  H01L21/205 ,  H05H1/00

    CPC classification number: G01N21/255 ,  G01J3/443 ,  G01J2003/4435 ,  G01N21/274 ,  G01N21/66 ,  G01N2201/127 ,  H05H1/0037

    Abstract: 发光分析装置具备：作为第1光强度计算部的一例的等离子光强度计算部（120），通过将由分光计测器（200）计测的表示容器内的每个波长的光强度的分光光谱利用多项式近似，计算容器内的每个波长的光强度；作为第2光强度计算部的一例的分子光强度计算部（130），通过按每个波长从由上述分光计测器（200）计测的上述分光光谱所表示的光强度减去上述第1光强度计算部计算出的光强度，计算与分子或原子的亮线光谱对应的光强度；以及比计算部（140），使用第2光强度计算部计算出的光强度，计算第1分子的分子光谱或第1原子的原子光谱的峰值与第2分子的分子光谱或第2原子的原子光谱的峰值之比。

    PLASMA EVALUATION METHOD, PLASMA PROCESSING METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
    5.
    发明申请
    PLASMA EVALUATION METHOD, PLASMA PROCESSING METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS 审中-公开
    等离子体评估方法，等离子体处理方法和等离子体处理装置

    公开(公告)号：US20140227458A1

    公开(公告)日：2014-08-14

    申请号：US14112172

    申请日：2012-04-18

    Applicant: Takayuki Karakawa ,  Hirokazu Ueda

    Inventor： Takayuki Karakawa ,  Hirokazu Ueda

    IPC: G01J3/443 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52

    CPC classification number: G01J3/443 ,  C23C16/34 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  G01J2003/4435 ,  H01J37/32972 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/31111

    Abstract: Disclosed is a plasma evaluation method that evaluates plasma P that forms a nitride film by an atomic layer deposition method. First, light emission from the plasma P generated from a gas G that contains nitrogen atoms and hydrogen atoms is detected. Then, evaluation of the plasma P is performed by using a result of comparing an intensity ratio between a first peak caused by hydrogen atoms and a second peak different from the first peak and caused by hydrogen atoms in an intensity spectrum of the detected light emission with a reference value calculated in advance from a relationship between the intensity ratio and an indicator that indicates a film quality of the nitride film.

    Abstract translation: 公开了通过原子层沉积法评价形成氮化物膜的等离子体P的等离子体评价方法。 首先，检测从含有氮原子和氢原子的气体G产生的等离子体P的发光。 然后，使用比较由氢原子引起的第一峰与第一峰不同的第二峰与由检测出的发光的强度谱中的氢原子引起的强度比的结果来进行等离子体P的评价， 从强度比与表示氮化膜的膜质量的指标之间的关系预先计算出的基准值。

    Verfahren zur Bestimmung des Konzentrationsverhältnisses zweier Elemente eines Stoffs aus dem Intensitätsverhältnis zweier Spektrallinien dieser Elemente in einem Plasma dieses Stoffs
    9.
    发明公开
    Verfahren zur Bestimmung des Konzentrationsverhältnisses zweier Elemente eines Stoffs aus dem Intensitätsverhältnis zweier Spektrallinien dieser Elemente in einem Plasma dieses Stoffs 失效
    一种用于确定在该物质的等离子从这些元件的两个谱线的强度比的物质的两种元素的浓度比方法。

    公开(公告)号：EP0392337A2

    公开(公告)日：1990-10-17

    申请号：EP90106473.3

    申请日：1990-04-05

    Applicant: Fried. Krupp AG Hoesch-Krupp

    Inventor： Carlhoff, Christoph, Dr., Dipl.-Phys. ,  Lorenzen, Claus-Jürgen, Dr., Dipl.-Phys. ,  Nick, Klaus-Peter, Dr.rer.nat, Dipl.-Phys.

    IPC: G01N21/71 ,  G01N21/62

    CPC classification number: G01N21/62 ,  G01J2003/4435 ,  G01N21/718

    Abstract: Es wird ein Verfahren angegeben zur Bestimmung des Konzentrationsverhältnisses C ab zweier Elemte a, b eines Stoffes aus dem Intensitätsverhältnis I ab zweier Spektrallinien dieser Elemente in einem Plasma dieses Stoffes. In diesem Verfahren wird außer dem Intensitätsverhältnis I ab das Intensitätsverhältnis I c1,2 zweier Spektrallinien 1 und 2 eines Elemtes c mit den unterschiedlichen Anregungsenergien E1 und E2 gemessen und dann nach Gleichung 1 das Konzentrationsverhältnis C ab bestimmt. Die Konstante K wird vorher aus einem bekannten Konzentrationsverhältnis C′ ab der Elemente a und b eines vergleichbaren Stoffes und den zugehörigen im Plasmaspektrum gemessenen Intensitätsverhältnissen I′ ab und I′ c1,2 nach Gleichung 2 berechnet. Dabei ist ein eingeschränkter wertebereich für I ab , I′ c1,2 und C′ ab zu beachten.

    Abstract translation: 提供了一种方法用于确定性采矿两个元素的浓度比驾驶室，B从Iab的两个谱线的强度比的物质在所说的物质的等离子体的元件。 在该方法中，除了强度比Iab的，两个谱线1和元素的2的强度比Ic1,2 c。与不同的激发能量E1和E2被测量，并且浓度比驾驶室然后确定性使用等式1开采 常数K是事先从可比物质的元素a和b以及在使用等式2中的等离子体光谱测量的相关联的强度比I'ab和I'c1,2已知浓度的比率C'AB计算< IMAGE>在的Sametime，针对IAB，I'c1,2和C'AB值的受限范围shoulderstand牢记。

    Light emission analyzing device
    10.
    发明授权
    Light emission analyzing device 有权
    发光分析装置

    公开(公告)号：US08781793B2

    公开(公告)日：2014-07-15

    申请号：US14119487

    申请日：2012-05-22

    Applicant: Masaki Yamashita ,  Hiromi Mizukawa

    Inventor： Masaki Yamashita ,  Hiromi Mizukawa

    IPC: G01K11/30 ,  G01B5/02 ,  G01B5/14 ,  G01B7/02 ,  G01B7/14 ,  G01B11/02 ,  G01B11/14 ,  G01B13/02 ,  G01C22/00 ,  G01J3/00 ,  G01B9/02

    CPC classification number: G01N21/255 ,  G01J3/443 ,  G01J2003/4435 ,  G01N21/274 ,  G01N21/66 ,  G01N2201/127 ,  H05H1/0037

    Abstract: The light emission analyzing device includes: a first light intensity calculation unit that performs polynomial approximation on a spectroscopic spectrum indicating a light intensity for each wavelength in a container as measured by a spectrometer so as to calculate the light intensity; a second light intensity calculation unit that subtracts, for each wavelength, the light intensity calculated by the first light intensity calculation unit from the light intensity indicated by the spectroscopic spectrum measured by the spectrometer so as to calculate a light intensity corresponding to a bright-line spectrum of a molecule; and a ratio calculation unit that calculates, by using the light intensity calculated by the second light intensity calculation unit, a ratio between (a) a peak value of a molecular spectrum of a first molecule and (b) a peak value of a molecular spectrum of a second molecule.

    Abstract translation: 发光分析装置包括：第一光强度计算单元，对通过光谱仪测定的表示容器内的各波长的光强度的分光光谱进行多项式近似，以计算光强度; 第二光强度计算单元，对于每个波长，从由所述光谱仪测量的所述光谱所指示的光强度中减去由所述第一光强度计算单元计算的光强度，以计算对应于亮线的光强度 分子光谱; 以及比率计算单元，其通过使用由第二光强计算单元计算的光强度，计算（a）第一分子的分子光谱的峰值与（b）分子光谱的峰值之间的比率 的第二分子。

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